可强化的涂覆基材制造技术

技术编号:33078572 阅读:25 留言:0更新日期:2022-04-15 10:20
本发明专利技术涉及可强化的涂覆的浮法玻璃基材,其制备方法及其用途,所述浮法玻璃基材包含第一表面和第二表面,其中第一表面包含一个或多个通过化学气相沉积(CVD)施加的层和第二表面包含一个或多个通过物理气相沉积(PVD)施加的层;并且其中所述通过物理气相沉积(PVD)施加的一个或多个层包括至少一个功能金属层;并且其中第二表面还包含与第二表面直接接触施加的保护层;并且其中涂覆的浮法玻璃基材表现出根据CIE色彩空间的透射b*颜色值小于或等于3和外反射b*小于或等于

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】可强化的涂覆基材
[0001]本专利技术涉及可强化的涂覆基材及其制造方法。更具体地,本专利技术涉及可强化的涂覆的玻璃基材及其制备方法,其中将一个或多个层施加至基材的每侧以形成涂覆的基材,然后将其通过热处理强化,而没有明显损坏在基材每侧上的涂覆层。
[0002]已知出于各种目的在基材例如玻璃上沉积层或涂层。例如,在EP 1429997、DE 10146687、EP1328483和US 6918957每个中公开了溶胶凝胶型沉积方法,其中将硅溶胶施加至基材的表面并然后在升高的温度下加热基材以“驱除”有机材料,从而导致氧化硅涂层的产生。
[0003]其它类型的沉积方法包括例如化学气相沉积(CVD),由此经常在升高的温度下将前体的蒸汽导向基材的表面。
[0004]还已知沉积导电氧化物例如铟锡氧化物、掺杂的氧化锡、掺杂的氧化锌和掺杂的氧化镉的方法。这些方法可包括例如但不限于化学气相沉积(CVD)、火焰热解、溅射或其它类型的物理气相沉积。
[0005]可通过物理气相沉积方法例如溅射来沉积提供低辐射率和/或用于阳光控制的玻璃涂层。
[0006]施加至玻璃基材的溅射的低辐射率(低

e)和阳光控制涂层堆叠体常见地由基于以下重复的序列组成:
[0007]介电层序列/(Ag/介电层序列)
n

[0008]其中n个介电层每个可能在厚度和/或组成方面变化。n的值可为1或2和甚至3或4。
[0009]还已知涂覆玻璃基材的两侧以生产用于建筑窗玻璃市场的窗玻璃单元。确实,可获得使用以上描述的技术来涂覆例如玻璃基材的第一侧然后另一侧的产品。例如,NSG生产涂覆的玻璃产品,其中玻璃基材的一侧涂覆有通过化学气相沉积(CVD)施加的自洁或抗反射涂层,和玻璃基材的另一侧涂覆有物理气相沉积(PVD)(溅射的)低辐射率涂层。
[0010]存在替代产品,其中低辐射率的涂层施加到玻璃基材的每一侧,但是其中低辐射率涂层之一通过化学气相沉积施加,而另一低辐射率涂层通过溅射施加。
[0011]然而,使用上述技术制备的许多涂覆的玻璃产品难以在不损坏涂覆层的情况下实现热回火或强化,由此导致在缺乏颜色均匀性或视觉清晰度方面的劣等产品。
[0012]在强化或回火玻璃中,通过受控的热处理或化学处理加工玻璃基材,以与普通玻璃相比提高玻璃基材的强度。回火或强化的作用使玻璃基材的外表面处于压缩和玻璃基材的内表面处于拉伸。当回火或强化的玻璃破裂时,与玻璃板(还已知为退火玻璃)相反,诱导应力引起强化玻璃粉碎成小的粒状块而不是分裂成锯齿状碎片。
[0013]已进行强化从而赋予安全性质和/或弯曲的涂覆的玻璃板期望用于建筑和机动车辆窗玻璃中的大量的应用。已知对于热强化和/或弯曲玻璃板而言有必要通过在接近或大于所使用玻璃的软化点的温度下热处理来加工玻璃板,并然后要么通过快速冷却使它们强化要么借助于弯曲装置使它们弯曲。钠钙硅型标准浮法玻璃的相关温度范围是通常约580

690℃,在开始实际强化和/或弯曲过程之前将玻璃板保持在该温度范围下几分钟。
[0014]在以下说明书和权利要求书中“热处理”、“热处理的”和“可热处理的”是指热弯曲
和/或强化过程例如以上提到的以及指其它热加工,其间涂覆的玻璃板达到约580至690℃范围内的温度持续几分钟例如至多约10分钟的时间。如果涂覆的玻璃板经历热处理而没有显著损坏,它被认为是可热处理的,通常由热处理引起的损坏是高雾度值、针孔或斑点。
[0015]在玻璃工业中当表征低辐射率(低

