能提高沉积率的等离子喷涂YSZ陶瓷基封严涂层制备方法技术

技术编号:33135819 阅读:81 留言:0更新日期:2022-04-17 01:00
一种能提高沉积率的等离子喷涂YSZ陶瓷基封严涂层制备方法。其包括含钇铝石榴石的YSZ陶瓷基原材料制备、含钇铝石榴石的YSZ陶瓷基团聚粉末制备、等离子喷涂金属粘结层、等离子喷涂YSZ陶瓷面层等步骤。本发明专利技术优点:工艺流程简单,操作容易,只需要在制备YSZ陶瓷基团聚粉末的过程中加入钇铝石榴石黏结相就可以实现沉积率的显著提高。不需要大幅度改动YSZ陶瓷基封严涂层的等离子喷涂工艺,在显著提高沉积率的同时,适当提高了涂层的热循环性能。适当提高了涂层的热循环性能。适当提高了涂层的热循环性能。

【技术实现步骤摘要】
能提高沉积率的等离子喷涂YSZ陶瓷基封严涂层制备方法


[0001]本专利技术属于等离子喷涂陶瓷基涂层优化
,特别是涉及一种能提高沉积率的等离子喷涂YSZ(Y2O3部分稳定的ZrO2)陶瓷基封严涂层制备方法。

技术介绍

[0002]由于陶瓷材料的熔点高、韧性差,从而导致陶瓷基封严涂层的沉积率非常低,一般为10%~15%左右,远远低于热喷涂涂层30%~50%沉积率的平均水平,从而造成严重的资源浪费,增加了涂层的制造成本,限制了这类涂层的推广应用。经分析,陶瓷基封严涂层沉积率低的原因如下:(1)陶瓷熔点高(如常用的YSZ陶瓷熔点为2700℃左右),在等离子射流中停留的时间为10
‑4~10
‑5S左右,极高的熔点和极短的加热时间,造成了粉末不能够被充分熔融,从而直接降低了涂层的沉积率。(2)等离子喷涂过程中相邻两个粒子碰撞基体所间隔的时间远远大于粒子铺展后完全凝固所需要的时间,也就是说,被撞击的陶瓷层片存在的状态一直是固态。而陶瓷材料具有硬脆的属性,韧性基本为零,等离子射流中部分未熔融或半熔融状态的粒子,在撞击固态的陶瓷层片时,本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种能提高沉积率的等离子喷涂YSZ陶瓷基封严涂层制备方法,其特征在于:所述制备方法包括按顺序进行的下列步骤:1)将由无水乙醇、YSZ粉末、钇铝石榴石粉末、聚苯酯粉末、六偏磷酸钠、PEG和PVA组成的YSZ陶瓷基原材料利用球磨机进行破碎并混合均匀,获得含钇铝石榴石黏结相的YSZ陶瓷基复合材料粉末;其中无水乙醇、YSZ粉末、钇铝石榴石粉末、聚苯酯粉末、六偏磷酸钠、PEG和PVA的用量比为200~300ml∶80~120g∶15~25g∶20~25g∶3~5g∶3~5g∶3~5g;2)将含钇铝石榴石黏结相的YSZ陶瓷基复合材料粉末利用喷雾造粒机制备成含钇铝石榴石黏结相的YSZ陶瓷基团聚粉末;3)利用等离子喷枪将NiCoCrAlY金属粘结层粉末喷涂在镍基合金基体上而制备出金属粘结层;4)利用等离子喷枪将上述含钇铝石榴石黏结相的YSZ陶瓷基团聚粉末喷涂在金属粘结层上而制备出含钇铝石榴石黏结相的YSZ基陶瓷面层,最终获得高沉积率的等离子喷涂YSZ陶瓷基封严涂层。2.根据权利要求1所述的能提高沉积率的等离子喷涂YSZ陶瓷基封严涂层制备方法,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:程涛涛王志平王仕成
申请(专利权)人:中国民航大学
类型:发明
国别省市:

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