一种TiAlMeN-TiAlN纳米多层结构涂层及其制备方法与用途技术

本发明专利技术涉及—种TiAlMeN

【技术实现步骤摘要】
一种TiAlMeN
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TiAlN纳米多层结构涂层及其制备方法与用途


[0001]本专利技术属于涂层领域，具体涉及一种TiAlMeN
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TiAlN纳米多层结构涂层及其制备方法与用途。

技术介绍

[0002]随着刀具切削加工技术的快速发展，需求量以年均30％以上的速度增加。人们对刀具的材料和性能提出更高的要求，要求具备高硬度、高耐磨性、高韧性和高精度等性能，其中，通过物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)等技术在刀具表面沉积涂层已成为现代切削刀具发展的重要方向，涂层作为硬质合金切削工具的重要组成部分，和基体、槽型一起紧密关系到刀具的使用性能，稳定的涂层可以显著提升切削工具的使用寿命和加工效率。
[0003]TiN涂层是应用最早和最广泛的刀具涂层材料，在TiN涂层的基础上，人们又开发出了具有高硬度、高耐磨性及抗高温氧化的性能更为优良的TiAlN刀具涂层，大大提高了刀具的切削性能及使用寿命。CN102321873A公开了一种TiAlN涂层硬质合金刀片，采用低温物理气相沉积(PVD)法涂覆高硬度的TiA本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种TiAlMeN
‑
TiAlN纳米多层结构涂层，其特征在于，所述涂层为依次沉积的周期性涂层单元，所述周期性涂层单元包括TiAlMeN层、TiAlN层和两层过渡层，其中一层过渡层设置在所述TiAlMeN层和TiAlN层之间；所述TiAlMeN层中Me包括Zr、Hf、V、Ta、Nb、Cr、W、Mn、Mo或Si中的任意一种或至少两种组合；所述过渡层的化学式为Ti
x2
Al
y2
Me
(1
‑
x2
‑
y2)
N，其中0.3≤x2≤0.5，0.45≤y2≤0.7，0.01≤1
‑
x2
‑
y2≤0.1。2.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于，所述TiAlMeN层的化学式为Ti
x1
Al
y1
Me
(1
‑
x1
‑
y1)
N，其中0.3≤x1≤0.5，0.4≤y1≤0.6，0.03≤1
‑
x1
‑
y1≤0.2；优选地，所述TiAlMeN层的Me含量与所述过渡层的Me含量比为2≤(1
‑
x1
‑
y1)/(1
‑
x2
‑
y2)≤3。3.根据权利要求1或2所述的涂层，其特征在于，所述TiAlN层的化学式为Ti
z
Al
(1
‑
z)
N，其中0.3≤z≤0.5。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的涂层，其特征在于，所述TiAlMeN层的厚度为3
‑
15nm；优选地，所述TiAlN层的厚度为2.7
‑
14nm；优选地，所述过渡层的厚度为0.3
‑
1.5nm。5.根据权利要求1

【专利技术属性】
技术研发人员：许荣杰，吴玉美，赵晓晓，刘赟杰，刘超，刘伯路，林亮亮，
申请(专利权)人：厦门金鹭特种合金有限公司，
类型：发明
国别省市：