e)和/或阳光控制涂层时常提到的术语或参数“雾度”经常是不充分的,因为它没有完全反映在涂覆、热处理、加工和/或处理已涂覆玻璃板期间可出现的所有类型的缺陷。例如,一些已知的可热处理的涂覆的玻璃板显示对它们的光学性质,特别是在热处理期间和之后它们的反射颜色的显著和明显的修改。
[0016]因此,期望在热处理之前和之后维持涂覆的玻璃板的热和光学性质。这可通过在热处理之前和之后维持类似的方块电阻值,或在一些情况下通过在热处理之后实际获得涂覆的玻璃板的较低水平的方块电阻来表征。
[0017]虽然确实存在其中玻璃基材(其可被强化或简单地退火)在一侧上涂覆有通过化学气相沉积(CVD)施加的涂层并且在另一侧上涂覆有溅射的阳光控制涂层的产品,但是这样的产品在它们的适用性方面经常受到限制,不能与由包含通过PVD施加的银抗反射层的涂覆的玻璃基材提供的性能竞争。
[0018]在浮法玻璃工艺中,将连续的熔融玻璃条从熔炉倾倒至大的浅的熔融金属浴上以形成浮法玻璃带。锡经常用作熔融金属。玻璃浮在锡上并且随着玻璃冷却,它铺开形成平的表面。在玻璃顶部上使用辊,从而将玻璃拉制或拉伸至需要的玻璃片厚度。传统上已知在生产期间与锡接触的玻璃片的表面为玻璃片或基材的“锡”侧。传统上已知与浴中产生的氮和氢的气氛接触的玻璃片的相对表面为“空气”侧。
[0019]在浮法工艺期间,经常使用钢提升辊将玻璃从浴中移至退火炉中。然而,因为玻璃通过钢辊移除时仍是软的,所以它特别容易损坏。通常,这样的损坏在玻璃表面上表现为可见的斑点、条纹和线条。损坏明显地损害最终玻璃产品的美观,其要么不得不以降低的成本出售,要么在更坏的情况下被完全废弃并再循环。
[0020]另外,当一个或多个涂覆层施加至玻璃基材的锡侧时,常进一步加剧在生产过程中出现的玻璃基材表面上的上述不完美。如果随后热处理(或回火)玻璃,尤其如此。
[0021]本专利技术因此寻求解决这样的损坏出现在玻璃基材的表面,并由此不仅满足玻璃所需要的美观,而且实现在建筑和汽车工业两者中需要的玻璃性质。
[0022]另外,虽然本专利技术涉及用于生产当从两侧观察时具有可接受的参数和外观的涂覆浮法玻璃的方法,但是本专利技术还可应用于保护其它玻璃基材例如钢化玻璃、可从NSG以Glanova TM
商标得到的化学强化玻璃和硼硅酸盐玻璃。
[0023]因此,根据本专利技术的第一方面,提供了可强化的涂覆的浮法玻璃基材,所述浮法玻璃基材包含:
[0024]i)第一表面,和
[0025]ii)第二表面,其中
[0026]第一表面包含通过化学气相沉积(CVD)施加的一个或多个层和第二表面包含通过物理气相沉积(PVD)施加的一个或多个层;并且其中
[0027]所述通过物理气相沉积(PVD)施加的一个或多个层包括至少一个功能金属层;并且其中
[0028]第二表面还包含与第二表面直接接触施加的保护层;并且其中
[0029]涂覆的浮法玻璃基材表现出根据CIE色彩空间的透射b*颜色值小于或等于3和外反射b*小于或等于

5。
[0030]优选地,对于根据本专利技术第一方面的可强化的涂覆基材而言,保护层包含氧化硅(SiOx)层,其中x在1.5和2.0范围内。
[0031]根据CIE色彩空间,根据本专利技术的可强化的涂覆基材优选包含关于外反射均为负的b*和a*值。即,b*值在CIE色彩空间本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.可强化的涂覆的浮法玻璃基材,所述浮法玻璃基材包含:i)第一表面,和ii)第二表面,其中第一表面包含通过化学气相沉积(CVD)施加的一个或多个层,且第二表面包含通过物理气相沉积(PVD)施加的一个或多个层;并且其中所述通过物理气相沉积(PVD)施加的一个或多个层包括至少一个功能金属层;并且其中第二表面还包含与第二表面直接接触施加的保护层;并且其中根据CIE色彩空间,涂覆的浮法玻璃基材表现出小于或等于3的透射b*颜色值和小于或等于

5的外反射b*。2.根据权利要求1所述的可强化的涂覆基材,其中保护层包含氧化硅(SiOx)层,其中x在1.5和2.0范围内。3.根据权利要求1所述的可强化的涂覆基材,其中根据CIE色彩空间,b*和a*关于外反射是负的。4.根据权利要求1、2或3所述的可强化的涂覆基材,其中保护层通过物理气相沉积(PVD)施加。5.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材,其中保护层的厚度在10至100nm范围内。6.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材,其中保护层的厚度在30至70nm范围内。7.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材,其中在制造期间浮法玻璃的第二表面接触熔融的锡,并且其中在制造期间浮法玻璃的第一表面接触包含氮和氢的浴气氛。8.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材,其中通过化学气相沉积(CVD)施加至玻璃基材的第一表面的一个或多个层包含一个或多个选自以下的掺杂的或未掺杂的氧化物层:氧化硅(SiO2)、氧化锡(SnO2)、氟掺杂的氧化锡(SnO2:F)、氧化钛(TiO2)和锑掺杂的氧化锡(SnO2:Sb)。9.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材,其中功能金属层包含银。10.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材,其中对于涂覆基材而言,在热处理之后透射颜色的改变(ΔE*)小于或等于10。11.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材,其中对于涂覆基材的每侧而言,在热处理之后反射颜色的改变(ΔE*)小于或等于10。12.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材,其中所述通过物理气相沉(PVD)施加的一个或多个层包括至少一个基于Ti、V、Cr、...

【专利技术属性】
技术研发人员:J
申请(专利权)人:皮尔金顿集团有限公司
类型:发明
国别省市:

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