【技术实现步骤摘要】
一种同时提高双面PERC背面及正面效率的背膜结构及其制备方法和应用
[0001]本专利技术属于太阳能电池
,涉及一种同时提高双面PERC背面及正面效率的背膜结构及其制备方法和应用。
技术介绍
[0002]近年来,随着太阳能电池片生产技术不断进步,目前主要研究热点有HIT电池、WMT电池、N型双面电池、P型PERC电池等,其中P型PERC电池因其工艺相对成熟,量产难度低,已成为市场主流电池技术。双面PERC太阳电池较其它新型电池的正面效率低,主流厂商其双面组件双面率为65-75%,迫切需要进一步提升双面PERC太阳电池的正面和背面效率。因此改进背面膜层结构以及优化镀膜工艺,降低电池片背面的反射率,增加光的吸收,提升P型双面PERC电池的背面转换效率,提高P型双面PERC电池的双面率,是目前行业所关注的重点。
[0003]CN110957378A公开了一种提升P型双面电池双面率的背膜结构,包括电池片,电池片的背面依次沉积有氧化铝膜、氮化硅膜、氮氧化硅膜、氧化硅膜,氮化硅膜包括上层氮化硅膜、中层氮化硅膜、下层氮化硅膜 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种同时提高双面PERC背面及正面效率的背膜结构,其特征在于,所述背膜结构包括位于电池片背面的氧化铝薄膜,在氧化铝薄膜上设有氮化硅薄膜,在氮化硅薄膜上设有氮氧化硅薄膜。2.根据权利要求1所述的背膜结构,其特征在于,所述氧化铝薄膜的厚度为5~15nm,折射率为1.55~1.63;优选地,所述氧化铝薄膜的厚度为8~10nm,折射率为1.56。3.根据权利要求1或2所述的背膜结构,其特征在于,所述氮化硅薄膜的厚度为20~90nm,折射率为2.05~2.4;优选地,所述氮化硅薄膜的厚度为60~80nm,折射率为2.1~2.4。4.根据权利要求1-3中任一项所述的背膜结构,其特征在于,所述氮氧化硅薄膜的厚度为20~90nm,折射率为1.6~2.0;优选地,所述氮氧化硅薄膜的厚度为40~60nm,折射率为1.8。5.根据权利要求1-4中任一项所述的背膜结构,其特征在于,所述氧化铝薄膜、氮化硅薄膜和氮氧化硅薄膜的总厚度为80~160nm,总折射率为2.0~2.35。6.根据权利要求1-5中任一项所述的背膜结构,其特征在于,所述背膜结构在300nm~1200nm波长范围内反射率曲线最低点位于650~1000nm;优选地,所述背膜结构在300nm~1200nm波长范围内反射率曲线最低点位于850~950nm。7.根据权利要求1-6中任一项所述的背膜结构,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹芳,叶晓亚,周思洁,邹帅,王栩生,
申请(专利权)人:阿特斯阳光电力集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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