石墨烯材料的制备方法、石墨烯材料及其应用技术

本发明专利技术公开了石墨烯材料的制备方法、石墨烯材料及其应用，涉及石墨烯技术领域。石墨烯材料的制备方法包括：以羧甲基壳聚糖为原料，采用激光诱导的方法进行制备。通过以羧甲基壳聚糖为原料，采用激光诱导的方法制备石墨烯材料，相对于现有的两种富含碳的材料进行制备的方法具备以下优点：(1)原料可生物相容、可生物降解，不会对环境造成污染；(2)不需要任何化学处理，如不需要阻燃处理；(3)易于成膜，应用范围广泛；(4)由于石墨烯材料优异的导电导热性能，还可以在芯片三维集成、先进封装材料制备、5G射频芯片封装等领域得到应用。5G射频芯片封装等领域得到应用。5G射频芯片封装等领域得到应用。

【技术实现步骤摘要】
石墨烯材料的制备方法、石墨烯材料及其应用


[0001]本专利技术涉及石墨烯
，具体而言，涉及石墨烯材料的制备方法、石墨烯材料及其应用。

技术介绍

[0002]石墨烯(Graphene)是一种二维层状结构的碳材料，是块状石墨晶体经过一定处理后得到的单层石墨片，由英国曼彻斯特大学物理学家Andre.K.Geim和他的学生Konstantin.S.Novoselov于2004年通过机械剥离法首次发现。它的结构由具有sp2杂化的碳原子组成，呈现出含正六边形的蜂窝状二维平面，结构中碳原子的连接方式与零维富勒烯、一维碳纳米管和三维石墨等碳材料是相同的。石墨烯中的C
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C键长约为0.142nm，单层石墨烯厚度约为0.35nm。由于石墨烯具有独特的二维平面结构，其在电学、热学、光学和力学等方面具有十分优异的性能，也使得它在电子信息、航空航天、节能环保、生物医学、储能设备、能源与热管理等各个方面都具有十分广阔的前景，被称之为“新材料之王”。严格意义上的石墨烯是单层结构，但是在实际应用中，少层石墨烯也经常表现出优异的工程性能，因此，行业内的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种石墨烯材料的制备方法，其特征在于，包括：以羧甲基壳聚糖为原料，采用激光诱导的方法制备所述石墨烯材料。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，采用激光器直接对羧甲基壳聚糖进行诱导还原。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，包括：将羧甲基壳聚糖制备成膜状样品，采用激光器对所述膜状样品进行诱导还原。4.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所述激光器为红外激光器；优选地，所述激光器采用红外激光器中的二氧化碳激光器，并控制步进速度为25
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35mm/s，步进像素为1
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5。5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述膜状样品的制备过程包括：将羧甲基壳聚糖与溶剂混合溶解得到制膜溶液，然后对所述制膜溶液依次进行去泡处理、涂覆和干燥成膜。6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述膜状样品的制备过程包括：将羧甲基壳聚糖、添加物和溶剂混合得到制膜溶液，然后对所述制膜溶液依次进行去泡处理、涂覆和干燥成膜；其中，所述添加物选自焦炭、木炭、石墨、石墨烯氧化物、纤维素和木质素中的至少一种。7.根据权利要求5或6所述的制备方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄乾明，叶怀宇，刘旭，檀春健，
申请(专利权)人：南方科技大学，
类型：发明
国别省市：