图案形成方法、感光性树脂组合物、层叠体的制造方法及半导体器件的制造方法技术

本发明专利技术提供一种所获得的图案的形状优异的图案形成方法、用于上述图案形成方法的感光性树脂组合物、包括上述图案形成方法的层叠体的制造方法及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法。图案形成方法包括：第一区域曝光工序，对由感光性树脂组合物构成的感光膜的一部分区域即第一区域进行选择性曝光；第二区域曝光工序，对第二区域进行选择性曝光；及显影工序，对上述第二区域曝光工序后的感光膜进行显影，包含在上述第一区域中的至少一部分区域和包含在上述第二区域中的至少一部分区域为共同区域，上述感光性树脂组合物包含特定的树脂及感光剂。树脂及感光剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图案形成方法、感光性树脂组合物、层叠体的制造方法及半导体器件的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种图案形成方法、感光性树脂组合物、层叠体的制造方法及半导体器件的制造方法。

技术介绍

[0002]聚酰亚胺、聚苯并噁唑等树脂的耐热性及绝缘性等优异，因此可用于各种用途。作为上述用途并没有特别限定，但若以实际安装用半导体器件为例，则可举出将包含这些树脂的图案用作绝缘膜或密封材料的材料或保护膜的情况。并且，包含这些树脂的图案也用作挠性基板的基底膜或覆盖膜等。
[0003]例如在上述用途中，聚酰亚胺、聚苯并噁唑等树脂以包含这些树脂或其前体的感光性树脂组合物的方式使用。
[0004]例如通过涂布等将这种感光性树脂组合物适用于基材上，之后根据需要进行曝光、显影、加热等，由此能够在基材上形成固化的树脂。
[0005]能够通过公知的涂布方法等适用感光性树脂组合物，因此，可以说例如所适用的感光性树脂组合物的形状、大小、适用位置等设计的自由度高等制造上的适应性优异。从除了聚酰亚胺、聚苯并噁唑等所具有的高性能以外，这种制造上的适应性优异的观点考虑，越发期待包含这些树脂的感光性树脂组合物在产业上的应用拓展。
[0006]例如，专利文献1中记载有一种感光性树脂组合物的固化方法，其特征在于对由聚苯并噁唑前体和重氮醌构成的感光性树脂组合物进行曝光、显影并制作图案之后，进一步进行整体曝光并固化。
[0007]以往技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1：日本特开平9
‑<br/>146273号公报

