用于暗场;相衬和衰减干涉成像系统的探测器技术方案

技术编号:33367430 阅读:31 留言:0更新日期:2022-05-11 22:29
本发明专利技术涉及一种用于暗场和/或相衬干涉成像系统的探测器(10)。探测器包括多个像素(50)、多个第一探测器阵列(20)、多个第二探测器阵列(30)和处理单元(40)。多个像素以二维图案被布置。每个像素包括第一探测器阵列和第二探测器阵列。每个第一探测器阵列包括多个指状物(22)。每个第二探测器阵列包括多个指状物(32)。针对每个像素,第一探测器阵列的指状物与第二探测器阵列的指状物交替交错。针对每个像素,与入射X射线光子的相互作用可以导致在该像素的第一探测器阵列的至少一个指状物中的电荷生成,并且可以导致在该像素的第二探测器阵列的至少一个指状物中的电荷生成。针对每个像素,第一探测器阵列被配置为探测与第一探测器阵列的多个指状物相关联的累积电荷,并且第二探测器阵列被配置为探测与第二探测器阵列的多个指状物相关联的累积电荷。针对每个像素,处理单元被配置为基于具有最高累积电荷的探测器阵列将X射线相互作用事件分配给第一探测器阵列或第二探测器阵列。测器阵列或第二探测器阵列。测器阵列或第二探测器阵列。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于暗场;相衬和衰减干涉成像系统的探测器


[0001]本专利技术涉及一种用于暗场和/或相衬干涉成像系统并且也可用于衰减图像数据采集的探测器,并且涉及具有这种探测器的X射线成像系统。

技术介绍

[0002]基于光栅的暗场X射线(DAX)和相衬(gbPC)X射线成像(射线照相和计算机断层摄影)是新的X射线成像模态,从而提供线性衰减系数、电子密度和小角度散射(即从暗场信号获得的图像)的同时图像。还可以同时采集线性衰减系数,并且因此可以确定暗场、相衬和衰减图像。X射线暗场和相衬是两种新的成像模态,其已经示出显著增加软组织成像的诊断准确性的潜力。已经被识别为可能从这两种新的成像模态中最大受益的领域之一是胸部射线照相。例如,已经示出了X射线暗场信息可以显著帮助诊断诸如慢性阻塞性肺病(COPD)或肺纤维化、肺癌等的肺部疾病。
[0003]为了采集这些新的成像模态,两个(Talbot型)或三个光栅(Talbot

Lau型)干涉仪被引入到X射线射束中,通常称为G0、G1和G2光栅。图3示出了示例系统,其中,通常G0和G2是吸收光栅,而本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于暗场和/或相衬干涉成像系统的探测器(10),所述探测器包括:

多个像素(50);

多个第一探测器阵列(20);

多个第二探测器阵列(30);以及

处理单元(40);其中,所述多个像素以二维图案被布置;其中,每个像素包括第一探测器阵列和第二探测器阵列;其中,每个第一探测器阵列包括多个指状物(22);其中,每个第二探测器阵列包括多个指状物(32);其中,针对每个像素,所述第一探测器阵列的所述指状物与所述第二探测器阵列的所述指状物交替地交错;其中,针对每个像素,与入射X射线光子的相互作用能够导致在该像素的所述第一探测器阵列的至少一个指状物中的电荷生成,并且能够导致在该像素的所述第二探测器阵列的至少一个指状物中的电荷生成;其中,针对每个像素,所述第一探测器阵列被配置为探测与所述第一探测器阵列的所述多个指状物相关联的累积电荷,并且所述第二探测器阵列被配置为探测与所述第二探测器阵列的所述多个指状物相关联的累积电荷;并且其中,针对每个像素,所述处理单元被配置为基于具有最高累积电荷的探测器阵列将X射线相互作用事件分配给所述第一探测器阵列或所述第二探测器阵列。2.根据权利要求1所述的探测器,其中,针对每个像素,所述处理单元被配置为基于具有最高累积电荷的探测器阵列将由所述第一探测器阵列探测到的所述累积电荷和由所述第二探测器阵列探测到的所述累积电荷分配给所述第一探测器阵列或所述第二探测器阵列。3.根据权利要求1

2中的任一项所述的探测器,其中,直接转换基板与每个像素相关联。4.根据权利要求1

3中的任一项所述的探测器,其中,所述处理单元被配置为当由所述第一探测器阵列探测到的所述累积电荷与由所述第二探测器阵列探测到的所述累积电荷之间的差异大于阈值时,将所述X射线相互作用事件分配给所述第一探测器阵列或所述第二探测器阵列。5.根据权利要求1

4中的任一项所述的探测器,其中,所述处理单元被配置为当由所述第一探测器阵列探测到的所述累积电荷与由所述第二探测器阵列探测到的所述累积电荷之间的差异大于阈值时,将由所述第一探测器阵列探测到的所述累积电荷和由所述第二探测器阵列探测到的所述累积电荷分配给所述第一探测器阵列或所述第二探测器阵列。6.根据权利要求4

5中的任一项所述的探测器,其中,所述处理单元被配置为当由所...

【专利技术属性】
技术研发人员:T
申请(专利权)人:皇家飞利浦有限公司
类型:发明
国别省市:

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