【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表征激光处理系统的激光辐射的方法、光阑装置和激光处理系统
[0001]要求保护的实施方式涉及用于表征激光处理系统的激光辐射的方法、光阑装置和尤其用于对眼睛进行眼科手术激光处理系统。因此，实施方式涉及用于眼科手术的激光处理系统的领域。
技术介绍
[0002]人眼屈光不正通常会归因于眼睛的屈光效果有缺陷。例如，该屈光不正会由角膜扭曲引起。在许多情况下，屈光不正的原因能够借助于眼科或屈光手术来消除或减少。为了执行这种屈光手术治疗、即例如屈光角膜手术，通常使用准分子激光器，借助于准分子激光器从待校正的角膜去除材料，以便为角膜设有期望的屈光效果。不言而喻，必须非常精确地进行屈光效果的矫正，以实现令人满意的治疗结果，其中，矫正实现期望的屈光效果。
[0003]为了在借助于准分子激光器的激光辐射从角膜去除材料时实现所需的精度，以及出于监管原因，需要定期表征或检查实际的材料去除，借助激光辐射引起材料去除。激光辐射通常以脉冲形式存在，使得通过激光辐射进行的材料去除典型地作为每激光脉冲或“轰击”或针对预定的脉冲序列或轰击序列(激光脉冲数...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于表征激光处理系统(30)的至少一个激光辐射(24)的方法，所述方法包括：a)在所述激光处理系统(30)的工作平面(300)中提供具有多个光阑开口(14)的光阑装置(10)，使得光阑开口(14)在所述工作平面(300)内延伸；b)沿平行于所述工作平面(300)的扫描方向(200)在所述光阑装置(10)之上扫描所述激光辐射(24)，使得所述激光辐射(24)在时间上依次至少部分扫过光阑开口(14)中的至少两个光阑开口；c)求出所述激光辐射(24)的在扫描过程期间分别通过所述光阑开口(14)传送的能量；d)根据所述激光辐射(24)的求出的、通过多个光阑开口(14)的第一光阑开口(14a)传送的能量确定沿所述扫描方向(200)的所述激光辐射(14)的扩展，并且根据所述激光辐射(24)的求出的、通过多个光阑开口(14)的第二光阑开口(14b)传送的能量确定所述激光辐射(24)的能量参数；其中，所述第一光阑开口(14a)具有沿所述扫描方向(200)的预定的扩展，该扩展小于所述激光辐射(24)在所述工作平面(300)中的平均直径，并且其中，第二光阑开口(14b)具有的扩展大于在所述工作平面(300)中的所述激光辐射(24)并且设计用于基本上完全地传送所述激光辐射(24)。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光阑装置(10)还包括多个所述光阑开口(14)的第三光阑开口(14a)，所述第三光阑开口沿所述扫描方向(200)具有小于所述激光辐射(24)在所述工作平面(300)中的平均直径的预定的扩展，并且所述第三光阑开口沿所述扫描方向(200)距所述第一光阑开口(14a)以预定的间距(100a，100b)布置，并且其中，所述方法还包括：
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利用所述第三光阑开口(14a)距所述第一光阑开口(14a)的预定的间距(100a，100b)确定所述激光处理系统(30)的调整参数。3.根据权利要求2所述的方法，其中，还根据所述激光辐射(24)的求出的、通过所述第三光阑开口(14a)传送的能量来确定所述激光辐射(24)沿所述扫描方向(200)的扩展，并且可选地包括形成所述激光辐射(24)的根据所述第一光阑开口和所述第三光阑开口(14a)求出的扩展的平均值。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述激光辐射(24)在第一扫描部段中和在第二扫描部段中进行扫描，其中，所述第一扫描部段中的扫描方向(200)沿平行于所述工作平面(300)的第一维度伸展，并且所述第二扫描部段中的扫描方向(200)沿平行于所述工作平面(300)的第二维度伸展。5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述第一光阑开口(14a)在所述第一扫描部段中沿所述扫描方向(200)具有预定的扩展，并且其中，所述光阑装置(10)具有多个光阑开口(14)的附加光阑开口(14a)，所述附加光阑开口在所述第二扫描部段中沿所述扫描方向(200)具有小于所述激光辐射(24)在所述工作平面(300)中的平均直径的预定的扩展。6.根据权利要求5所述的方法，其中，多个光阑开口(14)对于每个扫描部段包括至少两个光阑开口(14a)，所述至少两个光阑开口沿相应的扫描方向具有小于所述激光辐射(24)在所述工作平面(300)中的平均直径的预定的扩展，并且沿相应的扫描方向(200)彼此以预定的间距(100a，100b)布置。7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，借助所述方法进行所述激光辐射的
表征和所述激光处理系统(30)的瞄准激光辐射的表征。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括利用所述激光辐射(24)的求出的扩展和所述激光辐射(24)的求出的能量参数来确定所述激光辐射(30)在所述工作平面(300)中的注量和/或强度。9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括调整激光参数并且在调整所述激光参数之后重复执行步骤b)至d)。10.一种用于表征激光处理系统(30)的激光辐射(24)的光阑装置(10)，其中，所述光阑装置(10)能够布置在所述激光处理系统(30)的工作平面(300)中，所述光阑装置包括：
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具有多个光阑开口(14)的光阑(12)；
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多个光阑开口(14)的第一光阑开口(14a)，所述第一光阑开口沿所述激光辐射(24)的扫描方向(200)具有小于要检查的所述激光辐射(24)在所述工作平面(300)中的平均直径的预定的扩展；
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多个光阑开口(14)的第二光阑开口(14b)，所述第二光阑开口具有大于要检查的所述激光辐射(24)的扩展，并且设计用于基本上完全地传送所述激光辐射(24)；