技术实现思路

[0010]专利技术要解决的技术课题
[0011]以往，将包含聚酰亚胺或聚苯并噁唑、这些的前体的感光性树脂组合物适用于基材并进行曝光显影，之后根据需要加热而形成图案。
[0012]在上述图案的形成中，期望提供一种所获得的图案的形状优异的图案形成方法。
[0013]本专利技术的目的在于提供一种所获得的图案的形状优异的图案形成方法、用于上述图案形成方法的感光性树脂组合物、包括上述图案形成方法的层叠体的制造方法及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法。
[0014]用于解决技术课题的手段
[0015]以下，示出本专利技术的代表性实施方式的例子。
[0016]＜1＞一种图案形成方法，其包括：
[0017]第一区域曝光工序，对由感光性树脂组合物构成的感光膜的一部分区域即第一区域进行选择性曝光；
[0018]第二区域曝光工序，对上述第一区域曝光工序后的感光膜的一部分区域即第二区域进行选择性曝光；及
[0019]显影工序，对上述第二区域曝光工序后的感光膜进行显影，
[0020]包含在上述第一区域中的至少一部分区域和包含在上述第二区域中的至少一部分区域为共同区域，
[0021]上述感光性树脂组合物包含选自聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑及聚苯并噁唑前体中的至少1种树脂、以及感光剂。
[0022]＜2＞如＜1＞所述的图案形成方法，其包括：
[0023]第三区域曝光工序，对上述第二区域曝光工序后的感光膜的一部分区域即第三区域进行选择性曝光；及
[0024]第四区域曝光工序，对上述第三区域曝光工序后的感光膜的一部分区域即第四区域进行选择性曝光，
[0025]上述显影工序为对上述第四区域曝光工序后的感光膜进行显影的工序，包含在上述第三区域中的至少一部分区域和包含在上述第一区域、上述第二区域及上述第四区域中的任一个区域中的至少一部分区域为共同区域，且包含在上述第四区域中的至少一部分区域和包含在上述第一区域、上述第二区域及上述第三区域中的任一个区域中的至少一部分区域为共同区域。
[0026]＜3＞如＜1＞或＜2＞所述的图案形成方法，其中，
[0027]包括在上述显影工序之前的对感光膜的一部分区域进行曝光的工序中，作为某一曝光工序的结束至另一曝光工序的开始为止的时间且不包括其他曝光工序的时间为0.1秒以上。
[0028]＜4＞如＜1＞至＜3＞中任一项所述的图案形成方法，其中，
[0029]上述第一区域曝光工序及上述第二区域曝光工序中的曝光波长为300nm～450nm。
[0030]＜5＞如＜1＞至＜4＞中任一项所述的图案形成方法，其中，
[0031]由上述感光性树脂组合物构成的感光膜的膜厚为10μm以上。
[0032]＜6＞如＜1＞至＜5＞中任一项所述的图案形成方法，其中，
[0033]将有机溶剂用作显影液来进行上述显影工序中的显影。
[0034]＜7＞如＜1＞至＜6＞中任一项所述的图案形成方法，其中，
[0035]包含在上述第一区域及上述第二区域这两者中的区域的面积相对于上述第一区域的总面积的比例为50％～100％。
[0036]＜8＞如＜1＞至＜7＞中任一项所述的图案形成方法，其中，
[0037]上述树脂为聚酰亚胺前体。
[0038]＜9＞如＜1＞至＜8＞中任一项所述的图案形成方法，其中，
[0039]上述树脂具有自由基聚合性基团。
[0040]＜10＞如＜1＞至＜9＞中任一项所述的图案形成方法，其中，
[0041]上述感光性树脂组合物进一步包含自由基交联剂。
[0042]＜11＞如＜1＞至＜10＞中任一项所述的图案形成方法，其中，
[0043]上述感光性树脂组合物进一步包含敏化剂。
[0044]＜12＞一种感光性树脂组合物，其用于形成＜1＞至＜11＞中任一项所述的图案形成方法中的上述感光膜。
[0045]＜13＞一种层叠体的制造方法，其包括＜1＞至＜11＞中任一项所述的图案形成方法。
[0046]＜14＞一种电子器件的制造方法，其包括＜1＞至＜11＞中任一项所述的图案形成方法或＜13＞所述的层叠体的制造方法。
[0047]专利技术效果
[0048]根据本专利技术，提供一种所获得的图案的形状优异的图案形成方法、用于上述图案形成方法的感光性树脂组合物、包括上述图案形成方法的层叠体的制造方法及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法。
具体实施方式
[0049]以下，对本专利技术的主要实施方式进行说明。然而，本专利技术并不限于所明示的实施方式。
[0050]在本说明书中利用“～”记号表示的数值范围表示将记载于“～”的前后的数值分别作为下限值及上限值包括的范围。
[0051]在本说明书中“工序”这一术语不仅表示独立的工序，只要能够实现该工序的所需作用，则也表示包括无法与其他工序明确区分的工序。
[0052]关于本说明书中的基团(原子团)的标记，未标注经取代及未经取代的标记同时包括不具有取代基的基团(原子团)和具有取代基的基团(原子团)。例如，“烷基”不仅包括不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，还包括具有取代基的烷基(取代烷基)。
[0053]在本说明书中，“曝光”只要没有特别说明，除了利用光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种图案形成方法，其包括：第一区域曝光工序，对由感光性树脂组合物构成的感光膜的一部分区域即第一区域进行选择性曝光；第二区域曝光工序，对所述第一区域曝光工序后的感光膜的一部分区域即第二区域进行选择性曝光；及显影工序，对所述第二区域曝光工序后的感光膜进行显影，包含在所述第一区域中的至少一部分区域和包含在所述第二区域中的至少一部分区域为共同区域，所述感光性树脂组合物包含选自聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑及聚苯并噁唑前体中的至少1种树脂、以及感光剂。2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其包括：第三区域曝光工序，对所述第二区域曝光工序后的感光膜的一部分区域即第三区域进行选择性曝光；及第四区域曝光工序，对所述第三区域曝光工序后的感光膜的一部分区域即第四区域进行选择性曝光，所述显影工序为对所述第四区域曝光工序后的感光膜进行显影的工序，包含在所述第三区域中的至少一部分区域和包含在所述第一区域、所述第二区域及所述第四区域中的任一个区域中的至少一部分区域为共同区域，且包含在所述第四区域中的至少一部分区域和包含在所述第一区域、所述第二区域及所述第三区域中的任一个区域中的至少一部分区域为共同区域。3.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其中，包括在所述显影工序之前的对感光膜的一部分区域进行曝光的工序中，作为某一曝光工序的结束至另一曝光工序的开始为止的时间且不包括其他曝光工序的时间为0.1秒以...

【专利技术属性】
技术研发人员：榎本雄一郎，中村敦，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：