子像素定位坐标修正方法、装置、设备及可读存储介质制造方法及图纸

本申请涉及一种子像素定位坐标修正方法、装置、设备及可读存储介质，涉及OLED面板技术领域，包括对子像素的初始定位坐标进行拟合，得到拟合坐标；根据所述拟合坐标和所述初始定位坐标计算得到坐标畸变值；基于所述坐标畸变值对所述拟合坐标进行修正，得到修正后的子像素坐标。本申请通过对不准确的子像素的初始定位坐标进行拟合，得到更加平滑的定位结果，然后通过拟合坐标对初始定位坐标的畸变程度进行量化处理，最后根据量化结果对拟合坐标进行平滑修正，得到准确的子像素坐标，以提升子像素的定位精度，进而提升亮度提取的精度。进而提升亮度提取的精度。进而提升亮度提取的精度。

【技术实现步骤摘要】
子像素定位坐标修正方法、装置、设备及可读存储介质


[0001]本申请涉及OLED面板
，特别涉及一种子像素定位坐标修正方法、装置、设备及可读存储介质。

技术介绍

[0002]相对于LCD（Liquid Crystal Display，液晶显示器）屏幕来说，OLED（Organic Light
‑
Emitting Diode，有机发光二极管）因拥有更优秀的功能，且具备更加轻薄、对比度更高、色域显示更广等特性，市场需求旺盛，行业发展速度快，特别是在智能手机领域，OLED正成为智能手机显示屏发展的主流。不过，由于OLED中的各个子像素是独立驱动且自发光的，因此受生产工艺影响，每个子像素在接收到同样驱动信号时的发光强度不一致，进而造成了屏体本身存在亮暗不均的现象，即Mura缺陷。
[0003]而Mura缺陷难以从工艺上完全克服，一般通过外部补偿技术来解决。目前常用的外部补偿方法为光学抽取式（即De
‑
Mura），该方式结构简单且方法灵活，具体的：先将屏幕点亮后，再通过光学拍摄的方法提取各子像素的亮度，然本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种子像素定位坐标修正方法，其特征在于，包括以下步骤：对子像素的初始定位坐标进行拟合，得到拟合坐标；根据所述拟合坐标和所述初始定位坐标计算得到坐标畸变值；基于所述坐标畸变值对所述拟合坐标进行修正，得到修正后的子像素坐标。2.如权利要求1所述的子像素定位坐标修正方法，其特征在于，所述基于所述坐标畸变值对所述拟合坐标进行修正，得到修正后的子像素坐标，包括：将所述坐标畸变值输入高斯滤波器，以供所述高斯滤波器对所述坐标畸变值对应的畸变区域进行滤波处理，得到修复值；根据所述修复值对所述拟合坐标进行修正，得到修正后的子像素坐标。3.如权利要求1所述的子像素定位坐标修正方法，其特征在于，所述对子像素的初始定位坐标进行拟合，得到拟合坐标，包括：基于多项式模型分别对所述子像素的初始定位坐标的横坐标和纵坐标进行拟合，得到所述初始定位坐标对应的拟合坐标。4.如权利要求3所述的子像素定位坐标修正方法，其特征在于，所述基于多项式模型分别对所述子像素的初始定位坐标的横坐标和纵坐标进行拟合，得到所述初始定位坐标对应的拟合坐标，包括：基于各个所述子像素的初始定位坐标的横坐标和像素点排布索引值创建多个第一等式；基于最小二乘法对多个所述第一等式进行求解，得到横坐标的拟合系数；基于各个所述子像素的初始定位坐标的纵坐标和像素点排布索引值创建多个第二等式；基于最小二乘法对多个所述第二等式进行求解，得到纵坐标的拟合系数；将所述横坐标的拟合系数和所述纵坐标的拟合系数输入至多项式模型，得...

【专利技术属性】
技术研发人员：程姣，梅林海，徐超，
申请(专利权)人：武汉精测电子集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：