色心YAG晶体调制器制造技术

技术编号:3316192 阅读:119 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术色心钇铝石榴石晶体调制器属于光电技术领域。掺杂色心钇铝石榴石晶体切割成一定尺寸,两通光端面抛光,并镀增透膜和全反射膜,制成钕激光器Q开关和锁模元件,由于掺杂色心钇铝石榴石晶体机械强度高,热、光稳定性好,使之该调制器优于有机染料和色心LIF晶体Q开关。当采用强迫冷却条件下,掺杂色心钇铝石榴石晶体全反射膜上加防水层,输出激光平均功率达50瓦以上,对激光脉冲时域分布要求不高的场合,可代替电光Q开关和声光Q开关。(*该技术在2012年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术色心YAG晶体调制器属于光电
现有的调制器主要用做Q开关,现有的Q开关有声光Q开关、电光Q开关,有机染料开关和色心LIF晶体Q开关等四种类型。声光Q开关和电光Q开关为主动调制元件,必须用专用的电源驱动才能工作。有机染料Q开关和色心LIF晶体Q开关在结构和原理上与本专利技术色心YAG晶体调制器最接近,同属被动调制元件,工作时无须加任何驱动电源。有机染料Q开关根据不同使用要求可以有多种结构形式。将具有可饱和吸收特性的染料(如Eastman14015)溶于200%的氯乙烷溶液中,配制成钕激光器的Q开关溶液。装入有通光窗口的玻璃盒中,密封后制成Q开关染料盒;也可将染料掺入透明的塑料中压制成Q开关染料片。由于染料盒和染料片的有机染料受热和经紫外线照射后易分解,有机染料的光学密度会降低,因此必须定期更换,使用不变。色心LIF晶体Q开关利用色心LIF晶体制成,其饱和吸收激光波长为1微米左右,与本专利技术色心YAG晶体调制器基本相同,外形结构为板、块和柱状。但色心LIF晶体浓度不稳定,受热和长时间存放浓度降低,使Q开关性能发生变化,因此色心LIF晶体Q开关的应用受到一定限制。经光谱分析和激光试验发现掺杂色心YAG晶体具有饱和吸收特性。其饱和吸收激光波长为1微米左右,其机械强度高,热和光稳定性好,是代替有机染料Q开关和色心LIF晶体Q开关制作钕激光器Q开关和Q开关锁模元件的理想材料。本专利技术色心YAG晶体调制器利用掺杂色心YAG晶体的可饱和吸收特性制成。现结合附图说明图1图2对本专利技术叙述如下图1用于低平均功率的色心YAG晶体调制器。图2用于高平均功率的色心YAG晶体调制器。当本专利技术色心YAG晶体调制器运行时,本身的发热功率较小时,选用图1的结构形式,即色心YAG晶体调制器由一定尺寸的掺杂色心YAG晶体构成,置于钕激光器谐振腔内靠近全反射镜的一端。掺杂色心YAG晶体的通光端截面略大于激光工作物质的截面积;根据激光脉冲半宽度选择掺杂色心YAG晶体材料的初始透过率,由初始透过率选择通光长度L。一般所需的激光脉冲半宽度越窄,则掺杂色心YAG晶体初始透过率越低,通光长度也越长。为使掺杂色心YAG晶体在激光波长1微米左右具有可饱和吸收特性,必须经着色处理,即在空气中,将掺杂色心在空气中加热到600℃至1600℃高温后,自然冷却至常温。将掺杂色心YAG晶体切割成所需尺寸后,两通光端面研磨抛光,前通光端面镀增透膜,后通光端面镀增透膜或全反射膜。当本专利技术色心YAG晶体调制器运行时本身发热的功率较大时,选用图2的结构形式,即掺杂色心YAG晶体置于冷却套内,将用水冷或风冷,主要由掺杂色心YAG晶体、晶托和冷却套三大部分构成。掺杂色心YAG晶体3的尺寸选取和处理工艺同用于低平均功率的色心YAG晶体调制器的掺杂色心YAG晶体,当冷却采用水冷时,后通光端面的全反射膜上,用蒸发、喷涂等方法加防水层,形成全反射膜防水层5。晶托由前接头1和晶体座2构成,前接头1和晶体座2的轴线上开有通光孔,其截面积略大于掺杂色心YAG晶体3的通光端截面积,激光工作物质的截面积小于前接头1和晶体座2的通光孔截面积。前接头1和晶体座2的通光孔轴线与掺杂色心YAG晶体3的通光轴线相重合。掺杂色心YAG晶体3与晶体座2,以及晶体座2与前端头1间用防水胶固定和密封。