显微镜制造技术

本发明专利技术涉及显微镜。所述显微镜包括：观察光学系统，其包括具有观察光轴的物镜以及第二照相机，所述物镜用于收集来自放置在放置台上的样本的光，所述第二照相机基于通过物镜接收到的来自样本的光来拍摄样本的图像；电磁波发射器，其用于发射电磁波；反射物镜，其具有平行于观察光轴的分析光轴、并且用于收集电磁波并用所收集的电磁波照射样本、以及用于收集来自样本的光；以及第一检测器和第二检测器，其基于反射物镜所收集的电磁波生成强度分布谱；以及水平驱动机构，其使观察光学系统和分析光学系统相对于放置台的相对位置沿着水平方向移动。动。动。

【技术实现步骤摘要】
显微镜


[0001]这里公开的技术涉及显微镜。

技术介绍

[0002]例如，JP2020
‑
101441A公开了一种使用激光诱导击穿分光法(LIBS)进行成分分析的装置。具体地，JP2020
‑
101441A中公开的成分测量装置被配置为通过用激光照射观察对象并且由用于分析的检测器接收观察对象中生成的光(等离子体光)来进行对观察对象(试样)的成分分析。
[0003]此外，根据JP2020
‑
101441A的成分测量装置被配置为使得观察光学系统被布置在从观察对象(试样)到检测器的光路上，以通过观察光学系统将光引导至检测器。
[0004]在JP2020
‑
101441A中公开的成分测量装置中，观察光学系统被布置在从分析对象(试样)到检测器的光路上。
[0005]由于分析光学系统和观察光学系统的最佳光学设计不同，因此如果对作为分析装置的分析能力给予优先，则需要简化观察光学系统。
[0006]为了如在显微镜中那样详细观察分析对象或详细识别分析对象的位置，优选可以获取由适当的观察光学系统拍摄的观察图像。另外，也可以考虑通过利用旋转器等在分析用物镜与观察用物镜之间切换来进行分析和观察的切换。然而，在这种结构中，用于光路上需要在分析光学系统和观察光学系统之间切换的机械机构，因此光学设计变得复杂，并且变得难以实现充分的分析能力和观察能力这两者。

