2D/3D可转换的透镜阵列、集成成像显示及采集装置制造方法及图纸

本申请涉及一种适用于集成成像的2D/3D可转换的透镜阵列，及应用该透镜阵列的2D/3D可转换的集成成像显示装置和子图采集装置。其中的透镜阵列包括超透镜阵列，由多个超透镜组成，所述超透镜包括基底和纳米结构；相变材料层，填充于所述超透镜的表面，并能够根据加载的电压改变折射率；所述纳米结构组成结构单元。集成成像显示装置包括上述透镜阵列及子图阵列；子图采集装置包括上述透镜阵列及感光阵列。本申请技术方案能够减少色差，提高成像质量，便于2D/3D转换成像。便于2D/3D转换成像。便于2D/3D转换成像。

【技术实现步骤摘要】
2D/3D可转换的透镜阵列、集成成像显示及采集装置


[0001]本申请涉及显示
，具体涉及一种适用于集成成像的透镜阵列，及包含有该透镜阵列的集成成像显示装置和子图采集装置。

技术介绍

[0002]集成成像技术是一种自由立体显示技术，利用微透镜阵列将子图(elemental image)阵列会聚到一个二维显示平板上，从而重现出三维场景，实现三维成像。该技术可以让观察者无需佩戴任何辅助设备，例如立体眼镜，就可以观看立体图像。
[0003]现有的集成成像技术，容易产生色差，影响成像的质量，另一方面，在需要转换2D/3D图像显示时较为复杂。

技术实现思路

[0004]针对现有技术中存在的问题，本申请提供了一种适用于集成成像的透镜阵列，及包括有该透镜阵列的集成成像显示装置和子图采集装置，以提升集成成像的质量和实现便捷的2D/3D的转换。
[0005]本申请第一方面提供一种透镜阵列，包括：
[0006]超透镜阵列，由多个超透镜组成，所述超透镜包括基底和设置在基底表面的纳米结构；
[0007]相变材料层，覆盖本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种2D/3D可转换的透镜阵列，其特征在于，包括：超透镜阵列，由多个超透镜组成，所述超透镜包括基底和设置在所述基底表面的纳米结构；相变材料层，覆盖于所述超透镜的表面，并能够根据加载的电压改变折射率；其中，所述纳米结构组成至少一个结构单元。2.根据权利要求1所述的透镜阵列，其特征在于，所述相变材料层具体为GST层，能够在加载预设电压时，使自身折射率变化为与对应位置的超透镜折射率相同。3.根据权利要求1或2所述的透镜阵列，其特征在于，所述相变材料层填充于所述纳米结构之间。4.根据权利要求1所述的透镜阵列，其特征在于，所述结构单元呈阵列排布，排布周期为200nm～1500nm。5.根据权利要求4所述的透镜阵列，其特征在于，所述结构单元为正六边形，所述正六边形各顶点和中心位置至少设置有一个纳米结构。6.根据权利要求4所述的透镜阵列，其特征在于，所述结构单元为正方形，所述正方形各顶点和中心位置至少设置有一个纳米结构。7.根据权利要求4所述的透镜阵列，其特征在于，所述结构单元为扇形，所述扇形各顶点和中心位置至少设置有一个纳米结构。8.一种2D/3D可转换的集成成像显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1～7任一项所述的透镜...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱瑞，郝成龙，谭凤泽，朱健，
申请(专利权)人：深圳迈塔兰斯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：