【技术实现步骤摘要】
一种用于光场扩展的投影机阵列定位装置
[0001]本专利技术属于投影光场立体显示
,更具体地说,本专利技术涉及一种用于光场扩展的投影机阵列定位装置。
技术介绍
[0002]通常平行投影光场立体显示由平行排列的投影机阵列及一维逆反射幕布耦合而成。增大构成光场的投影机数目可以有效增大光场覆盖的区域并提升光场信息密度。然而,额外新增投影机的空间位置应精确设计定位才能达到最优的光场信息密度提升效果,若用户不具备专门知识,其难以自行进行光场扩展。因此,本专利技术提出了一种用于光场扩展的投影机阵列定位装置。该定位装置根据光场立体显示的客观规律,为不同投影光场显示系统预设了若干刻度线,用户只需根据现有结构参数将标尺放置于对应刻度线位置,则可方便地以信息密度最优方式进行光场扩展。
技术实现思路
[0003]为以信息密度最优方式进行光场信息密度提升,光场投影机的位置应进行精确设计。而光场投影系统用户通常不具备专门知识,难以自行进行光场扩展。为解决这一问题,本专利技术提出了一种用于光场扩展的投影机阵列定位装置。该装置为不同 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于光场扩展的投影机阵列定位装置,其特征在于:该用于光场扩展的投影机阵列定位装置包含定位板及标尺;定位板上至少具有若干一类定位孔及若干二类定位孔行;定位板上至少具有标尺左定位槽及标尺右定位槽;标尺左定位槽设置有标尺左定位槽刻度,标尺右定位槽设置有标尺右定位槽刻度;一类定位孔为长宽一致开孔,其在定位板上一维排列;现有投影光场系统的投影机均安装于一类定位孔所在位置;二类定位孔为长宽不一致开孔,其设置于两个相邻一类定位孔的中垂线上;二类定位孔排列方向与一类定位孔排列方向一致,且其开孔长轴方向与一类定位孔排列方向垂直;标尺左定位槽及标尺右定位槽均为长宽不一致开孔,标尺左定位槽位于标尺右定位槽左侧;标尺左定位槽刻度及标尺右定位槽刻度,用于示出具有不同结构参数q的现有投影光场显示系统其在进行光场扩展时,...
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