微晶玻璃和化学强化玻璃制造技术

本发明专利技术涉及一种微晶玻璃，其中，以氧化物基准的摩尔％计，所述微晶玻璃含有：65％～75％的SiO2、3％～6％的Al2O3、15％～25％的Li2O和0.01％～0.5％的HfO2，并且所述微晶玻璃含有晶体。璃含有晶体。璃含有晶体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】微晶玻璃和化学强化玻璃


[0001]本专利技术涉及微晶玻璃和化学强化玻璃。

技术介绍

[0002]在便携终端的保护玻璃等中使用化学强化玻璃。对于化学强化玻璃而言，例如使玻璃与含有碱金属离子的熔融盐接触，使玻璃中的碱金属离子与熔融盐中的碱金属离子之间发生离子交换，在玻璃表面形成压应力层。
[0003]微晶玻璃是在玻璃中析出晶体的玻璃，与不含晶体的非晶玻璃相比较硬，不易损伤。另外，与非晶玻璃相比，能够进行化学强化的微晶玻璃能够在防止破碎的同时实现高强度。但是，以往的微晶玻璃与非晶玻璃相比大多透明性不充分。
[0004]另一方面，即使是透明的玻璃，有时由于紫外线等的影响使得过渡金属离子、稀土离子等多价阳离子的价态改变而玻璃的颜色发生变化、即所谓的日晒(
ソラリゼーション
)导致透明性降低。
[0005]在专利文献1中记载了对微晶玻璃进行离子交换处理而进行化学强化的例子。在专利文献2中记载了在玻璃制造时使用SnO2进行澄清并利用氧化气体进行鼓泡来防止玻璃的日晒的方法。在专利文献3中记载了使玻璃中含有少量的Fe2O3和TiO2或ZrO2来抑制日晒的方法。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：国际公开第2019/167850号
[0009]专利文献2：日本特表2015
‑
508385号公报
[0010]专利文献3：国际公开第2017/026450号

