用于托卡马克真空烘烤的过热水循环回路制造技术

本发明专利技术属于等离子体放电技术，具体涉及一种用于托卡马克真空烘烤的过热水循环回路，包括由电加热器、膨胀水箱、水泵和若干个调节阀；电加热器和膨胀水箱通过管道串联连接，膨胀水箱的出水管路上安装并联的若干个水泵，电加热器入口连接负载，水泵并联出口和电加热器的入口之间设有调节旁路，循环水经电加热器加热后进入膨胀水箱，由水泵增压后流入负载，为其提供热量，达到加热的目的，降温后的循环水再次经由电加热器进行升温，完成一次完整循环。够充分提供热量，合理加热真空室与偏滤器等内部构件，有效去除真空室本体与内部件材料所吸附的杂质、碳氢化合物及水汽，为等离子体提供一个清洁的高真空环境。个清洁的高真空环境。个清洁的高真空环境。

【技术实现步骤摘要】
用于托卡马克真空烘烤的过热水循环回路


[0001]本专利技术属于等离子体放电技术，具体涉及一种用于托卡马克真空烘烤的过热水循环回路。

技术介绍

[0002]在托卡马克装置等离子体放电实验过程中，需为等离子体运行提供优质的超高真空条件，为了达到等离子体运行所需的真空环境，常规的抽真空方式已经不能满足需求，需要通过烘烤的方式对真空室以及偏滤器等内部构件进行处理。
[0003]真空烘烤系统是针对托卡马克装置真空室及偏滤器等内部构件加热除气而设计的一套加热系统，系统性能将直接影响等离子体品质及真空室的安全和工作寿命。烘烤系统通过高温烘烤来去除真空室本体与内部件材料所吸附的杂质、碳氢化合物及水汽，为等离子体提供一个清洁的高真空环境。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种用于托卡马克真空烘烤的过热水循环回路，能够充分提供热量，合理加热真空室与偏滤器等内部构件，有效去除真空室本体与内部件材料所吸附的杂质、碳氢化合物及水汽，为等离子体提供一个清洁的高真空环境。
[0005]本专利技术的技术方案如下：
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.用于托卡马克真空烘烤的过热水循环回路，其特征在于：包括由管道连接的电加热器(1)、膨胀水箱(2)和水泵(3)，以及管道中相应位置安装的若干个调节阀(4)；所述的电加热器(1)和膨胀水箱(2)通过管道串联连接；所述的膨胀水箱(2)的出水管路上安装并联的若干个水泵(3)；所述的电加热器(1)的入口管路上安装待烘烤的负载(9)；所述的并联的若干个水泵(3)的并联出口和电加热器(1)的入口之间设有调节旁路(8)，调节旁路(8)上设有两个调节阀(4)；所述的膨胀水箱(2)的入口和出口管路上均安装调节阀(4)。2.如权利要求1所述的用于托卡马克真空烘烤的过热水循环回路，其特征在于：所述的膨胀水箱(2)的入口和出口设有并联管路，所述的并联管路上设有调节阀(4)。3.如权利要求2所述的用于托卡马克真空烘烤的过热水循环回路，其特征在于：所述的膨胀水箱(2)内部充入氮气。4.如权利要求3所述的用于托卡马克真空烘烤的过热水循环回路，其特征在于：所述的并联的水泵(3)的并联入口设有调节阀(4)，且每一路的水泵(3)的出口分别设有调节阀(4)。5.如权利要求3所述的用于托卡马克真空烘烤的过热水循环回路，其特征在于：所述的负载(9)为并联的真空室及偏...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒙建朋，颉延风，贾瑞宝，蔡强，邱丽媛，
申请(专利权)人：核工业西南物理研究院，
类型：发明
国别省市：