一种新型隐形眼镜清洗装置制造方法及图纸

技术编号:33015520 阅读:11 留言:0更新日期:2022-04-15 08:47
本发明专利技术公开了一种新型隐形眼镜清洗装置,其包括:本体,所述本体内具有容纳腔,其内容置有储电单元、第一电路板及第二电路板,所述第一电路板和第二电路板分别与所述储电单元电连接,所述第一电路板与所述第二电路板之间电连接;和清洗仓,所述清洗仓设于所述本体的外侧,且所述清洗仓的侧壁自所述本体的上端面向上凸出,所述清洗仓包括左容置仓和右容置仓,所述左容置仓和右容置仓内均设置有至少一组清洗探针,所述清洗探针与所述第一电路板电连接。本发明专利技术的清洗装置符合人机工程学便于拿取清洗仓,且能够在由于长时间使用或操作不当设备进水等造成电路板损坏时,更容易且低成本的更换电路板。更换电路板。更换电路板。

【技术实现步骤摘要】
一种新型隐形眼镜清洗装置


[0001]本专利技术涉及隐形眼镜清洗
,尤其涉及一种新型隐形眼镜清洗装置。

技术介绍

[0002]随着科技进步,人们生活水平的提高,人们越来越开始注重个人形象,为了美观或行动方便,有相当多近视的人们选择使用隐形眼镜。然而隐形眼镜配戴一段时间后会造成蛋白质沉积,使镜片失去透氧性能,严重的会对眼角膜造成损伤,因此需要在隐形眼镜佩戴一段时间后,对其进行清洗。
[0003]目前隐形眼镜最常用的清洗方式是将隐形眼镜的镜片分别放入隐形眼镜清洗液中用手指揉搓以清除镜片上的灰尘、沉积蛋白质、粘液或油渍等秽物,然而清洗方式很容易因手指不洁而对镜片造成二次污染,而且清洗的过程中,费时费力,不够方便。
[0004]目前市场上还存在一些隐形眼镜清洗装置,采用超声波、加热型电磁搅拌器、紫外线或臭氧等方式,然而:1)清洗隐形眼镜的超声波频率需高达100KHz以上,镜片易受物理破坏,且对电路与频率之间的匹配性要求较高,生产成本也较高;2)加热型电磁搅拌器利用电磁原理加热搅拌,添加清洁剂使该镜片的粘着物分离,加热温度高有误触烫伤及损伤镜片的可能性;3)紫外线对细菌有强大的杀伤力,臭氧则是一种良好的氧化及及消毒剂,但无法完全去除附着在镜片上的粘着物。
[0005]为了解决上述问题,市场上又出现了一种清洗装置,其基于电泳技术,在用于放置镜片的容置槽内设置正负电极,在电势差的作用下,使得带有电荷的沉积蛋白质或其他秽物向一个电极移动,进而实现沉积蛋白质或其他秽物与隐形眼镜镜片分离。不过现有的清洗装置其清洗仓一般都是内嵌于装置内的,使用者在对清洗仓进行清洗时,需要将清洗仓从清洗装置内抠出,操作十分不便。而且现有的清洗装置其电路或电气元件等均是集成在一块电路板上的,万一装置进水,电路板损害则需要更换整块电路板,维修成本高。
[0006]因此,结合上述存在的技术问题,有必要提出一种新的技术方案。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的在于提供一种既符合人机工程学便于拿取清洗仓,又能够在由于长时间使用或操作不当设备进水等造成电路板损坏时,更容易且低成本的更换电路板的安全可靠的新型隐形眼镜清洗装置。
[0008]为实现专利技术目的,根据本专利技术的一个方面,本专利技术提供一种新型隐形眼镜清洗装置,其包括:本体,所述本体内具有容纳腔,其内容置有储电单元、第一电路板及第二电路板,所述第一电路板和第二电路板分别与所述储电单元电连接,所述第一电路板与所述第二电路板之间电连接;和清洗仓,所述清洗仓设于所述本体的外侧,且所述清洗仓的侧壁自所述本体的上端面向上凸出,所述清洗仓包括左容置仓和右容置仓,所述左容置仓和右容置仓内均设置有至少一组清洗探针,所述清洗探针与所述第一电路板电连接。
[0009]在一个进一步的实施例中,所述本体由下至上依次包括有本体底座、本体中盖和
本体上盖,所述本体上盖的上端面设有安装槽,所述安装槽内与所述清洗探针对应位置设有转接弹簧针,所述清洗仓的底端能够容纳于所述安装槽内,且所述转接弹簧针的弹簧针部能够与其对应的清洗探针连接;所述第一电路板和第二电路板分别位于所述本体底座和本体中盖之间,所述第一电路板位于所述安装槽下方,所述转接弹簧针的电连接部穿过所述本体中盖与所述第一电路板电连接。
[0010]在一个进一步的实施例中,所述清洗仓由下至上依次包括有清洗底座、清洗中盖和清洗上盖,所述左容置仓和右容置仓位于所述清洗中盖的上表面,所述清洗探针设于所述清洗底座内,且所述清洗探针的一端穿过所述清洗底座的下端面与外部连通,另一端延伸至所述左容置仓或右容置仓内。
[0011]在一个进一步的实施例中,所述清洗仓安装在所述安装槽内时,所述清洗底座容纳于所述安装槽内,所述清洗中盖位于所述安装槽外。
[0012]在一个进一步的实施例中,所述左容置仓和右容置仓内均设有一组清洗探针,且每一组分别包括有一个第一探针和一个第二探针,所述第一探针和第二探针间隔设置,隐形眼镜镜片放置于所述第一探针和第二探针之间。
[0013]在一个进一步的实施例中,所述本体上盖上设有限位凸起,所述清洗底座的下端面设有与所述限位凸起对应的限位凹槽。
[0014]在一个进一步的实施例中,所述限位凸起为长条状;所述限位凸起的边角处倒有圆角;所述限位凸起的高度为1-2mm。
