光学膜制造用膜、光学膜的制造方法和光学膜技术

提供具有良好的生产率、能够得到与使用具有相同聚合度的未改性PVA的情况相比光学性能和耐湿热性更优异的光学膜的光学膜制造用膜，使用这种光学膜制造用膜得到的光学膜的制造方法和光学膜。本发明专利技术是光学膜制造用膜，其包含具有含硅基团的聚乙烯醇，上述含硅基团为硅烷醇基或者能够在水的存在下转化为硅烷醇基的基团，上述聚乙烯醇的粘均聚合度为1,000以上且6,000以下、皂化度为98.7摩尔%以上，并且，上述含硅基团相对于全部结构单元的含量为0.01摩尔%以上且1.0摩尔%以下。0.01摩尔%以上且1.0摩尔%以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学膜制造用膜、光学膜的制造方法和光学膜


[0001]本专利技术涉及光学膜制造用膜、光学膜的制造方法和光学膜。

技术介绍

[0002]具有透光和遮光功能的偏振板与使光的偏振状态发生变化的液晶同为液晶显示器(LCD)的基本构成要素。多种偏振板具有在偏振膜的表面贴合有三乙酸纤维素(TAC)膜等保护膜的结构。作为偏振膜，使将聚乙烯醇膜(以下有时将“聚乙烯醇”简写为“PVA”)单轴拉伸而成的基体(拉伸膜)吸附碘系色素(I3‑
、I5‑
等)、二色性有机染料之类的二色性色素而得到的偏振膜成为主流。
[0003]LCD在计算器和腕表等小型仪器、智能手机、笔记本个人电脑、液晶监测器、液晶彩色投影仪、液晶电视、车载用导航系统、便携电话、室内外使用的计量设备等宽泛的范围内使用。近年来，对于这些设备要求显示品质的提高。与此相伴，对于偏振膜也要求高性能化，具体而言，要求偏振度、透射度等光学性能优异的偏振膜。此外，对于偏振膜而言，耐久性也重要，例如，要求即便在高温多湿的环境下也维持良好的性能等。对于除偏振膜之外的光学膜而言，也同样要求光学性能、耐久性。
[0004]作为光学性能和耐湿热性等得以改善的偏振膜，已知的是使用聚合度高的PVA而得的偏振膜(专利文献1)。该专利文献1中，使用将高聚合度的PVA溶解于以二甲基亚砜作为主成分的溶剂而得到的PVA制膜溶液来进行制膜。
[0005]现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平1
‑
105204号公报。

