一种薄膜改性装置和用于工业连续化处理改性系统制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种薄膜改性装置和工业连续化处理改性系统，放电处理单元和气体循环单元位于外壳内，外壳下方开口，气体循环单元包括第一气体单元和第二气体单元，第二气体单元包括多个凸形单元组，每个气道组包括对称布置的两个凸形单元，两个凸形之间设有第二空隙，第一气体单元包括多个L形气道，每个L形式气道和一个凸形单元连接，相邻的L形气道之间设有第一空隙，凸形单元为电极，中心辊轮表面上由内到外依次敷设地电极和第二阻挡介质层。本发明专利技术的实现了大气压环境下的大面积均匀改性，避免了真空与密封设备的使用，减少了使用过程中的损耗，放电处理单元可同时对薄膜两面提供不同的处理效果，大大增加了薄膜的应用可能性。大大增加了薄膜的应用可能性。大大增加了薄膜的应用可能性。

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜改性装置和用于工业连续化处理改性系统


[0001]本专利技术属于薄膜改性领域，涉及一种薄膜改性装置和用于工业连续化处理改性系统。

技术介绍

[0002]薄膜材料长期应用于工业农业，近年来随着技术要求的提升，对薄膜性能的多元化、高质量要求随之提升。光学用薄膜要求其拥有优异的透光性，电气用薄膜要求其拥有良好的绝缘性，建材用薄膜要求其拥有优良防水性。为达到工程技术应用需求，在薄膜加工成型后的后处理技术十分重要。
[0003]目前用于薄膜性能提升的处理技术主要分为两类，化学涂敷处理与物理放电处理。化学处理是利用药剂作用薄膜表面，与薄膜集团发生反应，或直接喷涂于薄膜表面形成均匀涂层，改善薄膜表面性能。化学涂敷处理的缺点在于其药剂配比复杂多变，处理准备时间较长，工艺环节多，造成了生产效率的限制。物理放电处理则是利用电晕放电等离子体处理非极性薄膜表面，起到断裂化学键、提高表面能、增加表面粗糙度的作用。传统的物理放电处理存在处理效果单一的缺点，而近年来由于技术突破，改缺点有所弥补，物理处理方法的优势得到体现，在改性时添加各种前驱物可以在薄膜表面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种薄膜改性装置，包括放电处理单元（003），其特征在于：所述放电处理单元（003）和气体循环单元（002）位于外壳（101）内，并位于中心辊轮上方，外壳（101）下方开口，所述气体循环单元（001）包括第一气体单元（102）和第二气体单元（103），所述第二气体单元（102）包括多个凸形单元组，每个气道组包括对称布置的两个凸形单元，两个所述凸形之间设有第二空隙，所述第一气体单元（102）包括多个L形气道，每个L形式气道和一个凸形单元连接，相邻的L形气道之间设有第一空隙，所述的凸形单元为电极，中心辊轮（201）表面上由内到外依次敷设地电极和第二阻挡介质层（203），所述中心辊轮（201）能够转动，所述中心辊轮（201）设有动力辊轮（301），用于固定被处理的薄膜（302）和为薄膜（302）运动提供动力。2.如权利要求1所述的薄膜改性装置，其特征在于：所述凸形单元包括四层，从内到外依次为铜芯导电层（207）、半导电层（206）、黏着层（206）和第一阻挡介质层（204）。3.如权利要求2所述的薄膜改性装置，其特征在于：所述第一阻挡介质层（204）和第二阻挡介质层（203）厚度相同。4.如权利要求1所述的薄膜改性装置，其特征在于：所述半导电层（206）的材质为高压下的良导体材料。5.如权利要求1所述的薄膜改性装置，其特征在于：所述黏着层（206）的材质为陶瓷、石英、PC、PTF...

【专利技术属性】
技术研发人员：祝曦，李劲卓，许金钢，方志，
申请(专利权)人：南京工业大学，
类型：发明
国别省市：