一种界面超组装聚脲/多孔材料/氧化铝功能膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种界面超组装聚脲/多孔材料/氧化铝功能膜的制备方法，该方法首先是通过界面超组装方法在AAO基底上生长了一层有序的介孔二氧化硅层。由于介孔二氧化硅层具有超常的亲水性，且陶瓷膜易脆的性质限制了其实际应用价值。聚脲作为一种防水超强的涂料，可以用于改善膜表面的性质。本专利是在MS/AAO基底，通过二次界面超组装方法在MS/AAO基底上生长了一层聚脲涂层，可以很好地改善MS/AAO复合膜的表面性质。本发明专利技术采用两次界面超组装方法制备得到了PMSA复合膜，具有潜在的实际应用价值。值。值。

【技术实现步骤摘要】
一种界面超组装聚脲/多孔材料/氧化铝功能膜的制备方法


[0001]本专利技术属于膜科学
，具体涉及一种界面超组装聚脲/多孔材料/氧化铝功能膜的制备方法。

技术介绍

[0002]近年来，含有纳米尺寸通道的膜材料是构建纳流控离子传输器件的理想材料。目前很多膜材料主要是基于相分离方法制备得到的聚合物膜，一般具有相对疏松且不规整的孔道，在可控的离子传输领域受到了限制。反观，有序介孔薄膜因其具有规整的孔径，可调节的孔道尺寸以及可控的膜厚度得到了广泛的关注。相比较于其他的纳米通道膜材料，介孔具有高的孔隙率以及规整的孔结构，但是这也导致介孔薄膜的机械性能比较差。针对于此问题，目前仍然没有很好的解决方法。
[0003]专利CN111766285A公开了一种PDDA修饰的介孔氧化硅/阳极氧化铝膜、超组装制备方法及应用，以F127和TEOS为原料制备介孔氧化硅前驱体溶液，采用旋涂的方法，在堵好孔的AAO基底上制备一层超薄的介孔氧化硅涂层；经过蒸发诱导自组装过程，得到规整排列有序的介孔氧化硅框架；煅烧除去模板剂F127和PMMA之后，得到MS/AAO膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种界面超组装聚脲/多孔材料/氧化铝功能膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)采用界面超组装方法在AAO基底上生长一层有序的介孔氧化硅薄膜，得到介孔氧化硅/氧化铝(MS/AAO)复合膜；(2)配置合成聚脲单体的水油相溶液；(3)将PEI滴加到MS/AAO膜表面，并将水分挥发至干；(4)将TDI溶液滴加到含有PEI聚合物链的MS/AAO表面，两相之间的氨基与异氰酸酯发生界面聚合反应，生成致密的聚脲薄膜，得到具有高机械性能的PMSA复合膜。2.根据权利要求1所述的一种界面超组装聚脲/多孔材料/氧化铝功能膜的制备方法，其特征在于，步骤(1)具体包括以下步骤：(1
‑
1)采用聚甲基丙烯酸甲酯对AAO进行堵孔处理；(1
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2)将聚甲基丙烯酸甲酯溶液旋涂到AAO基底上；(1
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3)旋涂后的PMMA/AAO膜干燥，确保PMMA渗透到AAO孔内；(1
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4)配制介孔氧化硅的前驱体溶液，60℃下预聚合；(1
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5)配制F127模板剂溶液；(1
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6)将预聚合的介孔氧化硅滴加到F127模板剂溶液中，室温下搅拌，得到最终的介孔氧化硅前驱体溶液；(1
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7)将介孔氧化硅前驱体溶液旋涂到堵孔的AAO基底上；(1
‑
8)在40℃下蒸发诱导自组装24h，100℃下热聚合24h，得到最终的介孔氧化硅/氧化铝(MS/AAO)复合膜。3.根据权利要求2所述的一种界面超组装聚脲/多孔材料/氧化铝功能膜的制备方法，其特征在于，步骤(1
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1)具体方法为：将2.3
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2.7g的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)溶解到23ml
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27ml的丙酮溶液中，40
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45℃加热搅拌至溶解。4.根据权利要求2所述的一种界面超组装聚脲/多孔材料/氧化铝功能膜的制备方法，其特征在于，步骤(1
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2)旋涂转速为3000
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3500转，旋涂时间为30
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40秒。5.根据权利要求2所述的一种界面超组装聚脲/多孔材料/氧化铝功能膜的制备方法，其特征在于，步骤(1
‑
3)旋涂后的PMMA/AAO膜在通风橱中干燥两个小时，之后在200℃的烘箱中5
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【专利技术属性】
技术研发人员：孔彪，周姗，曾洁，谢磊，何彦君，
申请(专利权)人：复旦大学，
类型：发明
国别省市：