反射部件及工艺腔室制造技术

本发明专利技术提供一种反射部件及工艺腔室，反射部件包括反射层结构，反射层结构包括至少一个反射层组，各反射层组均包括层叠设置的第一透光介质层和第二透光介质层，且第一透光介质层的折射率和第二透光介质层的折射率不同；第一透光介质层用于供光波入射并反射光波产生第一反射光，第二透光介质层用于反射光波产生第二反射光；第二透光介质层的厚度满足能够使第一反射光和第二反射光的光程差为光波的波长的整数倍。本发明专利技术提供的射部件及工艺腔室能够提高反射率，提高测温准确度，从而改善半导体工艺。工艺。工艺。

【技术实现步骤摘要】
反射部件及工艺腔室


[0001]本专利技术涉及半导体设备
，具体地，涉及一种反射部件及工艺腔室。

技术介绍

[0002]快速热处理(Rapid Thermal Processing，简称RTP)是一种升温速度非常快的热处理方式，可以用于半导体制造中例如离子注入后的杂质快速激活及快速热氧化等。由于快速热处理对于温度十分敏感，因此，快速热处理设备对于温度的控制要求很高，通常要求控温的精度在
±
2℃以内，这就对测温的准确性提出了很高的挑战。现有的一种快速热处理设备包括热处理腔室、红外卤素灯、反射板和红外测温仪，在实际应用中，晶圆放置于热处理腔室内，红外卤素灯位于晶圆上方，对晶圆进行加热，反射板位于晶圆下方，用于将晶圆背面(即，晶圆朝向反射板的一面)发出的热辐射光波反射向晶圆的背面，红外测温仪用于通过对晶圆的背面进行测温，来对晶圆进行测温。
[0003]由于红外测温仪的测温原理是以被测物体为理想黑体(吸收率和发射率均为1，也称绝对黑体)为前提的，而实际物体没有理想黑体，但红外测温仪有其自有的测量波长(也称敏感波长)，其它本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反射部件，其特征在于，包括反射层结构，所述反射层结构包括至少一个反射层组，各所述反射层组均包括层叠设置的第一透光介质层和第二透光介质层，且所述第一透光介质层的折射率和所述第二透光介质层的折射率不同；所述第一透光介质层用于供光波入射并反射所述光波产生第一反射光，所述第二透光介质层用于反射所述光波产生第二反射光；所述第二透光介质层的厚度满足能够使所述第一反射光和所述第二反射光的光程差为所述光波的波长的整数倍。2.根据权利要求1所述的反射部件，其特征在于，所述第一透光介质层的折射率小于所述第二透光介质层的折射率。3.根据权利要求1所述的反射部件，其特征在于，所述反射层结构包括多个所述反射层组，多个所述反射层组依次层叠设置。4.根据权利要求1所述的反射部件，其特征在于，所述第二透光介质层的厚度为所述光波的波长的四分之一。5.根据权利要求1所述的反射部件，其特征在于，所述第一透光介质层包括硅的氧化物薄膜。6.根据权利要求1所述的反射部件...

【专利技术属性】
技术研发人员：王石，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：