一种含N螺环有机化合物及其在有机发光器件和面板中的应用制造技术

本发明专利技术提供了一种含N螺环有机化合物，具有式Ⅰ或式Ⅱ所示结构。本发明专利技术开发了一系列新的、性能优良的TADF材料，用于量产品使用，可以明显提升OLED器件效率、寿命，降低驱动电压。降低驱动电压。

【技术实现步骤摘要】
一种含N螺环有机化合物及其在有机发光器件和面板中的应用


[0001]本专利技术涉及有机电致发光材料
，尤其涉及一种含N螺环有机化合物及其在有机发光器件和面板中的应用。

技术介绍

[0002]根据发光机制，可用于OLED发光层材料主要有以下4种：
[0003]荧光材料、磷光材料、三线态
‑
三线态湮灭(TTA)材料和热活化延迟荧光(TADF)材料。
[0004]其中，荧光材料及TTA材料理论最大内量子产率低，磷光材料成本高，与之相比，TADF材料优势明显，其理论最大内量子产率可达100％，且主要为有机化合物，不需要稀有金属元素，生产成本低，可通过多种方法进行化学修饰，结构多样，但目前已发现的TADF材料较少，需要开发理论最大内量子产率高的低成本TADF材料，来进一步提升OLED显示器件的综合性能。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本专利技术要解决的技术问题在于提供一种含N螺环有机化合物及其在有机发光器件和面板中的应用，制备的含N螺环有机化合物可以明显提升OLED器件的效率、寿命，降低驱动电压。
[0006]本专利技术提供了一种含N螺环有机化合物，具有式Ⅰ或式Ⅱ所示结构：
[0007][0008]其中，X、Y独立的选自O或者S；
[0009]R1选自取代或非取代的芳基或杂芳基；
[0010]R2～R3独立的选自H、取代或非取代的芳基或杂芳基，且R2、R3不同时为H。
[0011]本专利技术提供了一种有机发光器件，所述有机发光器件包括阳极、阴极，以及位于所述阳极和阴极之间的有机薄膜层，所述有机薄膜层包括发光层，所述发光层中含有至少一种上述含N螺环有机化合物。
[0012]本专利技术提供了一种显示面板，包括上述有机发光器件。
[0013]与现有技术相比，本专利技术提供了一种含N螺环有机化合物，具有式Ⅰ或式Ⅱ所示结
构。本专利技术开发了一系列新的、性能优良的TADF材料，用于量产品使用，可以明显提升OLED器件效率、寿命，降低驱动电压。
附图说明
[0014]图1为本专利技术制备的有机发光器件结构示意图。
具体实施方式
[0015]本专利技术提供了一种含N螺环有机化合物，具有式Ⅰ或式Ⅱ所示结构：
[0016][0017]其中，X、Y独立的选自O或者S；
[0018]R1选自取代或非取代的芳基或杂芳基；
[0019]R2～R3独立的选自H、取代或非取代的芳基或杂芳基，且R2、R3不同时为H。
[0020]可选的，所述取代的芳基或杂芳基的取代基选自卤素，氰基，C1～C6的烷基，C1～C6的烷氧基，取代或非取代的芳基、杂芳基、芳胺基中的一种或多种。
[0021]进一步可选的，所述取代的芳基或杂芳基的取代基选自F，Cl，Br，氰基，甲基，乙基，正丙基，异丙基，正丁基，异丁基，叔丁基，甲氧基，乙氧基，正丙氧基，或者取代或非取代的苯基、萘基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基、1,3,4
‑
三嗪基、咔唑基、芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、苯胺基、N，N
‑
二苯基氨基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、喹唑啉基中的一种或多种。
[0022]可选的，所述取代的苯基、萘基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基、1,3,4
‑
三嗪基、咔唑基、芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、苯胺基、N，N
‑
二苯基氨基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、喹唑啉基的取代基选自苯基、萘基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基、1,3,4
‑
三嗪基、咔唑基、芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、苯胺基、N，N
‑
二苯基氨基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、喹唑啉中的一种或多种。
[0023]可选的，所述R1选自取代或非取代的单环芳基、单环杂芳基、稠环芳基、稠环杂芳基，或者由取代或非取代的单环芳基、单环杂芳基、稠环芳基、稠环杂芳基中的任意一种或多种通过单键或N原子连接形成的基团。
[0024]可选的，所述单环芳基为苯基；
[0025]所述单环杂芳基选自吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基或1,3,4
‑
三嗪基；
[0026]所述稠环芳基选自萘基、蒽基、菲基、芘基或芴基；
[0027]所述稠环杂芳基选自咔唑基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基或喹唑啉基。
[0028]可选的，所述多种为2种、3种或4种。
[0029]可选的，所述R1选自含有第一取代基的或非取代的苯基、萘基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基、1,3,4
‑
三嗪基、咔唑基、芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基或喹唑啉基；
[0030]所述第一取代基选自F，Cl，Br，氰基，甲基，乙基，正丙基，异丙基，正丁基，异丁基，叔丁基，甲氧基，乙氧基，正丙氧基，或者含有第二取代基的或非取代的苯基、萘基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基、1,3,4
‑