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至少一个光电探测器(16)，所述光电探测器布置为，使得能够借助于所述光电探测器(16)探测所述激光辐射(24)的在所述工作平面(300)中通过光阑开口(14)传送的至少一部分。11.根据权利要求10所述的光阑装置(10)，其中，所述光阑装置(10)设计用于吸收和/或反射所述激光辐射(24)的未通过光阑开口(14)传送的部分。12.根据权利要求10或11所述的光阑装置(10)，其中，所述第一光阑开口(14a)缝隙形地构造，并且所述预定的扩展对应于缝隙的预定的宽度，和/或其中，所述第二光阑开口(14b)构造为圆孔并且具有基本上对应于所述激光辐射(24)的扩展的扩展。13.根据权利要求10至12中任一项所述的光阑装置(10)，其中，所述光阑装置(10)具有多个缝隙形的光阑开口(14a)，所述缝隙形的光阑开口具有对应于预定的扩展的预定的宽度，并且所述缝隙形的光阑开口分别成对地彼此以预定的间距(100a，100b)布置。14.根据权利要求10至13中任一项所述的光阑装置(10)，其中，所述光阑(12)和所述光电探测器(16)平行地彼此上下地构造，并且可选地，所述光阑(12)和瞄准激光探测器平行地彼此上下地构造。15.一种用于借助于激光辐射(24)在工作平面(300)中处理物体的激光处理系统(30)，所述激光处理系统包括：
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用于提供激光辐射(24)的激光源(32)；
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偏离装置(36)，能够借助所述偏离装置将所述激光辐射(24)在所述工作平面(300)内垂直于所述激光辐射的传播方向移动；
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根据权利要求7至10中任一项所述的光阑装置(10)，其中，所述光阑装置(10)为了表征所述激光辐射(24)而能够布置在所述激光处理系统(30)中，使得光阑开口(14)布置在所述工作平面(300)中。16.根据权利要求15所述的激光处理系统(30)，其中，所述激光处理系统(30)设置用于：
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借助于所述偏离装置(36)沿平行于所述工作平面(300)的扫描方向(200)在所述光阑装置(10)之上扫描所述激光辐射(24)，使得所述激光辐射(24)至少部分地扫过光阑开口(14)；
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借助于光电探测器(16)在扫描过程期间求出所述激光辐射(24)的分别通过光阑开口(14)传送的能量；
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根据所述激光辐射(24)的求出的、通过所述第一光阑开口(14a)传送的能量确定所述激光辐射(24)沿所述扫描方向(200)的扩展；和
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根据所述激光辐射(24)的求出的、通过所述第二光阑开口传送的能量确定所述激光辐射(24)的能量参数。17.根据权利要求16所述的激光处理系统(30)，其中，所述激光处理系统(30)构造为用于对眼睛进行眼科手术的激光治疗系统。18.一种用于表征激光处理系统(30)的激光辐射(24)的方法，包括：a)在所述激光处理系统的工作平面中提供具有光阑开口的光阑装置，使得所述光阑开口在工作平面内延伸，其中，所述光阑装置具有至少两个以预定间距相对置的、且平行伸展的开口边缘，该开口边缘界定所述光阑开口，并且所述光阑开口大于在所述工作平面中的激光辐射并且设计用于基本上完全地传送所述激光辐射；b)沿平行于所述工作平面的扫描方向在所述光阑装置上扫描所述激光辐射，使得所述激光辐射在时间上依次分别至少部分地扫过两个开口边缘的第一开口边缘、所述光阑开口和两个开口边缘的第二开口边缘；c)求出所述激光辐射的在扫描过程期间通过所述光阑开口传送的能量；d)根据在通过所述激光辐射扫过所述第一开口边缘和/或所述第二开口边缘时传送的能量的曲线确定所述激光辐射沿所述扫描方向的扩展，并且确定基本上完全通过所述光阑开口传送的所述激光辐射的能量参数；e)根据通过所述激光辐射扫过以预定间距布置的开口边缘来确定所述激光处理系统的调整参数。19.一种用于表征激光处理系统(1000)的激光辐射(1002)的方法，所述方法包括以下步骤：
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确定所述激光辐射(1002)的能量参数；
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在所述激光处理系统(1000)的工作平面(2000)中提供校准装置(1014)，并且在与使用所述激光辐射(1002)对处理对象进行处理的相同的条件下，对校准装置(1014)施加所述激光辐射(1002)；
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借助于在所述工作平面(2000)中的校准装置(1014)求出校准参数；
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在所述工作平面(2000)外的控制平面(2002)中提供校准装置(1014)并且偏转所述激光辐射(1002)，使得对所述控制平面(2000)中的校准装置(1014)施加所述激光辐射(1002)；
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借助于在所述控制平面(2002)中校准装置(1014)求出控制参数；
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确定表征所述校准参数与所述控制参数之间的偏差的偏差系数；
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利用所述偏差系数借助于所述控制平面(2002)中的校准装置(1002)表征所述激光辐射(1002)。
20.根据权利要求19所述的方法，其中，校准装置(1014)具有根据权利要求10至1...
【专利技术属性】
技术研发人员：克里斯蒂安，
申请(专利权)人：卡尔蔡司医疗技术股份公司，
类型：发明
国别省市：
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