【技术实现步骤摘要】
晶片承载盒的定位装置、预装载腔室及半导体工艺设备
[0001]本专利技术涉及晶片承载盒定位
,尤其涉及一种晶片承载盒的定位装置、预装载腔室及半导体工艺腔室。
技术介绍
[0002]预装载腔室(LOAD LOCK腔室)的作用是晶圆在真空环境和大气环境之间转换的过渡腔室,例如,当晶圆需要从大气环境转化到真空环境的情况下,预装载腔室需要先处于大气环境,大气机械手可以将晶圆传输到预装载腔室内,然后对预装载腔室进行抽真空处理,使得预装载腔室处于真空状态,再由真空机械手传输到真空传输腔内,进而实现晶圆从而大气环境传输至真空环境。
[0003]相关技术中,为了提高传输晶圆的传输效率,同时也为了减少预装载腔室的开启次数,通常将装有多个晶圆的晶片承载盒移入预装载腔室,预装载腔室抽真空后,真空机械手依次将晶片承载盒内的晶圆传输至真空传输腔内。当晶圆完成工艺后,真空机械手又将晶圆传回预装载腔室,并放置在晶片承载盒内。而后预装载腔室通气,以使预装载腔室处于大气环境,再开启预装载腔室将晶片承载盒移出预装载腔室。
[0004]预装载腔室需要对晶片承载盒进行定位,防止机械手在抓取晶圆的过程中晶片承载盒发生移位等现象,导致晶圆在晶片承载盒内的安装位置发生变化,进而影响晶圆的传输稳定性。
[0005]相关技术中,预装载腔室的基座上固定设置有定位块,定位块上开设有定位槽,定位块位于晶片承载盒的两条竖梁之间,并与两条竖梁定位配合。晶圆承载盒的横梁位于定位槽内,并与定位槽定位配合。晶片承载盒通过定位块实现在预装载腔室内的定位。 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种晶片承载盒的定位装置,用于对装入预装载腔室内的晶片承载盒(200)进行定位,所述预装载腔室包括基座(110),所述基座(110)用于承载所述晶片承载盒(200),其特征在于,所述定位装置(100)包括第一定位部(120)和第二定位部(130);所述第一定位部(120)和所述第二定位部(130)均可活动的设置于所述基座(110)上,且所述第一定位部(120)和所述第二定位部(130)可相对远离或靠近,以对不同尺寸的所述晶片承载盒(200)进行定位。2.根据权利要求1所述的定位装置,其特征在于,所述基座(110)开设有定位凹槽(1121),所述定位凹槽(1121)用于沿第一方向对所述晶片承载盒(200)进行定位,所述定位凹槽(1121)位于所述第一定位部(120)和所述第二定位部(130)之间;所述第一定位部(120)和所述第二定位部(130)均相对于所述基座(110)沿第二方向移动,所述第一定位部(120)和所述第二定位部(130)用于沿所述第二方向对所述晶片承载盒(200)进行定位,所述第二方向与所述第一方向垂直。3.根据权利要求2所述的定位装置,其特征在于,所述基座(110)开设有沿所述第二方向延伸的第一滑槽(1111)和第二滑槽(1112);所述第一定位部(120)的部分位于所述第一滑槽(1111)内,且沿所述第一滑槽(1111)的延伸方向滑动;所述第二定位部(130)的部分位于所述第二滑槽(1112)内,且沿所述第二滑槽(1112)的延伸方向滑动;在沿所述第一滑槽(1111)的槽口至槽底的方向上,所述第一定位部(120)位于所述第一滑槽(1111)内的部分的横截面面积逐渐增大,所述第一滑槽(1111)的形状与所述第一定位部(120)位于所述第一滑槽(1111)内的部分的形状相匹配;在沿所述第二滑槽(1112)的槽口至槽底的方向上,所述第二定位部(130)位于所述第二滑槽(1112)内部分的横截面面积逐渐增大,所述第二滑槽(1112)的形状与所述第二定位部(130)位于所述第二滑槽(1112)内的部分的形状相匹配。4.根据权利要求3所述的定位装置,其特征在于,所述定位装置还包括调节螺杆(140),所述调节螺杆(140)包括第一螺纹杆段(141)和第二螺纹杆段(142),所述第一螺纹杆段(141)位于所述第一滑槽(1111)内,所述第二螺纹杆段(142)位于所述第二滑槽(1112)内;所述第一定位部(120)沿所述第二方向开设...
【专利技术属性】
技术研发人员:纪克红,
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:
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