盖板组件、盖板组件制备方法及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种盖板组件、盖板组件制备方法及显示装置，一种盖板组件，具有弯折区，盖板组件包括：盖板本体，位于弯折区的盖板本体的表面设有开槽；填充介质，填充于开槽内，填充介质包括多个磁性相同的磁性单元。通过开槽能够为盖板本体弯折变形留出形变空间，避免应力集中。本发明专利技术进一步在开槽内设置有填充介质，填充介质通过自身的形变也能够吸收一部分的弯折应力。但填充介质通过自身的形变所吸收一部分的弯折应力有限，为了进一步降低因弯折产生的应力，本发明专利技术实施例在填充介质包括多个磁性相同的磁性单元，磁性相同的磁性单元之间具有排斥力，磁性单元之间的斥力可降低因弯折产生应力快速集中而导致盖板本体破碎的风险。生应力快速集中而导致盖板本体破碎的风险。生应力快速集中而导致盖板本体破碎的风险。

【技术实现步骤摘要】
盖板组件、盖板组件制备方法及显示装置


[0001]本专利技术属于电子产品
，尤其涉及一种盖板组件、盖板组件制备方法及显示装置。

技术介绍

[0002]目前柔性手机盖板材料主要采用CPI(Colorless Polyimide)材料，但折叠屏幕的耐磨性易刮擦，表面塑胶触摸感及折痕现象方面有待提升。普通玻璃是脆性材料，但当玻璃厚度≤100μm时，玻璃具有了柔软性，可以弯曲卷绕，即同时具有柔韧性和一定刚性。目前超薄玻璃UTG(Ultra Thin Glass)有望成为新型折叠手机盖板的优选。但在屏幕弯折时，受到材料物理性质的限制，UTG盖板仍具有玻璃易碎破裂的本质缺陷，会导致碎片飞溅的风险。
[0003]因此，亟需一种新的盖板组件、盖板组件制备方法及显示装置。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供了一种盖板组件、盖板组件制备方法及显示装置，通过开槽能够为盖板本体弯折变形留出形变空间，避免应力集中。然而若只设置开槽，则形成开槽的那部分盖板本体在弯折时会受到更大的弯折应力，为了避免这种情况，本专利技术进一步在开槽内设置有填充介质，填充介质通过自身的形变也能够吸收一部分的弯折应力。但填充介质通过自身的形变所吸收一部分的弯折应力有限，为了进一步降低因弯折产生的应力，本专利技术实施例在填充介质包括多个磁性相同的磁性单元，磁性相同的磁性单元之间具有排斥力，磁性单元之间的斥力可降低因弯折产生应力快速集中而导致盖板本体破碎的风险。
[0005]本专利技术实施例一方面提供了一种盖板组件，具有弯折区，所述盖板组件包括：盖板本体，位于所述弯折区的所述盖板本体的表面设有开槽；填充介质，填充于所述开槽内，所述填充介质包括多个磁性相同的磁性单元。
[0006]根据本专利技术的一个方面，所述盖板组件具有与所述弯折区相邻设置的平面区，在沿所述盖板本体的厚度的方向上，所述开槽的深度小于或者等于位于所述平面区的所述盖板本体厚度的五分之三。
[0007]根据本专利技术的一个方面，在沿所述盖板本体的厚度的方向上，位于所述平面区的所述盖板本体厚度为90μm～110μm；和/或，所述开槽的深度为50μm～70μm。
[0008]根据本专利技术的一个方面，所述磁性单元包括磁性颗粒以及多个围绕所述磁性颗粒均匀分布的金属分子配体，所述盖板本体处于弯折状态下，相邻的所述磁性单元受压交换所述金属分子配体；相邻的所述磁性单元之间的距离为20nm～600nm；所述填充介质中的所述磁性单元的体积占比大于或者等于25％。
[0009]根据本专利技术的一个方面，所述磁性单元的粒径为50nm～150nm。
[0010]根据本专利技术的一个方面，所述磁性颗粒包括磁性氧化铁，所述金属分子配体包括铁离子。
[0011]根据本专利技术的一个方面，在沿所述盖板本体的厚度的方向上，所述开槽的开口横
截面面积逐渐增大。
[0012]本专利技术实施例另一方面提供了一种盖板组件制备方法，包括以下步骤：提供待加工盖板本体；在所述待加工盖板本体的弯折区形成开槽；在所述开槽内填充填充介质，所述填充介质包括多个磁性相同的磁性单元。
[0013]根据本专利技术的另一个方面，所述填充介质包括胶体，所述磁性单元均匀分散于所述胶体中，在所述开槽内填充所述填充介质之后还包括：对所述填充介质进行固化。
