【技术实现步骤摘要】
基片处理系统和基片处理方法
[0001]本专利技术的实施方式涉及基片处理系统和基片处理方法。
技术介绍
[0002]一直以来，已知有在处理半导体晶片(以下，也称为晶片。)等基片的基片处理装置中，使所处理的基片的成品率提高的技术(参照专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2009
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148734号公報
技术实现思路
[0006]专利技术要解决的技术问题
[0007]本专利技术提供即使在处理单元中发生了异常的情况下，也能够减少废弃的基片的数量的技术。
[0008]用于解决技术问题的技术手段
[0009]本专利技术的一方式的基片处理系统包括：能够对基片实施同种的处理的多个处理单元；对多个上述处理单元进行上述基片的输送的输送装置；以及控制多个上述处理单元和上述输送装置的控制部。此外，控制部具有救济处理部、输送处理部和再救济处理部。救济处理部对在发生了异常的异常处理单元中正在处理的滞留基片，在上述...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基片处理系统，其特征在于，包括：能够对基片实施同种的处理的多个处理单元；对多个所述处理单元进行所述基片的输送的输送装置；和控制多个所述处理单元和所述输送装置的控制部，所述控制部具有：救济处理部，其对在发生了异常的异常处理单元中正在处理的滞留基片，在所述异常处理单元中进行救济处理；输送处理部，其在所述异常处理单元中不能对所述滞留基片进行救济处理的情况下，基于预先设定的输送模式，将所述滞留基片从所述异常处理单元输送到另一所述处理单元；和再救济处理部，其对被输送到另一所述处理单元的所述滞留基片再次进行救济处理。2.如权利要求1所述的基片处理系统，其特征在于：在所述输送模式中，包含与多个所述处理单元全部正常时实施的多个所述基片的输送顺序不同的输送顺序。3.如权利要求1或2所述的基片处理系统，其特征在于：所述控制部还具有选择部，所述选择部从输送顺序各自不同的多个所述输送模式中，选择供所述输送处理部实施的一个所述输送模式。4.如权利要求3所述的基片处理系统，其特征在于：所述选择部基于在所述异常处理单元中发生的异常的种类，从多个所述输送模式中选择一个所述输送模式。5.如权利要求4所述的基片处理系统，其特征在于，还包括：检查装置，其检查处理后的所述基片的处理状态；和将检查信息、输送模式信息、异常信息和方案信...
【专利技术属性】
技术研发人员：绫部刚，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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