用于不同基板的共同静电吸盘制造技术

公开了一种用于静电吸附各种基板材料的设备、方法和控制器。本公开内容的一些实施例提供具有可变极性和/或电压的静电吸盘。本公开内容的一些实施例提供了能够用作单极性和双极性静电吸盘的静电吸盘。本公开内容的一些实施例提供了双极性静电吸盘，双极性静电吸盘能够补偿基板偏压并且在不同电极处产生大约相等的吸附力。相等的吸附力。相等的吸附力。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于不同基板的共同静电吸盘


[0001]本公开内容的实施例总体上涉及用于静电吸附基板的设备、方法和控制器。本公开内容的一些实施例允许在不修改静电吸盘的情况下吸附不同的基板材料。

技术介绍

[0002]不同类型的基板具有不同的属性，从而需要在基板处理期间使用多于一种类型的静电吸盘来支撑。现有的静电吸盘(echucks)仅限于某些类型的基板，并对其他基板类型无效或不兼容。
[0003]现有的静电吸盘是独特的双极性或单极性。用当前的静电吸盘吸附封装基板可能是一个挑战，因为基板的独特属性可能需要单极性或双极性吸附方法。在某些情况下，可以使用吸附方法的组合来解吸附基板。
[0004]因此，需要既可以作为双极性静电吸盘进行操作也可作为单极性静电吸盘进行操作的静电吸盘。