技术实现思路

[0011]专利技术所要解决的问题
[0012]化学强化玻璃在用于显示器等时进行各种前处理。作为其中之一，有时通过使用低压汞灯的短波长侧的UV照射来进行玻璃表面的有机物的除去、表面改性。根据本专利技术人的研究，通过这样的UV的照射，有时玻璃的特定的波长区域中的透射率降低。
[0013]本专利技术的目的在于提供透明性和化学强化特性优异、并且UV耐性优异的微晶玻璃。另外，本专利技术的目的在于提供透明性和UV耐性优异的化学强化玻璃。
[0014]用于解决问题的手段
[0015]本专利技术涉及一种微晶玻璃，其中，以氧化物基准的摩尔％计，所述微晶玻璃含有：
[0016]65％～75％的SiO2、
[0017]3％～6％的Al2O3、
[0018]15％～25％的Li2O、和
[0019]0.01％～0.5％的HfO2，
[0020]并且所述微晶玻璃含有晶体。
[0021]以氧化物基准的摩尔％计，本专利技术的微晶玻璃优选含有：
[0022]65％～73％的SiO2、
[0023]3％～6％的Al2O3、
[0024]17％～23％的Li2O、和
[0025]0.015％～0.3％的HfO2。
[0026]在本专利技术的微晶玻璃中，优选上述晶体含有选自由β锂辉石晶体、透锂长石晶体和锂霞石晶体构成的组中的一种以上的晶体。
[0027]在本专利技术的微晶玻璃中，所述微晶玻璃的换算成厚度0.7mm时的光透射率在波长380nm到780nm的范围内优选为85％以上。
[0028]在本专利技术的微晶玻璃中，所述微晶玻璃的杨氏模量优选为85GPa以上。
[0029]本专利技术涉及一种化学强化玻璃，其中，以氧化物基准的摩尔％计，所述化学强化玻璃含有：
[0030]65％～75％的SiO2、
[0031]3％～6％的Al2O3、
[0032]15％～25％的Li2O、和
[0033]0.01％～0.5％的HfO2，并且
[0034]所述化学强化玻璃含有晶体。
[0035]以氧化物基准的摩尔％计，所述化学强化玻璃优选含有：
[0036]65％～73％的SiO2、
[0037]3％～6％的Al2O3、
[0038]17％～23％的Li2O、和
[0039]0.015％～0.3％的HfO2。
[0040]在本专利技术的化学强化玻璃中，优选上述晶体含有选自由β
‑
锂辉石晶体、透锂长石晶体和锂霞石晶体构成的组中的一种以上晶体。
[0041]在本专利技术的化学强化玻璃中，所述化学强化玻璃的换算成厚度0.7mm时的光透射率在波长380nm到780nm的范围内优选为85％以上。
[0042]在本专利技术的化学强化玻璃中，所述化学强化玻璃的表面压应力值优选为100MPa以上，压应力层深度优选为100μm以上，并且中央拉应力值优选为130MPa以下。
[0043]专利技术效果
[0044]本专利技术提供透明性和化学强化特性优异、并且UV耐性优异的微晶玻璃。另外，本专利技术提供透明性和UV耐性优异的化学强化玻璃。
附图说明
[0045]图1为示出微晶玻璃A和微晶玻璃B的UV受激吸收(誘導吸収)光谱的图。
[0046]图2为示出非晶玻璃A和非晶玻璃B的UV受激吸收光谱的图。
[0047]图3为示出微晶玻璃A和微晶玻璃B的UV照射前的透射率的图。
[0048]图4为示出非晶玻璃A和非晶玻璃B的UV照射前的透射率的图。
[0049]图5为示出微晶玻璃A和微晶玻璃B的UV照射后的透射率的图。
[0050]图6为示出非晶玻璃A和非晶玻璃B的UV照射后的透射率的图。
[0051]图7为示出微晶玻璃C的UV受激吸收光谱的图。
[0052]图8为示出微晶玻璃C的UV照射前的透射率的图。
[0053]图9为示出微晶玻璃C的UV照射后的透射率的图。
具体实施方式
[0054]在本说明书中，只要没有特别规定，表示数值范围的“～”以包含其前后记载的数值作为下限值和上限值的含义使用。
[0055]在本说明书中，“非晶玻璃”是指通过后述的粉末X射线衍射法没有观察到表示晶体的衍射峰的玻璃。“微晶玻璃”是对“非晶玻璃”进行加热处理而使晶体析出的玻璃，微晶玻璃含有晶体。在本说明书中，有时将“非晶玻璃”和“微晶玻璃”统称为“玻璃”。另外，有时将通过加热处理变为微晶玻璃的非晶玻璃称为“微晶玻璃的基质玻璃”。
[0056]在本说明书中，利用粉末X射线衍射法的测定通过下述方法进行。即，使用CuKα射线测定2θ为10
°
～80
°
的范围，在出现表示晶体的衍射峰的情况下，通过哈纳瓦尔(Hanawalt)法鉴定析出的晶体。另外，将通过该方法鉴定的晶体中的由包含积分强度最高的峰的峰组鉴定的晶体作为主晶体。
[0057]在下述中，“化学强化玻璃”是指实施了化学强化处理后的玻璃，“化学强化用玻璃”是指实施化学强化处理前的玻璃。
[0058]在本说明书中，有时将以从化学强化玻璃表面起算的深度作为变量表示压应力值的图称为“应力分布”。在本说明书中，“表面压应力值(CS)”是指化学强化玻璃的最外表面的压应力值。另外，“压应力层深度(DOC)”是指压应力值为零时的深度。负的压应力值是指拉应力。另外本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种微晶玻璃，其中，以氧化物基准的摩尔％计，所述微晶玻璃含有：65％～75％的SiO2、3％～6％的Al2O3、15％～25％的Li2O、和0.01％～0.5％的HfO2，并且所述微晶玻璃含有晶体。2.如权利要求1所述的微晶玻璃，其中，以氧化物基准的摩尔％计，所述微晶玻璃含有：65％～73％的SiO2、3％～6％的Al2O3、17％～23％的Li2O、和0.015％～0.3％的HfO2。3.如权利要求1或2所述的微晶玻璃，其中，所述晶体含有选自由β
‑
锂辉石晶体、透锂长石晶体和锂霞石晶体构成的组中的一种以上晶体。4.如权利要求1～3中任一项所述的微晶玻璃，其中，所述微晶玻璃的换算成厚度0.7mm时的光透射率在波长380nm到780nm的范围内为85％以上。5.如权利要求1～4中任一项所述的微晶玻璃，其中，所述微晶玻璃的杨氏模量为85GPa以上。6.一种化学强化玻璃，其中，以氧化物基准的摩尔％计，所述化学强化...

【专利技术属性】
技术研发人员：大原盛辉，李清，秋叶周作，
申请(专利权)人：AGC株式会社，
类型：发明
国别省市：