图像曝光装置、图像曝光方法及程序制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种图像曝光装置、图像曝光方法及程序，所述图像曝光装置具备：图像显示装置；支撑部，使记录图像显示装置中所显示的图像的感光性记录介质的曝光面与图像显示装置对置而支撑；百叶窗式薄膜，设置于图像显示装置与支撑部之间，并且限制从图像显示装置照射的光的角度；图像生成部，通过强调彩色的输入图像的高频分量的浓度差，生成使输入图像的画质劣化的显示图像；及控制部，从显示图像生成R分量的图像、G分量的图像及B分量的图像，并且使R分量的图像、G分量的图像及B分量的图像各自以预先规定的顺序依次显示于图像显示装置，从而进行使感光性记录介质依次曝光的控制。从而进行使感光性记录介质依次曝光的控制。从而进行使感光性记录介质依次曝光的控制。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图像曝光装置、图像曝光方法及程序


[0001]本专利技术涉及一种图像曝光装置、图像曝光方法及程序。

技术介绍

[0002]对于照片或光掩模等的曝光使用成像系统的光学系统即投影光学系统。然而，在投影光学系统的情况下，在由图像显示装置显示的显示图像与感光性记录介质等感光材料之间需要透镜等光学系统，并且需要大体积。在通过光掩模来使半导体等图案曝光的情况下，使掩模与感光材料密合或几乎密合。进行曝光时，在感光材料与掩模图案之间设置间隙或保护板并投射平行光，由此抑制经曝光的图像模糊。
[0003]并且，利用从光源射出的光中与感光材料平行地射出的光照射到感光材料并进行曝光，由此抑制经曝光的记录图像模糊。例如，在日本特开2009
‑
37011号公报及美国专利第9126396号说明书中记载有如下技术，即，在感光材料与显示于电子显示器等的显示图像之间设置光纤阵列等图像显示装置，并且在从显示器向感光性材料照射的光中，选择(准直)从显示器朝向感光材料的平行的光，照射到感光材料。在日本特开2009
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37011号公报及美国专利第9126396号说明书中记载的技术中，能够抑制经曝光的记录图像的渗色。