[0014]本专利技术实施例又一方面提供了一种显示装置，包括：盖板组件，所述盖板组件为上述任一实施例所述的盖板组件；显示面板，所述盖板组件设于所述显示面板的出光侧。
[0015]与现有技术相比，本专利技术实施例所提供的盖板组件包括盖板本体和填充介质，填充介质填充于盖板本体位于弯折区的开槽内，当盖板本体向开槽所在一侧发生弯折时，由于在弯折区设置有开槽，通过开槽能够为盖板本体弯折变形留出形变空间，避免应力集中。然而若只设置开槽，则形成开槽的那部分盖板本体在弯折时会受到更大的弯折应力，为了避免这种情况，本专利技术进一步在开槽内设置有填充介质，填充介质通过自身的形变也能够吸收一部分的弯折应力。但填充介质通过自身的形变所吸收一部分的弯折应力有限，为了进一步降低因弯折产生的应力，本专利技术实施例在填充介质包括多个磁性相同的磁性单元，磁性相同的磁性单元之间具有排斥力，磁性单元之间的斥力可降低因弯折产生应力快速集中而导致盖板本体破碎的风险。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对本专利技术实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1是本专利技术实施例提供的一种盖板组件的结构示意图；
[0018]图2是本专利技术实施例提供的一种盖板组件弯折前的磁性单元状态的结构示意图；
[0019]图3是本专利技术实施例提供的一种盖板组件弯折过程中的磁性单元状态的结构示意图；
[0020]图4是本专利技术实施例提供的一种盖板组件弯折后的磁性单元状态的结构示意图；
[0021]图5是本专利技术实施例提供的一种盖板组件制备方法的流程图。
[0022]附图中：
[0023]1‑
盖板本体；2
‑
填充介质；3
‑
磁性单元；31
‑
磁性颗粒；32
‑
金属分子配体；K
‑
开槽；PA
‑
平面区；WA
‑
弯折区。
具体实施方式
[0024]下面将详细描述本专利技术的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本专利技术进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本专利技术，并不被配置为限定本专利技术。对于本领域技术人员来说，本专利技术可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本专利技术的示例来提供对本专利技术更好的理
解。
[0025]需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0026]应当理解，在描述部件的结构时，当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时，可以指直接位于另一层、另一个区域上面，或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且，如果将部件翻转，该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种盖板组件，其特征在于，具有弯折区，所述盖板组件包括：盖板本体，位于所述弯折区的所述盖板本体的表面设有开槽；填充介质，填充于所述开槽内，所述填充介质包含多个磁性相同的磁性单元。2.根据权利要求1所述的盖板组件，其特征在于，所述盖板组件具有与所述弯折区相邻设置的平面区，在沿所述盖板本体的厚度的方向上，所述开槽的深度小于或者等于位于所述平面区的所述盖板本体厚度的五分之三。3.根据权利要求2所述的盖板组件，其特征在于，在沿所述盖板本体的厚度的方向上，位于所述平面区的所述盖板本体厚度为90μm～110μm；和/或，所述开槽的深度为50μm～70μm。4.根据权利要求1所述的盖板组件，其特征在于，所述磁性单元包括磁性颗粒以及多个围绕所述磁性颗粒均匀分布的金属分子配体；所述盖板本体处于弯折状态下，相邻的所述磁性单元受压交换所述金属分子配体；优选的，相邻的所述磁性单元之间的距离为20nm～600nm；优选的，所述填充介质中的所述磁性单元的...

【专利技术属性】
技术研发人员：远新新，应如波，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：