技术实现思路

[0007]考虑到这些点做出了本文中公开的技术，并且其目的是提高显微镜的可用性。
[0008]本公开的一个实施例涉及C1。
[0009]在本文中，术语“沿着水平方向移动”不仅包括前后方向上和左右方向上等的线性移动，还包括沿着水平面的诸如旋转等的曲线移动。
[0010]根据一个实施例，显微镜移动观察光学系统和分析光学系统相对于放置台的相对位置，以对观察对象中的同一点执行观察光学系统对观察对象的拍摄和分析光学系统在强度分布谱的生成期间的电磁波的照射。由此，可以消除观察光学系统的观察位置与分析光学系统的分析位置之间的偏差，并且最终可以提高装置的可用性。
[0011]此外，根据一个实施例，观察光学系统和分析光学系统被配置为独立的光学系统，并且因此，各个光学系统可以具有适合于各个用途的规格。由此，可以尽可能地优化各个光学系统的性能。
[0012]此外，根据本公开的另一实施例，显微镜可以包括放置台、观察光学系统以及分析光学系统可附接至的台架。
[0013]根据另一实施例，显微镜可以被配置为一体型显微镜，并且仅通过将各光学系统附接至台架就可以实现从观察至分析。这在提高装置的可用性方面是有利的。
[0014]此外，根据本公开的又一实施例，所述第一物镜的光轴和所述第二物镜的光轴可以被设置成彼此平行，以及可以在移动前后从同一方向对所述同一点执行所述观察光学系统对所述观察对象的拍摄以及所述分析光学系统的所述电磁波的照射，所述水平驱动机构引起所述相对位置在所述水平方向上的移动。
[0015]此外，根据本公开的又一实施例，显微镜可以包括：观察单元，其容纳有观察光学系统；以及镜筒保持器，其相对于分析光学系统固定观察单元，以固定第二物镜的光轴相对于第一物镜的光轴的相对位置。
[0016]根据又一实施例，第二物镜的光轴相对于第一物镜的光轴的相对位置是恒定的，因此，可以通过使观察光学系统和分析光学系统相对移动与相对位置相对应的距离，来对同一点进行观察和分析。
[0017]此外，根据本公开的又一实施例，当镜筒保持器保持观察单元时，观察光学系统和分析光学系统各自的光轴可以沿着通过水平驱动机构使观察光学系统和分析光学系统相对于放置台相对移动的方向而并排布置。
[0018]根据又一实施例，沿着由水平驱动机构引起的移动的方向并排布置两个光轴在对同一点进行观察和分析方面是有利的。
[0019]此外，根据本公开的又一实施例，显微镜可以包括容纳有分析光学系统的分析壳体，并且处于保持观察单元的状态下的镜筒保持器可以布置在分析壳体外部。
[0020]根据又一实施例，分析光学系统和观察光学系统可以形成为完全独立的光学单元，这在设置适合于各个用途的规格方面是有利的。
[0021]这里，观察单元经由镜筒保持器附接至分析壳体的外表面，因此，容易与观察单元一起更换整个观察光学系统，同时，通过手动作业等更换观察光学系统的一部分(例如物镜)变得非常容易。这在提高装置的可用性方面是有利的。
[0022]此外，根据本公开的又一实施例，镜筒保持器可以被配置为选择性地保持容纳有彼此不同的观察光学系统的多个类型的观察单元中的任一个观察单元。
[0023]根据又一实施例，容易与观察单元一起更换具有诸如第一物镜的倍率等的期望特性的观察光学系统，这在提高装置的可用性方面是有利的。
[0024]此外，根据本公开的又一实施例，显微镜可以被配置成操作所述水平驱动机构以在所述第一物镜与所述观察对象相对的第一模式以及所述第二物镜与所述观察对象相对的第二模式之间切换，以及在所述第一模式与所述第二模式之间的切换前后的定时，从同一方向对所述同一点进行所述观察光学系统对所述观察对象的图像生成以及所述分析光学系统的所述电磁波的照射。
[0025]根据又一实施例，可以在水平移动机构所引起的移动前后从相同的角度进行对观察对象的观察和分析。由此，进一步消除了观察光学系统的观察位置与分析光学系统的分析位置之间的偏差，这在提高装置的可用性方面更有利。
[0026]此外，根据本公开的又一实施例，显微镜可以包括控制器，其电连接至所述观察光学系统和所述分析光学系统，其中，所述控制器可以被配置为既能够基于来自所述观察对象的光的光接收量执行对所述观察对象的图像数据的生成，也能够基于所述强度分布谱执行对所述观察对象中包含的物质的分析。
[0027]根据又一实施例，用于进行与观察光学系统有关的处理的控制器和用于进行与分
析光学系统有关的处理的控制器是共同的。由此，可以在设置两个独立的光学系统的同时共享控制系统，并且可以减少组件的数量并顺利地执行与两个光学系统双方相关的处理。
[0028]此外，根据本公开的又一实施例，显微镜可以包括：多个类型的观察单元，其容纳有彼此不同的观察光学系统；以及镜筒保持器，其相对于所述分析光学系统固定所述多个类型的观察单元其中任何一个，以固定所述第二物镜的光轴相对于所述第一物镜的光轴的相对位置；以及所述控制器，其可以识别与通过镜筒保持器固定至分析光学系统的观察单元相对应的观察光学系统的类型中的至少第一物镜的类型，并且基于识别结果来执行与所述观察目标的拍摄有关的处理。
[0029]根据又一实施例，可以根据物镜的类型来自动化各种处理，这在提高装置的可用性方面是有利的。
[0030]此外，根据本公开的又一实施例，电磁波发射器可以包括发射激光作为电磁波的激光光源。
[0031]根据又一实施例，可以基于使用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显微镜，用于放大观察对象的观察，所述显微镜包括：放置台，所述观察对象用于放置在所述放置台上；观察光学系统，其包括第一物镜以及照相机，所述第一物镜用于收集来自放置在所述放置台上的所述观察对象的光，所述照相机用于检测通过所述第一物镜接收到的来自所述观察对象的光的光接收量以拍摄所述观察对象的图像；分析光学系统，其包括电磁波发射器、第二物镜以及检测器，所述电磁波发射器发射用于分析所述观察对象的电磁波，所述第二物镜收集响应于所述电磁波的照射的来自所述观察对象的电磁波，所述检测器用于生成强度分布谱，所述强度分布谱是针对所述观察对象上生成的且由所述第二物镜收集的所述电磁波的各个波长的强度分布；以及水平驱动机构，其使所述观察光学系统和所述分析光学系统相对于所述放置台的相对位置沿着水平方向移动，使得能够对所述观察对象中的同一点执行通过所述观察光学系统的所述观察对象的拍摄以及通过所述分析光学系统的所述电磁波的照射。2.根据权利要求1所述的显微镜，还包括：台架，所述放置台、所述观察光学系统以及所述分析光学系统能够附接至所述台架。3.根据权利要求1所述的显微镜，其中，所述第一物镜的光轴以及所述第二物镜的光轴被设置成彼此平行，以及通过所述水平驱动机构使所述相对位置在所述水平方向上移动，在所述移动前后从同一方向对所述同一点执行所述观察光学系统进行的所述观察对象的拍摄以及所述分析光学系统进行的所述电磁波的照射。4.根据权利要求1所述的显微镜，还包括：观察单元，其容纳有所述观察光学系统；以及镜筒保持器，其用于相对于所述分析光学系统固定所述观察单元，来固定所述第二物镜的光轴相对于所述第一物镜的光轴的相对位置。5.根据权利要求4所述的显微镜，其中，当所述镜筒保持器保持所述观察单元时，所述观察光学系统和所述分析光学系统各自的光轴被布置成与所述水平方向相交。6.根据权利要求4所述的显微镜，还包括：分析壳体，其容纳有所述分析光学系统，其中，处于保持所述观察单元的状态下的所述镜筒保持器布置在所述分析壳体的外部。7.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：广瀬健一郎，
申请(专利权)人：株式会社基恩士，
类型：发明
国别省市：