清洁基站、清洁设备及清洁系统技术方案

技术编号:33447412 阅读:29 留言:0更新日期:2022-05-19 00:32
本申请实施例提供的清洁基站、清洁设备及清洁系统,其中清洁设备能够对接至清洁基站,清洁设备包括主机壳体;定位机构设于清洁基站和主机壳体之间,定位机构能够在第一状态和第二状态之间切换;在第一状态下,定位机构在主机壳体与清洁基站之间施加预设作用力,以使清洁设备维持在与清洁基站对接的预设对接位置;在第二状态下,清洁设备能够与清洁基站相分离。本申请所提供的技术方案,能够实现清洁设备与清洁基站的可靠定位,能够改善清洁设备在对接至清洁基站上进行自清洁时,容易发生抖动的问题。的问题。的问题。

【技术实现步骤摘要】
清洁基站、清洁设备及清洁系统


[0001]本申请涉及清洁设备结构设计
,尤其涉及一种清洁基站、清洁设备及清洁系统。

技术介绍

[0002]市面上越来越多的清洁机器人,通过与清洁基站配合,能够实现抹布等清洁部件的自清洁。当清洁设备与清洁基站对接时,清洁设备可以进行自清洁,在自清洁过程中,通常需要对清洁设备上的抹布、滚刷等清洁部件进行刮擦操作,例如利用刮条刮下清洁部件上的污水,在该过程中,清洁部件会向主机传递较大的作用力,使得清洁设备会相对于清洁基站发生不规则地抖动,造成较大异响,甚至影响清洁设备的使用寿命。

技术实现思路

[0003]鉴于上述问题,提出了本申请以解决上述问题或至少部分地解决上述问题的清洁基站、清洁设备及清洁系统。
[0004]本申请实施例第一方面提供一种清洁系统,包括:
[0005]清洁基站;
[0006]清洁设备,所述清洁设备能够对接至所述清洁基站,所述清洁设备包括主机壳体;
[0007]定位机构,设于所述清洁基站和所述主机壳体之间,所述定位机构能够在第一状态和第二状态之间切本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洁系统,其特征在于,包括:清洁基站;清洁设备,所述清洁设备能够对接至所述清洁基站,所述清洁设备包括主机壳体;定位机构,设于所述清洁基站和所述主机壳体之间,所述定位机构能够在第一状态和第二状态之间切换;在所述第一状态下,所述定位机构在所述主机壳体与清洁基站之间施加预设作用力,以使所述清洁设备维持在与所述清洁基站对接的预设对接位置;在所述第二状态下,所述清洁设备能够与所述清洁基站相分离。2.根据权利要求1所述的清洁系统,其特征在于,所述定位机构设于所述清洁基站,在所述第一状态下,所述定位机构用于对所述主机壳体的侧部施加所述预设作用力。3.根据权利要求2所述的清洁系统,其特征在于,所述清洁基站包括底壁和侧壁,所述定位机构设于所述侧壁;所述定位机构包括至少两个,至少两个所述定位机构分别对称设于所述侧壁的至少两个相对部分。4.根据权利要求1所述的清洁系统,其特征在于,所述清洁系统还包括:检测装置,用于检测所述清洁设备是否相对于所述清洁基站对接到位;控制装置,与所述检测装置及所述定位机构电连接;当所述检测装置检测到所述清洁设备已对接至所述清洁基站的预设对接位置时,所述控制装置控制所述定位机构处于所述第一状态。5.根据权利要求4所述的清洁系统,其特征在于,所述清洁基站与所述清洁设备通信连接,在所述控制装置接收到所述清洁设备脱离所述清洁基站的指令时,所述控制装置控制所述定位机构切换至所述第二状态。6.根据权利要求4所述的清洁系统,其特征在于,所述定位机构包括固定部和施力部,所述固定部固定于所述清洁基站,所述施力部能够在第一位置和第二位置之间运动;当所述施力部位于所述第一位置时,所述定位机构处于所述第一状态;当所述施力部位于所述第二位置时,所述定位机构处于所述第二状态。7.根据权利要求6所述的清洁系统,其特征在于,所述清洁基站包括底壁和侧壁,所述固定部位于所述侧壁的外侧,在所述侧壁上具有供所述施力部穿过的贯穿孔,所述施力部能够穿过所述贯穿孔从所述侧壁的内侧伸入所述容纳腔。8.根据权利要求6所述的清洁系统,其特征在于,所述预设作用力包括抵顶力,当所述施力部位于所述第一位置时,所述施力部与所述清洁设备的主机壳体抵顶接触;当所述施力部位于所述第二位置时,所述施力部脱离所述清洁设备的主机壳体;或者,当所述施力部位于所述第一位置时,所述施力部对所述清洁设备的主机壳体施加第一抵顶力,当所述施力部位于所述第二位置时,所述施力部对所述清洁设备的主机壳体施加第二抵顶力;其中,所述第一抵顶力大于所述第二抵顶力。9.根据权利要求6所述的清洁系统,其特征在于,所述定位机构还包括第一驱动部,所述控制装置具体与所述第一驱动部连接;所述第一驱动...

【专利技术属性】
技术研发人员:郭豹程文杰
申请(专利权)人:科沃斯机器人股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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