原料供给装置和原料供给方法制造方法及图纸

本发明专利技术的一种方式的原料供给装置具有：贮存使第一固体原料溶解于溶剂而成的溶液或使第一固体原料分散于分散介质而成的分散体系的容器；通过从贮存在上述容器内的上述溶液或上述分散体系中除去上述溶剂或上述分散介质而形成第二固体原料的除去部；检测上述溶剂或上述分散介质从上述溶液或上述分散体系的除去已完成的检测部；和对上述第二固体原料进行加热的加热部。加热的加热部。加热的加热部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】原料供给装置和原料供给方法


[0001]本专利技术涉及原料供给装置和原料供给方法。

技术介绍

[0002]已知在将液体原料喷雾、使其气化而在基板表面形成半导体元件用的薄膜时，确认液体原料在通过喷雾使液体原料气化的液体原料气化机构中填充至能够喷雾的位置的技术(例如，参照专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开平11
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293463号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的技术课题
[0007]本专利技术提供能够检测溶液或分散体系中所含的溶剂或分散介质与固体原料的分离已完成的技术。
[0008]用于解决技术课题的技术手段
[0009]本专利技术的一个方式的原料供给装置具有：贮存使第一固体原料溶解于溶剂而成的溶液或使第一固体原料分散于分散介质而成的分散体系的容器；通过从贮存在上述容器内的上述溶液或上述分散体系中除去上述溶剂或上述分散介质而形成第二固体原料的除去部；检测上述溶剂或上述分散介质从上述溶液或上述分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种原料供给装置，其特征在于，具有：容器，其用于贮存使第一固体原料溶解于溶剂而成的溶液或使第一固体原料分散于分散介质而成的分散体系；除去部，其用于通过从贮存在所述容器内的所述溶液或所述分散体系中除去所述溶剂或所述分散介质而形成第二固体原料；检测部，其用于检测所述溶剂或所述分散介质从所述溶液或所述分散体系的除去已完成；和加热部，其用于对所述第二固体原料进行加热。2.如权利要求1所述的原料供给装置，其特征在于：所述除去部包括用于对所述容器内进行排气的排气装置，所述检测部设置于将所述容器与所述排气装置连接的配管。3.如权利要求1或2所述的原料供给装置，其特征在于：所述检测部包括QMS、QCL、OES、压力计中的至少任一个。4.如权利要求1～3中任一项所述的原料供给装置，其特征在于：所述原料供给装置还具有设置在所述容器内、用于贮存所述溶液或所述分散体系的多个贮存部。5.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：村上诚志，冈部庸之，小森荣一，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：