自动分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术的目的在于提供一种自动分析装置，该自动分析装置能够防止装置整体大型化，并且能够抑制制造成本，同时能够进行特别洗净。为此，本发明专利技术的自动分析装置，是向反应容器中分别分注试样和试剂并使其反应，测定该进行了反应的液体的自动分析装置，该自动分析装置具备：多个分注机构；控制多个上述分注机构的控制器；设置于多个上述分注机构中仅1个进行访问的位置，对访问的上述分注机构进行通常的清洗的、各个上述分注机构专用的通常清洗槽；以及设置于多个上述分注机构均进行访问的位置，对访问的上述分注机构进行与通常不同的清洗的、各个上述分注机构共用的特别清洗槽。各个上述分注机构共用的特别清洗槽。各个上述分注机构共用的特别清洗槽。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】自动分析装置


[0001]本专利技术涉及自动分析装置。

技术介绍

[0002]在自动分析装置中，为了防止吸引量/排出量不均或产生污染，用于分注试样、试剂的分注喷嘴一般通过清洗机构进行清洗而反复使用。但是，由于试样等的微量化、分析的高灵敏度化逐年发展，因此分注喷嘴的清洗不充分时，对分析精度带来的影响变大，要求将分注喷嘴的清洗性能提高到迄今为止以上。
[0003]因此，作为提高分注喷嘴的清洗性能的技术，已知有使用含有洗涤剂的清洗液来进行比清洗水强力的特别清洗。例如，在专利文献1中，记载了“特别清洗由如下的清洗构成：使用供给到第一清洗槽28b的含有碱性、酸性、中性等洗涤剂的清洗液在第一清洗槽28b中进行的清洗、和使用在该清洗之后进行的清洗水在第一清洗槽28a中进行的(通常)清洗”(第0043段)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2017
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110913号公报

技术实现思路

[0007]专利技术所要解决的课题
[0008]但是，在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种自动分析装置，是向反应容器中分别分注试样和试剂并使其反应，测定该进行了反应的液体的自动分析装置，其特征在于，具备：多个分注机构；控制多个上述分注机构的控制器；设置于多个上述分注机构中仅1个进行访问的位置，对访问的上述分注机构进行通常的清洗的、各个上述分注机构专用的通常清洗槽；以及设置于多个上述分注机构均进行访问的位置，对访问的上述分注机构进行与通常不同的清洗的、各个上述分注机构共用的特别清洗槽。2.根据权利要求1所述的自动分析装置，其特征在于，具有：分注动作，上述分注机构在上述试样或上述试剂的吸引位置与上述试样或上述试剂的排出位置之间往复运动，并且在中途访问上述通常清洗槽；以及特别动作，在上述特别清洗槽对上述分注机构进行特别清洗，一方的上述分注机构在上述特别动作时对上述特别清洗槽进行访问时的一方的上述分注机构和另一方的上述分注机构在上述分注动作时在上述吸引位置与上述排出位置之间往复运动的轨迹具有干涉区域，在一方的上述分注机构进行上述特别动作且另一方的上述分注机构进行上述分注动作的情况下，上述控制器在另一方的上述分注机构在上述干涉区域移动时，使一方的上述分注机构访问远离上述特别清洗槽的退避位置。3.根据权利要求2所述的自动分析装置，其特征在于，上述特别清洗具有第一特别清洗和之后的第二特别清洗，上述控制器进行以下的控制：在另一方的上述分注机构进行第一个循环的上述分注动作时，使一方的上述分注机构进行上述第一特别清洗，并且在另一方的上述分注机构在上述干涉区域移动的期间，使一方的上述分注机构访问上述退避位置，在另一方的上述分注机构进行第二个循环的上述分注动作时，使一方的上述分注机构进行上述第二特别清洗，并且在另一方的上述分注机构在上述干涉区域移动的期间，使一方的上述分注机构访问上述退避位置。4.根据权利要求3所述的自动分析装置，其特征在于，上述特别动作是在进行上述特别清洗后访问干燥机构来进行上述分注机构的干燥的动作，上述控制器进行如下的控制：在另一方的上述分注机构进行第二个循环的上述分注动作时，使一方的上述分注机构在...

【专利技术属性】
技术研发人员：高桥拓也，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：