一种显示面板的制备方法及显示面板技术

本申请实施例公开了一种显示面板的制备方法及显示面板，显示面板的制备方法，包括以下制备步骤：在基板上制备一层金属层；在所述金属层上制备光阻层，以所述光阻层为掩膜板刻蚀去除裸露于所述光阻层外的金属层；刻蚀所述光阻层使其成为间隔设置的第一光阻单元和第二光阻单元；在所述第一光阻单元、所述第二光阻单元、刻蚀后的所述金属层以及所述基板上制备导电材料形成导电层；去除所述第一光阻单元、所述第二光阻单元，同时去除覆盖在所述第一光阻单元和所述第二光阻单元上的导电层；刻蚀并去除裸露于所述导电层外的金属层形成间隔设置的第一金属单元和第二金属单元。隔设置的第一金属单元和第二金属单元。隔设置的第一金属单元和第二金属单元。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板的制备方法及显示面板


[0001]本申请涉及显示领域，具体涉及一种显示面板的制备方法及显示面板。

技术介绍

[0002]金属氧化物因其较高的透过率、较好的导电性，在大尺寸显示基板有广泛的应用。为提升显示面板穿透率，通常将金属氧化物用于Com(公共电极)线作为电容使用。
[0003]目前在氧化物+金属灰色调工艺过程中，容易出现氧化物结晶的问题，从而导致无法进行蚀刻，特别是在金属层厚增加的情况下，由于金属溅射产生的热量导致底层氧化物升温。以ITO(氧化物)+Cu(金属)为例，当Cu膜厚达到5500A以上后，ITO受热结晶导致蚀刻无法进行。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种显示面板的制备方法及显示面板，可以解决现有技术中显示面板的金属氧化物刻蚀困难的技术问题。
[0005]本申请实施例提供一种显示面板的制备方法，包括以下制备步骤：
[0006]在基板上制备一层金属层；在所述金属层上制备光阻层，以所述光阻层为掩膜板刻蚀去除裸露于所述光阻层外的金属层；刻蚀所述光阻层使其成为间隔设置的第一光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括以下制备步骤：在基板上制备一层金属层；在所述金属层上制备光阻层，以所述光阻层为掩膜板刻蚀去除裸露于所述光阻层外的金属层；刻蚀所述光阻层使其成为间隔设置的第一光阻单元和第二光阻单元；在所述第一光阻单元、所述第二光阻单元、刻蚀后的所述金属层以及所述基板上制备导电材料形成导电层；去除所述第一光阻单元、所述第二光阻单元，同时去除覆盖在所述第一光阻单元和所述第二光阻单元上的导电层；刻蚀并去除裸露于所述导电层外的金属层形成间隔设置的第一金属单元和第二金属单元。2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述导电层制备步骤中，所述导电层包括覆盖于所述金属层和所述基板上的第一导电层以及覆盖在所述第一光阻单元和所述第二光阻单元上的第二导电层。3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一光阻单元和所述第二光阻单元为在垂直于所述基板的截面为倒置梯形。4.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二导电层设于所述第一光阻单元和所述第二光阻单元远离所述基板的一侧表面。5.根据权利要求1所述的显示...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈钦盛，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：