一种适用于亮背景成像条件下的镜筒结构制造技术

本发明专利技术提供了一种适用于亮背景成像条件下的镜筒结构，包括镜筒筒体、阵列式微蜂窝孔和吸光涂层，所述阵列式微蜂窝孔设于镜筒筒体内表面，吸光涂层涂覆于微蜂窝孔的环形内壁上，进入光机系统的非视场光或光机系统内光学件、结构件产生的二次杂散光斜入射到镜筒筒体的微蜂窝孔内壁上，通过吸光涂层对微蜂窝孔腔体内反射的光线进行多阶吸收。镜筒结构基于阻抗匹配和有效衰减吸波电磁理论，对蜂窝微结构开孔角度、蜂窝高度、蜂窝孔径、蜂窝壁厚等参数进行设计，使该器件可克服传统消杂光手段对于成像杂散光抑制比低(90％)、散射方向不确定等不足，实现视场范围内可见/近红外杂散光弱反射、多级衰减、强吸收，抑制效果＞99％。抑制效果＞99％。抑制效果＞99％。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于亮背景成像条件下的镜筒结构


[0001]本专利技术属于光学成像器件
，特别涉及一种适用于亮背景成像条件下的镜筒结构。

技术介绍

[0002]杂散光主要分为以下三种：(1)外部杂散光，对空间相机而言为视场外环境中太阳光、地气光、月光等强辐射源所发出的辐射能量。(2)内部杂散光，主要是控制电机、温控热源、温度较高的光学元件等产生的热辐射。(3)成像杂散光，此类杂光是成像光线的非正常路径传播导致的，如其在光学元件表面发生的残余反射、散射及衍射，其中偶数次反射在探测器形成的光斑即为鬼像。以上三种杂光中，内部杂散光主要在红外光学系统中存在，成像杂散光存在于特定的系统条件中，第一类外部杂散光普遍影响着所有的光学系统。
[0003]在对日成像或探测目标与背景亮度差异极大时，有效目标信号极易被无效背景信号所淹没，因此必须要解决杂散光对探测系统影响。在亮背景成像条件下，外部杂散光和成像杂散光是杂散光来源的主要因素。外部杂散光通常采用遮光罩、挡光环组件进行遮拦、抑制，而对于成像杂散光，由于传统探测载荷通常对地成像或深空探测，成像杂散光对于探本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于亮背景成像条件下的镜筒结构，其特征在于，包括镜筒筒体、阵列式微蜂窝孔和吸光涂层，所述阵列式微蜂窝孔设于镜筒筒体内表面，吸光涂层涂覆于微蜂窝孔的环形内壁上，进入光机系统的非视场光或光机系统内光学件、结构件产生的二次杂散光斜入射到镜筒筒体的微蜂窝孔内壁上，通过吸光涂层对微蜂窝孔腔体内反射的光线进行多阶吸收。2.根据权利要求1所述的一种适用于亮背景成像条件下的镜筒结构，其特征在于，所述阵列式微蜂窝孔沿镜筒筒体的内表面成环形阵列，单一微蜂窝孔的开孔方向指向镜筒轴心。3.根据权利要求1所述的一种适用于亮背景成像条件下的镜筒结构，其特征在于，所述阵列式微蜂窝孔的开孔方向与镜筒轴心线的夹角为+85
°
～+90
°
范围内的任意值，以朝向镜筒口方向为正方向。4.根据权利要求1所述的一种适用于亮背景成像条件下的镜筒结构，其特征在于，所述阵列式微蜂窝孔中，距镜筒口不同距离的微蜂窝孔的开孔方向与镜筒轴心线的夹角不相等。5.根据权利要求1所述的一种适用于亮背景成像条件下的镜筒结构，其特征在于，所述阵列式微蜂窝孔中，距镜筒口越近，微蜂窝孔的开孔方向与镜筒轴心线的夹角越小；距镜筒口越远，...

【专利技术属性】
技术研发人员：单睿，张琢，代树武，王颖，黄长宁，李朝龙，钟晓明，董联庆，杨立欣，陈英，
申请(专利权)人：北京空间机电研究所，
类型：发明
国别省市：