【技术实现步骤摘要】
一种蚀刻液包装瓶清洗装置
[0001]本技术涉及蚀刻液生产设备相关
,尤其涉及一种蚀刻液包装瓶清洗装置。
技术介绍
[0002]蚀刻液适用于印制版铜的蚀刻,存在着蚀刻速度快。蚀刻速度达4~5μm/min。且废液回收简单,在电路印制板的生产中存在着重要的作用。
[0003]对于小批量的蚀刻液的来说,常使用容量较小的包装瓶进行蚀刻液的包装和存放,而为了避免包装瓶中的杂质对蚀刻液的蚀刻效果产生影响,因此,在生产过程中,需要对蚀刻液包装瓶的内壁进行清洗,而后现有的清洗装置存在着清洗效率较低的特点,且单次清洗只能进行单个包装瓶的清洗,降低了蚀刻液的生产量。
技术实现思路
[0004]本技术提供一种蚀刻液包装瓶清洗装置,以解决上述现有技术的不足,能够高效的完成包装瓶的清洗,具有较好的清洗效果,自动化的完成包装瓶清洗,具有较强的实用性。
[0005]为了实现本技术的目的,拟采用以下技术:
[0006]一种蚀刻液包装瓶清洗装置,包括:
[0007]上顶组件,包括呈圆周阵列的支撑板四块,支 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种蚀刻液包装瓶清洗装置,其特征在于,包括:上顶组件(1),包括呈圆周阵列的支撑板(10)四块,支撑板(10)上端均向内延伸的设有内伸板(11),内伸板(11)的另一端设有下板(12),下板(12)向上延伸的设有支撑杆(13)四根,支撑杆(13)的上端设有上板(14),下板(12)安装有上顶电机(15),上顶电机(15)的输出轴连接有上顶丝杆,上顶丝杆旋有上顶盘(16),上顶盘(16)呈圆周阵列的设有外伸凸板(160),外伸凸板(160)均向上延伸的设有上伸杆(161),上伸杆(161)的上端均设有下盘(162),上板(14)上端安装有定位盘(17),定位盘(17)呈圆周阵列的成形有圆孔(170),圆孔(170)与下盘(162)均一一对应,且圆孔(170)与对应的下盘(162)均同心;清洗组件(2),设于定位盘(17),用于包装瓶内壁的清洗以及包装瓶的定位。2.根据权利要求1所述的蚀刻液包装瓶清洗装置,其特征在于,定位盘(17)呈圆周阵列且向上延伸的设有上延环(171),上延环(171)与圆孔(170)一一对应,上延环(171)与对应的圆孔(170)同心。3.根据权利要求2所述的蚀刻液包装瓶清洗装置,其特征在于,...
【专利技术属性】
技术研发人员:冯卫文,王芳,宋斌,侯倩,王博,叶帅,夏姣,陈浩,张靖伟,
申请(专利权)人:绵阳艾萨斯电子材料有限公司,
类型:新型
国别省市:
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