技术实现思路

[0004]专利技术要解决的技术课题
[0005]如上所述，在通过限制部件限制从图像显示装置照射的光来进行准直的情况下，有根据限制部件的结构导致透射限制部件的光扩散的情况。因此，在记录于感光性记录介质的记录图像中，有成为浓度差变小且图像的边缘部分的可见性降低的所谓的产生模糊的图像的情况。
[0006]在上述日本特开2009
‑
37011号公报及美国专利第9126396号说明书中所记载的技术中，有无法抑制因透射限制部件的光的扩散而产生的记录图像的模糊的情况。
[0007]尤其，在试图抑制在记录图像中产生所谓的灰度跳跃的情况下，颜色浓淡的变化降低，其结果，有导致记录图像变模糊的情况。
[0008]本专利技术是鉴于这种情况而完成的，提供一种能够抑制记录图像的模糊且能够抑制灰度跳跃的图像曝光装置、图像曝光方法及程序。
[0009]用于解决技术课题的手段
[0010]本专利技术的第1方式的图像曝光装置具备：图像显示装置，具有多个像素；支撑部，使记录图像显示装置中所显示的图像的感光性记录介质的曝光面与图像显示装置对置而支撑感光性记录介质；限制部件，设置于图像显示装置与支撑部之间，并且限制从图像显示装置照射到感光性记录介质的光的角度；图像生成部，通过强调被输入的图像数据所表示的彩色的输入图像的高频分量的浓度差，生成使输入图像的画质劣化的显示图像；及控制部，从显示图像生成R分量的图像、G分量的图像及B分量的图像，并且使R分量的图像、G分量的图像及B分量的图像各自以预先规定的顺序依次显示于图像显示装置，从而进行使感光性
记录介顾依次曝光的控制。
[0011]并且，根据第1方式的图像曝光装置，本专利技术的第2方式的图像曝光装置按照RGB的每个颜色规定用于使感光性记录介质曝光的总光量，控制部以与图像显示装置中所显示的RGB各自的颜色的光的最大光量和总光量相应的曝光时间，进行利用R分量的图像、G分量的图像及B分量的图像的各个图像依次使感光性记录介质曝光的控制。
[0012]并且，根据第2方式的图像曝光装置，本专利技术的第3方式的图像曝光装置的总光量根据从图像显示装置照射的光的光谱特性和感光性记录介质的光谱灵敏度来规定。
[0013]并且，根据第1方式至第3方式中的任一方式的图像曝光装置，本专利技术的第4方式的图像曝光装置的多个像素各自包括分别与RGB对应的子像素。
[0014]并且，根据第1方式至第5方式中的任一方式的图像曝光装置，本专利技术的第5方式的图像曝光装置的限制部件可以为漫射光学系统的光学部件。
[0015]并且，根据第5方式的图像曝光装置，本专利技术的第6方式的图像曝光装置的光学部件为百叶窗式薄膜，所述百叶窗式薄膜为在与图像显示装置的像素的排列面平行的面上的第1方向上交替地配置有透射光的第1透光部及遮蔽光的第1遮光部，并且在与第1方向不平行且面上的第2方向上交替地配置有透射光的第2透光部及遮蔽光的第2遮光部。
[0016]并且，根据第5方式的图像曝光装置，本专利技术的第7方式的图像曝光装置的光学部件为百叶窗式薄膜，所述百叶窗式薄膜为在与图像显示装置的像素的排列面平行的面上的第1方向上交替地配置有透射光的第1透光部及遮蔽光的第1遮光部，并且在与第1方向垂直且面上的第2方向上交替地配置有透射光的第2透光部及遮蔽光的第2遮光部。
[0017]并且，根据第6方式或第7方式的图像曝光装置，本专利技术的第8方式的图像曝光装置的百叶窗式薄膜中层叠有第1层及第2层，所述第1层仅在第1方向上交替地配置有第1透光部及第1遮光部，所述第2层仅在第2方向上交替地配置有第2透光部及第2遮光部。
[0018]并且，根据第8方式的图像曝光装置，本专利技术的第9方式的图像曝光装置的第1层的第1遮光部具有沿第2方向隔开预先规定的间隔而配置的多个第1遮光部件，第2层的第2遮光部具有沿第1方向隔开预先规定的间隔而配置的多个第2遮光部件。
[0019]并且，根据第8方式至第9方式中的任一方式的图像曝光装置，本专利技术的第10方式的图像曝光装置的控制部通过钝化掩模处理来强调高频分量的浓度差。
[0020]并且，根据第10方式的图像曝光装置，本专利技术的第11方式的图像曝光装置中，在将钝化掩模处理的权重设为y，并且将用于钝化掩模处理的二维高斯分布度标准偏差设为x的情况下，满足下述(1)式。
[0021]‑
0.1
×
x+0.50＜y＜
‑
0.1
×
x+1.00
……
(1)