三嗪基、咔唑基、芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、苯胺基、N，N
‑
二苯基氨基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、喹唑啉基中的一种或多种；
[0031]所述第二取代基选自苯基、萘基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基、1,3,4
‑
三嗪基、咔唑基、芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、苯胺基、N，N
‑
二苯基氨基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、喹唑啉中的一种或多种。
[0032]可选的，所述R1选自以下任一结构：
[0033][0034][0035]#表示连接位置。
[0036]可选的，所述R2～R3独立的选自H、取代或非取代的单环芳基、单环杂芳基、稠环芳基、稠环杂芳基，或者由取代或非取代的单环芳基、单环杂芳基、稠环芳基、稠环杂芳基中的任意一种或多种通过单键或N原子连接形成的基团，且R2、R3不同时为H。
[0037]可选的，所述单环芳基为苯基；
[0038]所述单环杂芳基选自吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基或1,3,4
‑
三嗪基；
[0039]所述稠环芳基选自萘基、蒽基、菲基、芘基或本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含N螺环有机化合物，具有式Ⅰ或式Ⅱ所示结构：其中，X、Y独立的选自O或者S；R1选自取代或非取代的芳基或杂芳基；R2～R3独立的选自H、取代或非取代的芳基或杂芳基，且R2、R3不同时为H。2.根据权利要求1所述的含N螺环有机化合物，其特征在于，所述取代的芳基或杂芳基的取代基选自卤素，氰基，C1～C6的烷基，C1～C6的烷氧基，取代或非取代的芳基、杂芳基、芳胺基中的一种或多种。3.根据权利要求2所述的含N螺环有机化合物，其特征在于，所述取代的芳基或杂芳基的取代基选自F，Cl，Br，氰基，甲基，乙基，正丙基，异丙基，正丁基，异丁基，叔丁基，甲氧基，乙氧基，正丙氧基，或者取代或非取代的苯基、萘基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基、1,3,4
‑
三嗪基、咔唑基、芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、苯胺基、N，N
‑
二苯基氨基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、喹唑啉基中的一种或多种。4.根据权利要求3所述的含N螺环有机化合物，其特征在于，所述取代的苯基、萘基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基、1,3,4
‑
三嗪基、咔唑基、芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、苯胺基、N，N
‑
二苯基氨基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、喹唑啉基的取代基选自苯基、萘基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基、1,3,4
‑
三嗪基、咔唑基、芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、苯胺基、N，N
‑
二苯基氨基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、喹唑啉中的一种或多种。5.根据权利要求1所述的含N螺环有机化合物，其特征在于，所述R1选自取代或非取代的单环芳基、单环杂芳基、稠环芳基、稠环杂芳基，或者由取代或非取代的单环芳基、单环杂芳基、稠环芳基、稠环杂芳基中的任意一种或多种通过单键或N原子连接形成的基团。6.根据权利要求5所述的含N螺环有机化合物，其特征在于，所述单环芳基为苯基；所述单环杂芳基选自吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基或1,3,4
‑
三嗪基；所述稠环芳基选自萘基、蒽基、菲基、芘基或芴基；所述稠环杂芳基选自咔唑基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基或喹唑啉基。7.根据权利要求5所述的含N螺环有机化合物，其特征在于，所述多种为2种、3种或4种。8.根据权利要求1所述的含N螺环有机化合物，其特征在于，所述R1选自含有第一取代基的或非取代的苯基、萘基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基、1,3,4
‑
三嗪基、咔唑基、芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基或
喹唑啉基；所述第一取代基选自F，Cl，Br，氰基，甲基，乙基，正丙基，异丙基，正丁基，异丁基，叔丁基，甲氧基，乙氧基，正丙氧基，或者含有第二取代基的或非取代的苯基、萘基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5
‑
三嗪基、1,3,4
‑
三嗪基、咔唑基、芴基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、苯胺基、N，N
‑
二苯基氨基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、喹唑啉基中的一种或多种；所述第二取代基选自苯基、萘基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、1,2,3
‑
三嗪基，1,3,5

【专利技术属性】
技术研发人员：邓东阳，刘营，
申请(专利权)人：武汉天马微电子有限公司上海分公司，
类型：发明
国别省市：