利用E-T型二次电子探测器获得扫描成像固定装置及其方法制造方法及图纸

技术编号:33303815 阅读:24 留言:0更新日期:2022-05-06 12:12
本发明专利技术公开了利用E

【技术实现步骤摘要】
利用E

T型二次电子探测器获得扫描成像固定装置及其方法


[0001]本专利技术涉及一种扫描电镜样品台设计和扫描透射应用,特别涉及一种利用E

T型二次电子探测器获得扫描透射成像的装置在扫描透射成像上的应用。

技术介绍

[0002]扫描电子显微镜常用于表征固体材料或者准固体材料的形貌结构和组分,现已经成功应用到了材料科学、生命科学、半导体工业和地质科学等诸多领域。
[0003]目前,最完整的扫描电子显微镜通常会配置镜筒内二次电子探测器、背散射探测器和样品仓Everhart

Thornley(E

T)型二次电子探测器,用于高分辨表面形貌、组分结构和高立体感形貌观察。此外,部分高配置扫描电镜还会配置高成本的伸缩式半导体扫描透射探头,用于透射电子信号成像。然而,伸缩式半导体扫描透射探头存在设备成本高,操作繁琐,操作安全性差,时间分辨率差,只能在10

30kV条件下工作等问题。因此,开发一种低成本、易于操作、高时间分辨率的低压透射电子成像方法是非常迫本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.利用E

T型二次电子探测器获得扫描成像固定装置,其特征在于:包括第一组件(1)、第二组件(2)、螺丝(3)和铜网样品(4),所述第二组件(2)上设有一排锁紧孔(5)和一排凹槽(6);所述第一组件(1)上设有样品放置槽(7),其中铜网样品(4)放置在每个所述样品放置槽(7)上,其中螺丝(3)穿过对应的锁紧孔(5)将第二组件(2)固定在所述第一组件(1)的顶部。2.根据权利要求1所述的利用E

T型二次电子探测器获得扫描成像固定装置,其特征在于:每个所述凹槽(6)的底部设有凸环(8);每个所述凸环(8)与所述样品放置槽(7)卡合适配。3.根据权利要求2所述的利用E

T型二次电子探测器获得扫描成像固定装置,其特征在于:每个所述凹槽(6)的孔径从上到下逐渐缩小。4.根据权利要求2所述的利用E

T型二次电子探测器获得扫描成像固定装置,其特征在于:所述凹槽(6)竖直的直线深度为1.8m...

【专利技术属性】
技术研发人员:戴志晖王雷朱钦舒
申请(专利权)人:南京师范大学
类型:发明
国别省市:

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