[0022]并且，根据第10方式或第11方式的图像曝光装置，本专利技术的第12方式的图像曝光装置中，在将钝化掩模处理的权重设为y，将用于钝化掩模处理的二维高斯分布度标准偏差设为x，并且将图像显示装置的分辨率设为Xppi(pixel per inch，每英寸像素)的情况下，满足下述(2)式。
[0023]‑
0.1
×
x
×
(X
÷
325)+0.50＜y＜
‑
0.1
×
x
×
(X
÷
325)+1.00
……
(2)
[0024]并且，根据第1方式至第12方式中的任一方式的图像曝光装置，本专利技术的第13方式的图像曝光装置还具备：接受部，关于感光性记录介质的曝光，接受进行如下之中的哪种曝光的指示，即，将显示图像的R分量的图像、G分量的图像及B分量的图像一并显示于图像显
示装置而对感光性记录介质进行曝光的一并曝光以及依次曝光，在接受部接受到用于进行一并曝光的指示的情况下，控制部进行使感光性记录介质一并曝光的控制，并且在接受部接受到用于进行依次曝光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种图像曝光装置，其具备：图像显示装置，具有多个像素；支撑部，使记录所述图像显示装置中所显示的图像的感光性记录介质的曝光面与所述图像显示装置对置而支撑所述感光性记录介质；限制部件，设置于所述图像显示装置与所述支撑部之间，并且限制从所述图像显示装置照射到所述感光性记录介质的光的角度；图像生成部，通过强调被输入的图像数据所表示的彩色的输入图像的高频分量的浓度差，生成使所述输入图像的画质劣化的显示图像；及控制部，从所述显示图像生成R分量的图像、G分量的图像及B分量的图像，并且使所述R分量的图像、所述G分量的图像及所述B分量的图像各自以预先规定的顺序依次显示于所述图像显示装置，从而进行使所述感光性记录介质依次曝光的控制。2.根据权利要求1所述的图像曝光装置，其中，按照RGB的每个颜色规定用于使所述感光性记录介质曝光的总光量，所述控制部以与所述图像显示装置中所显示的RGB各自的颜色的光的最大光量和所述总光量相应的曝光时间，进行利用所述R分量的图像、所述G分量的图像及所述B分量的图像的各个图像依次使所述感光性记录介质曝光的控制。3.根据权利要求2所述的图像曝光装置，其中，所述总光量根据从所述图像显示装置照射的光的光谱特性和所述感光性记录介质的光谱灵敏度来规定。4.根据权利要求1至3中任一项所述的图像曝光装置，其中，所述多个像素各自包括分别与RGB对应的子像素。5.根据权利要求1至4中任一项所述的图像曝光装置，其中，所述限制部件为漫射光学系统的光学部件。6.根据权利要求5所述的图像曝光装置，其中，所述光学部件为百叶窗式薄膜，所述百叶窗式薄膜在与所述图像显示装置的像素的排列面平行的面上的第1方向上交替地配置有透射光的第1透光部及遮蔽光的第1遮光部，并且在与所述第1方向不平行且所述面上的第2方向上交替地配置有透射光的第2透光部及遮蔽光的第2遮光部。7.根据权利要求5所述的图像曝光装置，其中，所述光学部件为百叶窗式薄膜，所述百叶窗式薄膜在与所述图像显示装置的像素的排列面平行的面上的第1方向上交替地配置有透射光的第1透光部及遮蔽光的第1遮光部，并且在与所述第1方向垂直且所述面上的第2方向上交替地配置有透射光的第2透光部及遮蔽光的第2遮光部。8.根据权利要求6或7所述的图像曝光装置，其中，所述百叶窗式薄膜层叠有第1层及第2层，所述第1层仅在所述第1方向上交替地配置有所述第1透光部及所述第1遮光部，所述第2层仅在所述第2方向上交替地配置有所述第2透光部及所述第2遮光部。9.根据权利要求8所述的图像曝光装置，其中，所述第1层的所述第1遮光部具有沿所述第2方向隔开预先规定的间隔而配置的多个第
1遮光部件，所述第2层的所述第2遮光部具有沿所述第1方向隔开预先规定的间隔而配置的多个第2遮光部件。10.根据权利要求1至9中任一项所述的图像曝光装置，其中，所述控制部通过钝化掩模处理来强调所述高频分量的浓度差。11.根据权利要求10所述的图像曝光装置，其中，在将所述钝化掩模处理的权重设为y，并且将所述钝化掩模处理中所使用的二维高斯分布度标准偏差设为x的情况下，满足下述(1)式，
‑
0.1
×
x+0.50＜y＜
‑
0....

【专利技术属性】
技术研发人员：吉泽宏俊，园田慎一郎，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：