含过硫酸成分的硫酸溶液中的氧化剂浓度降低的抑制方法技术

本发明专利技术向作为氧化剂含过一硫酸、过一硫酸盐、过二硫酸或过二硫酸盐等过硫酸成分且存在促进该氧化剂浓度降低的杂质的硫酸溶液中，添加具有由苯环与含氮杂环稠合而成的结构的杂环式化合物。在此，优选具有由苯环与含氮杂环稠合而成的结构的杂环式化合物为苯并三唑系化合物。另外，优选促进氧化剂浓度降低的杂质是从铜离子、铁离子、硝酸离子和亚硝酸离子中选择的一种以上。本发明专利技术的含过硫酸成分的硫酸溶液中的氧化剂浓度降低的抑制方法，即使混入引起氧化剂浓度降低的杂质，也能将氧化剂浓度的降低抑制到最小限度。的降低抑制到最小限度。的降低抑制到最小限度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含过硫酸成分的硫酸溶液中的氧化剂浓度降低的抑制方法


[0001]本专利技术涉及一种抑制含过硫酸成分的硫酸溶液中的氧化剂浓度降低的方法，所述含过硫酸成分的硫酸溶液用于金属、硅、玻璃、塑料等各种材料的表面清洗或表面改性处理。

技术介绍

[0002]含过一硫酸、过一硫酸盐、过二硫酸、过二硫酸盐等过硫酸成分的硫酸溶液具有非常强的氧化性。利用该强氧化性，用于金属、硅、玻璃、塑料等各种材料的表面清洗或表面改性。
[0003]例如，在专利文献1中记载了一种多孔质膜的制造方法，其具有以下工序：使含硫酸的处理液在电解池中相对金属材料进行循环流通以生成过硫酸，在氧化还原电位设为+1.5～+3.5V的处理液中对铝膜进行阳极氧化，从而在该铝膜中形成细孔。另外，在专利文献2中记载了一种硫酸循环型清洗系统，在用剥离效果高的过硫酸溶液清洗剥离附着于硅晶片等的污染物等时，在重复利用硫酸溶液的同时再生过硫酸并用于清洗。此外，在专利文献3中记载了一种作为镀敷的前处理的塑料表面处理方法，其中，用溶解了过硫酸盐的硫酸浓度为50～92重量％且过硫酸浓度为3～20g/L的溶液处理本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种含过硫酸成分的硫酸溶液中的氧化剂浓度降低的抑制方法，其中，其是抑制硫酸溶液中的氧化剂浓度降低的方法，所述硫酸溶液作为氧化剂含过硫酸成分且存在促进该氧化剂浓度降低的杂质，向存在所述促进氧化剂浓度降低的杂质的所述硫酸溶液中添加杂环式化合物，该杂环式化合物具有由苯环与含氮杂环稠合而成的结构。2.如权利要求1所述的含过硫酸成分的硫酸溶液中的氧化剂浓度降低的抑制方法，其中，所述过硫酸成分是从过一硫酸...

【专利技术属性】
技术研发人员：井芹一，山川晴义，山本裕都喜，
申请(专利权)人：栗田工业株式会社，
类型：发明
国别省市：