含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂和磁记录介质制造技术

本发明专利技术涉及一种含氟醚化合物，其特征在于由式(1)表示。C6H6‑

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂和磁记录介质


[0001]本专利技术涉及适合于磁记录介质的润滑剂用途的含氟醚化合物、包含它的磁记录介质用润滑剂和磁记录介质。
[0002]本申请基于2019年10月1日在日本申请的特愿2019
‑
181309号主张优先权，并将其内容援引于此。

技术介绍

[0003]为了提高磁记录再生装置的记录密度，进行了适于高记录密度的磁记录介质的开发。
[0004]以往，作为磁记录介质，有在基板上形成记录层、在记录层上形成碳等保护层的磁记录介质。保护层在保护记录层中记录的信息的同时，提高磁头的滑动性。但是，仅通过在记录层上设置保护层，不能充分得到磁记录介质的耐久性。因此，通常在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。
[0005]作为形成磁记录介质的润滑层时使用的润滑剂，例如已提出了含有如下化合物的润滑剂，所述化合物是在具备包含CF2的重复结构的氟类聚合物的末端具有羟基等极性基团的化合物。
[0006]例如，专利文献1中公开了具有芳香族基团和羟基的氟聚醚化合物。
[0007本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种含氟醚化合物，其特征在于由下述式(1)表示；C6H6‑
n
‑
[O
‑
R1‑
O
‑
CH2‑
R2‑
CH2‑
R3]
n
ꢀꢀꢀ
(1)式(1)中，n为2或3的整数，R1为
‑
CH2CH2‑
、
‑
CH2CH2CH2‑
、
‑
CH2CH(OH)CH2‑
中的任意之一，R2为全氟聚醚链，R3为
‑
OCH2CH(OH)CH2O(CH2)
m
OH且式中的m为2～4的整数。2.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述式(1)中的R2由下述式(2)～(4)中的任一个表示；式(2)中，p表示1～30，q表示0～30；式(3)中，r表示1～30；式(4)中，s表示1～20。3.根据权利要求2所述的含氟醚化合物，其特征在于是由下述式(A)...

【专利技术属性】
技术研发人员：福本直也，柳生大辅，加藤刚，室伏克己，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：