显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括衬底基板、以及设置在衬底基板上的像素定义层和发光结构层；像素定义层掺杂有阻光材料；或者，显示基板还包括与像素定义层接触的阻光层，阻光层采用阻光材料制成；其中，阻光材料配置为防止导波光穿过所述像素定义层。光材料配置为防止导波光穿过所述像素定义层。光材料配置为防止导波光穿过所述像素定义层。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法、显示装置


[0001]本文涉及但不限于显示技术，尤指一种显示基板及其制备方法、显示装置。

技术介绍

[0002]随着显示技术的不断发展，各种显示产品越来越要求使用高发光效率、低功耗、长寿命、高分辨率的OLED显示屏，对显示屏的要求越来越严格。而对于一些OLED显示设备，比如：一些使用OLED显示屏的手机，在低灰阶画面下瞬态光电响应过慢，影响到光电感应器接收到的信号精度，使其无法根据环境亮度来对显示屏进行补偿和调节，影响了用户体验。

技术实现思路

[0003]以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。
[0004]本公开实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置，解决了现有显示装置在低灰阶画面下瞬态光电响应过慢，影响到光电感应器接收到的信号精度的问题。
[0005]第一方面，本公开实施例提供了一种显示基板，包括：衬底基板、以及设置在所述衬底基板上的像素定义层和发光结构层；所述像素定义层掺杂有阻光材料；或者，所述显示基板还包括与所述像素定义层接触的阻光层，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板、以及设置在所述衬底基板上的像素定义层和发光结构层；所述像素定义层掺杂有阻光材料；或者，所述显示基板还包括与所述像素定义层接触的阻光层，所述阻光层采用阻光材料制成；其中，所述阻光材料配置为防止导波光穿过所述像素定义层。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素定义层包括多个像素界定单元，相邻的像素界定单元之间为开口区；在所述像素界定单元内掺杂所述阻光材料，所述阻光材料的折射率与所述像素界定单元的折射率不同。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述阻光材料掺杂在所述像素界定单元内靠近所述开口区的侧面。4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述阻光材料包括：一个或多个氧化硅球体，或一个或多个聚苯乙烯球体。5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阻光层设置在所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧，且所述阻光层在所述衬底基板的正投影与所述像素定义层在所述衬底基板的正投影重合。6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阻光层设置在所述像素定义层靠近所述衬底基板的一侧，所述像素定义层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述阻光层在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐瑞乾，商菲，向杰，袁德，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：