用于DAX光栅的稳定顶部桥制造制造技术

为了改进用于X射线暗场成像和/或X射线相衬成像的具有顶部桥的X射线光栅的机械稳定性，提出了通过制造过程的变化来减少或防止顶部桥上的不期望的高应力。具体地，提出了在弯曲之后对顶部桥进行电镀。换言之，在弯曲的几何结构上执行对顶部桥的电镀。何结构上执行对顶部桥的电镀。何结构上执行对顶部桥的电镀。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于DAX光栅的稳定顶部桥制造


[0001]本专利技术涉及用于产生成像装置的X射线光栅的方法，所述成像装置用于X射线暗场成像和/或X射线相衬成像。本专利技术还涉及一种由所述方法产生的微结构、一种成像装置、一种执行X射线相衬和/或暗场成像的方法。

技术介绍

[0002]基于光栅的相衬和暗场X射线(DAX)成像是例如在乳房摄影、胸部放射摄影和计算机断层摄影(CT)的领域中增强X射线装备的诊断质量的有前景的技术。基于该技术来构建临床系统的最具挑战性的问题之一是光栅的制造。具体地，源光栅G0和吸收光栅G2可以要求在超过200μm的黄金高度具有大约几μm到几十μm的间距的光栅结构以便实现跨X射线管的整个光谱的充分衰减，尤其是在该管提供在高于30到40keV的能量范围内的光子的情况下。
[0003]通过光刻制造的聚合物结构(抗蚀剂结构)可以用于通过用强X射线吸收材料(例如，黄金)填充聚合物模板来进行光栅制造。如果光栅被用作源光栅G0，那么观察到，抗蚀剂不能承受热和辐射负荷，并且整个光栅变得不稳定。因此，计划在电镀之后剥离抗蚀剂。为了确保光栅薄片的机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于产生成像装置的X射线光栅的方法(100)，所述成像装置用于X射线暗场成像和/或X射线相衬成像，所述方法包括以下步骤：a)在平坦样本(16)上产生(110)具有多个周期性布置的光栅网(12)和光栅开口(14)的抗蚀剂负光栅(10)；b)通过以下操作通过电镀来填充(120)所述平坦样本上的所述光栅开口：持续进行所述电镀直到所述光栅网的高度以形成光栅薄片(18)；c)在所述抗蚀剂负光栅的顶部(22)上处理(130)窗体(26)，所述窗体使得能够引入实质上垂直于所述光栅网的顶部桥(24)；d)使所述抗蚀剂负光栅弯曲(140)到期望半径；并且e)通过电镀来填充(150)所述窗体以在使所述抗蚀剂负光栅弯曲之后形成所述顶部桥。2.根据权利要求1所述的方法，还包括：
‑
在执行所述电镀之后移除所述光栅薄片之间的所述抗蚀剂负光栅。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在步骤d)中，提供允许使所述抗蚀剂负光栅精确弯曲到所述期望半径的框架。4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述框架的所述弯曲半径与所述成像装置中靠近于X射线管的安装位置兼容。5.根据权利要求3或4所述的方法，其中，所述框架是非导电材料的，或者所述框架完全由非导电材料覆盖。6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，步骤e)还包括选择用于所述电镀的温度，其中，选定的温度被选择为使得在所述成像装置中的所述X射线光栅的操作条件下，所述X射线光栅的几何结构变化和/或机械应力最小或接近最小。7.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述顶部桥被成形为使得在所述成像装置中的所述X射线光栅的操作条件下，由于所述顶部桥造成的机械应力最小或接近最小。8.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述顶部桥和所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：T，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：