技术实现思路

[0005]本公开内容的一个或多个实施例针对一种静电吸盘，所述静电吸盘包括：第一电极，所述第一电极由具有第一功率的第一电源供能；第二电极，所述第二电极由具有第二功率的第二电源供能；以及控制器，所述控制器连接至第一电源和第二电源。第一功率相对于基板具有第一电压和正极性或负极性。第二功率相对于基板具有第二电压和正极性或负极性。控制器配置为：控制第一功率的极性；控制第一功率的电压；控制第二功率的极性；和/或控制第二功率的电压。
[0006]本公开内容的其他实施例涉及一种吸附基板的方法。一些实施例中的方法包括：将包括单极性材料或双极性材料的第一基板放置在静电吸盘附近。当第一功率和第二功率具有匹配的极性时，第一基板包括单极性材料，并且当第一功率和第二功率具有相反的极性时，第一基板包括双极性材料。启用静电吸盘以将第一基板吸附到静电吸盘。将第一基板从静电吸盘上解吸附。将包括单极性材料或双极性材料的第二基板放置在静电吸盘附近。当第一基板包括单极性材料时，第二基板包括双极性材料，反之亦然。切换第一电源或第二电源的极性。启用静电吸盘以将第二基板吸附到静电吸盘。
[0007]本公开内容的其他实施例针对一种包括指令的计算机可读介质，所述指令在由静电吸盘的控制器执行时使静电吸盘执行以下操作：向第一电极供应第一功率，所述第一功率具有第一极性和第一电压；向第二电极供应第二功率，所述第二功率具有第二极性和第二电压；以及基于待吸附的材料来修改第一极性和第二极性。
附图说明
[0008]可参考实施例以更特定地说明以上简要总结的本公开内容，以更详细地了解本公开内容的上述特征，附图示出了其中一些实施例。然而应注意到，附图式仅示出了本公开内
容的典型实施例，且因此不应被视为限制本公开内容的范围，因为公开内容可允许其他等效的实施例。
[0009]图1为根据本专利技术的一个或多个实施例的单极性静电吸盘的示例性图。
[0010]图2为根据本专利技术的一个或多个实施例的双极性静电吸盘的示例性图。
[0011]图3示出了根据本公开内容的一个或多个实施例的包括中心抽头(center
‑
tap)电压反馈的静电吸盘的示例性图。
[0012]图4示出了根据本公开内容的一个或多个实施例的处理方法。
[0013]图5示出了根据本公开内容的一个或多个实施例的处理方法。
具体实施方式
[0014]在描述本公开内容的几个示例性实施例之前，应当理解，本公开内容不限于在以下说明中阐述的构造或工艺步骤的细节。本公开内容能具有其他实施例，并且能以各种方式被实践或执行。
[0015]如本说明书和所附权利范围中所使用的，术语“基板”是指在其上进行了工艺的表面或表面的一部分。本领域技术人员还将理解的是，除非上下文另外明确指出，否则对基板的引用也可以仅指基板的一部分。
[0016]如本文所用，“基板”是指在其上执行处理的基板上形成的任何基板或材料表面。例如，可以在其上执行处理的基板表面包括诸如硅、氧化硅、应变硅、绝缘体上硅(SOI)、碳掺杂的氧化硅、非晶硅、经掺杂的硅、锗、砷化镓、玻璃、蓝宝石、以及其他任何材料，诸如金属、金属氮化物、金属合金和其他导电材料，视应用而定。
[0017]本公开内容的实施例涉及用于吸附和解吸附各种材料的基板的设备、方法和控制器。本公开内容的一些实施例有利地提供了可以在单极性和双极性配置之间轻易改变的静电吸盘。在一些实施例中，静电吸盘能够吸附/解吸附单极性和双极性材料。
[0018]本公开内容的一些实施例有利地提供了独立的可逆电源。在一些实施例中，每个电源连接到电极。如果提供给每个电极的电源的极性相同，则静电吸盘将作为单极性静电吸盘进行操作。如果提供给每个电极的电源的极性不同，则静电吸盘将作为双极性静电吸盘进行操作。
[0019]本公开内容的一些实施例有利地提供中心抽头反馈。不受理论的束缚，据信使用等离子体或其他处理方法可使基板相对于静电吸盘偏压。在一些实施例中，中心抽头反馈测量相对于静电吸盘的基板上的任何偏压。可以使提供给每个电极(特别是在双极性静电吸盘中)的电压偏置，以在每个电极处提供大约相同的吸附力。
[0020]参考图1，示出了单极性静电吸盘110的示例性图。静电吸盘110将基板120相对于静电吸盘保持在固定位置。基板120包括单极性材料。就此而言，“单极性材料”是能够通过单极性静电吸盘保持在固定位置的任何材料。
[0021]图1中所示的静电吸盘包括第一电极142和第二电极144。本领域技术人员将理解，并非所有的单极性静电吸盘都需要两个电极。然而，在本公开内容的一些实施例中，静电吸盘包括至少两个电极。
[0022]第一电极142由第一电源132供能。第一电源132向第一电极142供应具有第一极性和第一电压的第一功率。类似地，第二电极144由第二电源134供能。第二电源134向第二电
极144供应具有第二极性和第二电压的第二功率。
[0023]如下面进一步讨论的，与图2相对，对于单极性静电吸盘，第一极性和第二极性相同。虽然在图1中示出了电极上的正极性，但正极性或负极性都在本公开内容的范围内。在一些实施例中，第一电压和第二电压也大约相同。
[0024]参考图2，示出了双极性静电吸盘210的示例性图。静电吸盘210将基板220相对于静电吸盘210保持在固定位置。基板220包括双极性材料。就此而言，“双极性材料”是能够通过双极性静电吸盘保持在固定位置的任何材料。
[0025]不受理论的束缚，据信许多材料是单极性材料或双极性材料。某些材料可能能够通过单极性和双极性静电吸盘来进行处理，但是据信这些材料很少。不论用哪种类型的静电吸盘进行处理，都可以认为所有材料都显示出易于处理的优点，这有利于单极性或双极性静电吸盘。
[0026]图2中所示的静电吸盘包括第一电极242和第二电极244。在一些实施例中，静电吸盘210包括至少两个电极。
[0027]第一电极242由第一电源232供能。第一电源232向第一电极242供应具有第一极性和第一电压的第一功率。类似地，第二电极244由第二电源234供能。第二电源23本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种静电吸盘，包括：第一电极，所述第一电极由具有第一功率的第一电源供能，所述第一功率相对于基板具有第一电压以及正极性或负极性；第二电极，所述第二电极由具有第二功率的第二电源供能，所述第二功率相对于所述基板具有第二电压以及正极性或负极性；控制器，所述控制器连接到所述第一电源和所述第二电源，所述控制器被配置为控制以下项中的一者或多者：所述第一功率的所述极性；所述第一电压；所述第二功率的所述极性；或所述第二电压。2.如权利要求1所述的静电吸盘，其中所述第一电压和所述第二电压小于或等于大约3kV。3.如权利要求1所述的静电吸盘，其中所述第一功率和所述第二功率的所述极性相同。4.如权利要求3所述的静电吸盘，其中所述第一电压和所述第二电压大约相同。5.如权利要求1所述的静电吸盘，其中所述第一功率和所述第二功率的所述极性不同。6.如权利要求1所述的静电吸盘，所述静电吸盘进一步包括中心抽头电压反馈，并且所述控制器进一步被配置为相对于所述基板平衡所述第一电压和所述第二电压。7.如权利要求6所述的静电吸盘，其中所述第一功率和所述第二功率的所述极性相同，并且所述中心抽头电压反馈与所述第一电源与所述第二电源相隔离。8.如权利要求6所述的静电吸盘，其中所述第一功率和所述第二功率的所述极性不同，并且所述中心抽头电压反馈参照所述第一电源和所述第二电源的共同接地。9.如权利要求6所述的静电吸盘，其中所述中心抽头电压反馈包括RF频率滤波器。10.如权利要求9所述的静电吸盘，其中所述RF频率滤波器以13.56MHz或60MHz中的一者或多者操作。11.一种用于吸附基板的方法，所述方法包括：将基板放置在静电吸盘附近，所述静电吸盘包括：第一电极，所述第一电极由具有第一功率的第一电源供能，所述第一功率相对于所述基板具有第一电压以及正极性或负极性；第二电极，所述第二电极由具有第二功率的第二电源供能，所述第二功率相对于所述基板具有第二电压以及与所述第一功率的所述极性相反的正极性或负极性；和中心抽头电压反馈；以及启用所述静电吸盘；...

【专利技术属性】
技术研发人员：V，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：