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一种基于相变材料的2制造技术

技术编号:33089898 阅读:42 留言:0更新日期:2022-04-15 11:01
本发明专利技术公开了一种基于相变材料的2

【技术实现步骤摘要】
一种基于相变材料的2
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2光波导开关及其制备方法


[0001]本专利技术属于光电子
,特别涉及的是一种基于相变材料的2
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2光波导开关及其制备方法。

技术介绍

[0002]随着虚拟现实、增强显示、云计算、大数据和人工智能等
的发展,对于通信的容量提出了更高的要求,寻找新的复用技术成为了光通信领域中新的研究热点。利用空间维度作为信息承载的新资源,为网络技术带来了新变化,空间维度的复用增加了通信网络的物理维度和信息容量,是一种亟待发展和利用的复用技术。空间模式复用,简称“模分复用”,是空间维度复用技术的一种,它利用正交的空间模式为每个工作波长提供多个信号通道,使得光通信的传输容量得到显著的提升。为了能够在硅芯片构建MDM网络,模式多路复用器/解复器,模式滤波器,模阶转换器,双模功率分配器,可重构的模式复用开关等是构建该复用网络的基本器件。可重构的模式复用开关是其中最基本的器件之一,可以在多模式频道实现数据和信号的切换,是构建更加灵活、有效的MDM网络,及实现硅芯片全光网络功能必不可少的一部分。
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于相变材料的2
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2光波导开关的制备方法,其特征在于包括如下步骤:(1)波导结构的制备在SiO2衬底材料上覆盖光刻胶,在基底上采用聚焦电子束曝光得到器件结构形状,所述器件结构为两根波导呈轴对称分布,所述波导的两端呈弯曲状,中间呈直线状,波导的宽度为100~800纳米,两根波导的直线段的间距为100~500纳米;采用反应离子刻蚀平台对基底进行刻蚀,得到高度为100~800纳米的两个输入端口和两个输出端口、中间为耦合区域的波导结构;(2)相变材料的集成对步骤(1)得到的波导结构进行光刻胶旋涂,在波导结构的耦合区域进行电子束曝光后,采用脉冲激光沉积工艺,以脉冲频率为3.5...

【专利技术属性】
技术研发人员:张桂菊汪成根王笑笑
申请(专利权)人:苏州大学
类型:发明
国别省市:

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