[0015]在一个进一步的实施例中,所述清洗底座和本体上盖内分别设有磁吸装置,所述清洗仓通过所述磁吸装置安装在所述安装槽内;所述清洗上盖活动卡合于所述清洗中盖上,所述清洗上盖内设有平面镜片。
[0016]在一个进一步的实施例中,所述清洗仓还包括有密封盖,所述密封盖卡合于所述左容置仓或右容置仓上;所述清洗装置还包括防滑垫,所述防滑垫设于所述本体底座的下端面。
[0017]在一个进一步的实施例中,所述本体的容纳腔内还容置有无线充电模块,所述无线充电模块与所述第二电路板电连接,所述清洗仓位于所述本体长度方向的一端,所述无线充电模块位于所述本体长度方向远离所述清洗仓的另一端,所述无线充电模块的工作方向朝向所述本体安装有清洗仓的一侧,所述无线充电模块能够被配置的对待充电装置进行无线充电。
[0018]与现有技术相比,本专利技术的新型隐形眼镜清洗装置具有如下一个或多个有益效果:
[0019](1)本专利技术的新型隐形眼镜清洗装置,其清洗仓只有底端部分嵌入在本体上端的安装槽内,拿取方便更符合人机工程学;
[0020](2)本专利技术的新型隐形眼镜清洗装置,其安装槽内设有限位凸起,既中和丰富了清洗探针造成的空白区,又同时起到限位清洗仓的作用,避免正圆造型的清洗仓旋转歪斜;
[0021](3)本专利技术的新型隐形眼镜清洗装置,其采用双电路板设置,大大降低了维修成本;
[0022](4)本专利技术的新型隐形眼镜清洗装置,其还设有无线充电模块,可以给外部待充电装置进行无线充电。
附图说明
[0023]图1为本申请的新型隐形眼镜清洗装置在一个实施例中的爆炸结构示意图;
[0024]图2为本申请的新型隐形眼镜清洗装置在一个实施例中的剖视示意图;
[0025]图3为本申请的新型隐形眼镜清洗装置在一个实施例中的正视图;
[0026]图4为本申请的新型隐形眼镜清洗装置在一个实施例中的后视图;
[0027]图5为本申请的新型隐形眼镜清洗装置在一个实施例中的左视图;
[0028]图6为本申请的新型隐形眼镜清洗装置在一个实施例中的右视图;
[0029]图7为本申请的新型隐形眼镜清洗装置在一个实施例中的俯视图;
[0030]图8为本申请的新型隐形眼镜清洗装置在一个实施例中的仰视图。
[0031]其中,10-本体,11-第一电路板,12-第二电路板,13-本体底座,14-本体中盖,15-本体上盖,151-安装槽,152-转接弹簧针,153-限位凸起,154-上端面,16-无线充电模块,20-清洗仓,21-清洗底座,211-清洗探针,2111-第一探针,2112-第二本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型隐形眼镜清洗装置,其特征在于,其包括:本体(10),所述本体(10)内具有容纳腔,其内容置有储电单元、第一电路板(11)及第二电路板(12),所述第一电路板(11)和第二电路板(12)分别与所述储电单元电连接,所述第一电路板(11)与所述第二电路板(12)之间电连接;和清洗仓(20),所述清洗仓(20)设于所述本体(10)的外侧,且所述清洗仓(20)的侧壁自所述本体(10)的上端面(154)向上凸出,所述清洗仓(20)包括左容置仓(221)和右容置仓(222),所述左容置仓(221)和右容置仓(222)内均设置有至少一组清洗探针(211),所述清洗探针(211)与所述第一电路板(11)电连接。2.根据权利要求1所述的新型隐形眼镜清洗装置,其特征在于,所述本体(10)由下至上依次包括有本体底座(13)、本体中盖(14)和本体上盖(15),所述本体上盖(15)的上端面(154)设有安装槽(151),所述安装槽(151)内与所述清洗探针(211)对应位置设有转接弹簧针(152),所述清洗仓(20)的底端能够容纳于所述安装槽(151)内,且所述转接弹簧针(152)的弹簧针部能够与其对应的清洗探针(211)连接;所述第一电路板(11)和第二电路板(12)分别位于所述本体底座(13)和本体中盖(14)之间,所述第一电路板(11)位于所述安装槽(151)下方,所述转接弹簧针(152)的电连接部穿过所述本体中盖(14)与所述第一电路板(11)电连接。3.根据权利要求2所述的新型隐形眼镜清洗装置,其特征在于,所述清洗仓(20)由下至上依次包括有清洗底座(21)、清洗中盖(22)和清洗上盖(23),所述左容置仓(221)和右容置仓(222)位于所述清洗中盖(22)的上表面,所述清洗探针(211)设于所述清洗底座(21)内,且所述清洗探针(211)的一端穿过所述清洗底座(21)的下端面与外部连通,另一端延伸至所述左容置仓(221)或右容置仓(222)内。4.根据权利要求3所述的新型隐形眼镜清洗装置,其特征在于,所述清洗仓(20)安装在所述安装槽(151)内时,所述清洗底座(21...

【专利技术属性】
技术研发人员:李盟孙碧霞
申请(专利权)人:苏州三个臭皮匠生物科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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