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题在PVA膜的工业制造中，考虑到环境方面、经济性等，通常将使用水作为溶剂的PVA水溶液用作制膜溶液。但是，聚合度高的PVA因其水溶液的粘度上升而制膜性差，在工业生产上并不优选。因此，期望除提高PVA的聚合度的方法之外的、提高光学膜的光学性能、耐湿热性的方法。
[0007]本专利技术是基于以上那样的情况而作出的，其目的在于，提供具有良好的生产率、能够得到与使用具有相同聚合度的未改性PVA的情况相比光学性能和耐湿热性更优异的光学膜的光学膜制造用膜，使用这种光学膜制造用膜得到的光学膜的制造方法和光学膜。
[0008]用于解决问题的手段上述目的通过提供如下技术方案中的任一项来实现。
[0009][1] 光学膜制造用膜，其包含具有含硅基团的聚乙烯醇，上述含硅基团为硅烷醇基或者能够在水的存在下转化为硅烷醇基的基团，上述聚乙烯醇的粘均聚合度为1,000以上且6,000以下、皂化度为98.7摩尔%以上，并且，上述含硅基团相对于全部结构单元的含量
为0.01摩尔%以上且1.0摩尔%以下；[2] 根据[1]的光学膜制造用膜，其中，上述皂化度为99.5摩尔%以上；[3] 根据[1]或[2]的光学膜制造用膜，其中，上述粘均聚合度与上述含硅基团的含量之积为100摩尔%以上且2,000摩尔%以下；[4] 根据[1]~[3]中任一项的光学膜制造用膜，其平均厚度为1μm以上且75μm以下；[5] 根据[1]~[4]中任一项的光学膜制造用膜，其溶胀度为140%以上且400%以下；[6] 根据[1]~[5]中任一项的光学膜制造用膜，其中，上述光学膜为偏振膜；[7] 根据[1]~[6]中任一项的光学膜制造用膜，其为未拉伸膜；[8] 光学膜的制造方法，其具备对[1]~[7]中任一项的光学膜制造用膜进行单轴拉伸的工序；[9] 根据[8]的光学膜的制造方法，其中，上述光学膜为偏振膜；[10] 光学膜，其包含具有含硅基团的聚乙烯醇，上述含硅基团为硅烷醇基或者能够在水的存在下转化为硅烷醇基的基团，上述聚乙烯醇的粘均聚合度为1,000以上且6,000以下、皂化度为98.7摩尔%以上，并且，上述含硅基团相对于全部结构单元的含量为0.01摩尔%以上且1.0摩尔%以下；[11] 根据[10]的光学膜，其为偏振膜；以及[12] 根据[10]或[11]的光学膜，其为单层膜。
[0010]专利技术效果根据本专利技术，可提供具有良好的生产率、能够得到与使用具有相同聚合度的未改性PVA的情况相比光学性能和耐湿热性更优异的光学膜的光学膜制造用膜，使用这种光学膜制造用膜得到的光学膜的制造方法和光学膜。
具体实施方式
[0011]<光学膜制造用膜>本专利技术的光学膜制造用膜包含具有含硅基团的聚乙烯醇(以下有时称为“硅烷醇改性PVA”)。
[0012](硅烷醇改性PVA)硅烷醇改性PVA为具有乙烯醇单元(
‑
CH2‑
CH(OH)
‑
)作为结构单元的聚合物，且具有含硅基团。硅烷醇改性PVA可以包含带有含硅基团的结构单元，也可以进一步具有乙酸乙烯酯单元等乙烯基酯单元、其它结构单元。
[0013]硅烷醇改性PVA的粘均聚合度的下限为1,000，优选为2,000，更优选为2,500。通过使硅烷醇改性PVA的粘均聚合度为上述下限以上，从而本专利技术的光学膜制造用膜的拉伸加工性变得优异，能够得到具有优异的光学性能和耐湿热性的光学膜。另一方面，上述粘均聚合度的上限为6,000，优选为5,000，更优选为4,000。通过使硅烷醇改性PVA的粘均聚合度为上述上限以下，从而发挥良好的水溶性，此外，抑制水溶液的粘度上升。因此，通过使硅烷醇改性PVA的粘均聚合度为上述上限以下，从而发挥良好的制膜性，能够提高本专利技术的光学膜制造用膜的生产率。
[0014]粘均聚合度是指按照JIS K6726
‑
1994的记载而测得的平均聚合度。即，本说明书
中，粘均聚合度如下求出：对PVA的残留乙烯酯基进行再皂化并精制后，在30℃的水中进行测定，根据由此得到的特性粘度[η](单位：分升/g)并利用下述式来求出。
[0015]粘均聚合度Po=([η]×
104/8.29)
(1/0.62)
。
[0016]硅烷醇改性PVA的皂化度的下限为98.7摩尔%，优选为99.0摩尔%，更优选为99.5摩尔%，进一步优选为99.8摩尔%，特别优选为99.9摩尔%。通过使皂化度为上述下限以上，从而能够得到光学性能和耐湿热性优异的光学膜。另一方面，皂化度的上限没有特别限定，从硅烷醇改性PVA的生产率的观点出发，优选为99.99摩尔%以下。
[0017]PVA的皂化度是指：PVA所具有的乙烯醇单元的摩尔数相对于通过皂化而能够转化为乙烯醇单元的结构单元(典型而言，为乙烯基酯单元)与乙烯醇单元的总摩尔数的比例(摩尔%)。PVA的皂化度可按照JIS K6726
‑
1994的记载来测定。
[0018]硅烷醇改性PVA具有含硅基团。该含硅基团为硅烷醇基或者能够在水的存在下转化为硅烷醇基的基团。硅烷醇基是指具有硅原子和键合于该硅原子的至少1个羟基的基团。硅烷醇基所具有的羟基数量通常为1~3中的任一者，优选为3。硅烷醇基所具有的羟基可以以盐(例如
‑
ONa、
‑
OK等)的状态存在。
[0019]能本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.光学膜制造用膜，其包含具有含硅基团的聚乙烯醇，所述含硅基团为硅烷醇基或者能够在水的存在下转化为硅烷醇基的基团，所述聚乙烯醇的粘均聚合度为1,000以上且6,000以下、皂化度为98.7摩尔%以上，并且，所述含硅基团相对于全部结构单元的含量为0.01摩尔%以上且1.0摩尔%以下。2.根据权利要求1所述的光学膜制造用膜，其中，所述皂化度为99.5摩尔%以上。3.根据权利要求1或2所述的光学膜制造用膜，其中，所述粘均聚合度与所述含硅基团的含量之积为100摩尔%以上且2,000摩尔%以下。4.根据权利要求1~3中任一项所述的光学膜制造用膜，其平均厚度为1μm以上且75μm以下。5.根据权利要求1~4中任一项所述的光学膜制造用膜，其溶胀度为140%以上且400%以下。6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：清水沙也加，练苧乔士，中井慎二，中谷匡希，
申请(专利权)人：株式会社可乐丽，
类型：发明
国别省市：