前接头1与晶体座2材料为金属。冷却套由外壳4、喷咀6、出咀7和入咀8构成,之间用防水胶固定和密封。将用水冷或强迫风冷,从入咀8进入,经喷咀6喷射在掺杂色心YAG晶体3的全反射膜防水层5上,达到冷却目的,最后由出咀7流出。喷咀6的轴线与掺杂色心YAG晶体3的通光轴线重合。外壳4、喷咀6、出咀7和入咀8的材料为金属。本专利技术色心YAG晶体调制器按图1和图2结构可制成单和多激光脉冲输出的Q开关,也可制成钕激光器的Q开关,由于热和光稳定好,能长期安全可靠工作。完全可代替有机染料和色心LIF晶体Q开关,在冷却条件下,输出激光脉冲平均功率超过50W,可与电光Q开关和声光Q开关相比。可用于激光打孔、划片、测距和医疗等方面。按图1结构制成的色心YAG晶体调制器用于单脉冲激光输出时,掺杂色心YAG晶体3初始透过率为(10-40)%,通常长度4毫米至20毫米,经着色处理后,两通光端面抛光,前和后通光端面分别镀增透膜和全反射膜。可获得激光脉冲半宽度为9毫微秒至25毫微秒,最高峰值功率可达20兆瓦。按图2结构制成的色心YAG晶体调制器用于连续钕激光器中做Q开关和锁模元件时,将用水冷,水流量4升/分。其掺杂色心YAG晶体通光端直径φ8毫米,通光长度L为1.2毫米,经着色处理后,两通光端面抛光,前和后通光端面分别镀增透膜和全反射膜,并在全反射膜上加防水层。当泵浦功率为4千瓦时,多模激光输出(波长为1.06微米)如下平均功率大于50瓦。Q开关频率大于10千赫兹。Q开关脉冲半宽度180毫微秒左右。峰值功率达103瓦。Q开关调制深度为100%。锁模深度30%。激光总体转换效率大于1.3%。该色心YAG晶体调制器可用激光打孔、划片和医疗等方面。权利要求1.一种色心钇铝石榴石晶体调制器,属于光电
,由掺杂色心钇铝石榴石晶体3或由掺杂色心钇铝石榴石晶体3装入晶托和冷却套中构成。2.根据权利要求1所述的色心钇铝石榴石晶体调制器,其特征是掺杂色心钇铝石榴石晶体3的通光端截面大于激光工作物质截面;掺杂色心钇铝石榴石晶体3的高温处理工艺为在空气中加热到600℃至1600℃后,自然冷却;掺杂色心晶体两通光端面研磨抛光;后通光端面可以镀全反射膜5,在循环水冷却条件下,全反射膜5上加防水层。3.根据权利要求1所述的色心钇铝石榴石晶体调制器,其特征是晶托由前端头1和晶体座2构成,前端头1和晶体座2的内孔截面相等,并销大于掺杂色心钇铝石榴石晶体3截面,且与掺杂色心钇铝石榴石晶体3的轴线重合,三者间用防水胶固定和密封。4.根据权利要求1所述的色心钇铝石榴石晶体调制器,其特征是冷却套由外壳4、喷咀6、出咀7和入咀8构成,相互间用防水胶固定和密封,喷咀6内孔的轴线与掺杂色心钇铝石榴石晶体3的轴线重合,晶托和冷却套用防水胶固定和密封。全文摘要本专利技术色心钇铝石榴石晶体调制器属于光电
掺杂色心钇铝石榴石晶体切割成一定尺寸,两通光端面抛光,并镀增透膜和全反射膜,制成钕激光器Q开关和锁模元件,由于掺杂色心钇铝石榴石晶体机械强度高,热、光稳定性好,使之该调制器优于有机染料和色心LIF晶体Q开关。当采用强迫冷却条件下,掺杂色心钇铝石榴石晶体全反射膜上加防水层,输出激光平均功率达50瓦以上,对激光脉冲时域分布要求不高的场合,可代替电光Q开关和声光Q开关。文档编号H01S3/127GK1077060SQ92109778公开日1993年10月6日 申请日期1992年8月28日 优先权日1992年8月28日专利技术者姚广涛, 谷幼英, 桂尤喜 申请人:机电部第十一研究所本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种色心钇铝石榴石晶体调制器,属于光电技术领域,由掺杂色心钇铝石榴石晶体3或由掺杂色心钇铝石榴石晶体3装入晶托和冷却套中构成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:姚广涛谷幼英桂尤喜
申请(专利权)人:机电部第十一研究所
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利