光纤制备方法及设备技术

本发明专利技术提供一种光纤的制备方法和设备，光纤的制备方法包括步骤：将第一涂层和第二涂层涂覆于纤芯的周侧；其中，所述第一涂层的弹性模量≤1.5Mpa，断裂伸长率≥130％，所述第一涂层由密度为0.95～1.2g/cm3、折射率≤1.52的涂料在温度≥0℃的环境下进行玻璃化得到，所述第一涂层在200℃的温度环境下48h后热失重≤10％；所述第二涂层的弹性模量≥650MPa，断裂伸长率≥10％，所述第二涂层由密度为0.95～1.3g/cm3、折射率≤1.54的涂料在温度≥50℃的环境下进行玻璃化得到，所述第二涂层在200℃下48h的温度环境下热失重≤10％，第一涂层和第二涂层两种涂层均有较高的玻璃化转变温度，使光纤具备在180℃下长期使用的能力，且具备较低的衰减值，在1550nm波段下衰减典型值可达到0.21dB/km以下。到0.21dB/km以下。到0.21dB/km以下。

【技术实现步骤摘要】
光纤制备方法及设备


[0001]本专利技术涉及电传导
，尤其涉及一种光纤制备方法及设备。

技术介绍

[0002]光纤由纤芯和涂层材料构成，涂层材料是为了保证光纤的各项性能指标可以满足使用需求。一般涂层材料为丙烯酸树脂材料，经过涂覆后光纤一般可以在
‑
60～85℃稳定使用，但当继续升高温度时，涂层材料的分子结构被破坏导致光纤无法正常使用。
[0003]耐温光纤是一类特殊的光纤，通过改善光纤涂层材料的特性以及光纤的制备工艺，使光纤可以在更高的温度下进行工作，目前通过改性的丙烯酸树脂材料所制备的光纤只能在150℃的温度以下进行长期使用，若需要在更高温度下使用则需要使用硅基材料涂层，硅基材料涂层虽然提升了耐温性能，但是因为硅基材料涂层在固化后偏硬，弹性模量大，导致光纤衰减系数较大，通常在1550nm波段下衰减典型值为0.25dB/km，光纤的衰减值偏大严重限制了光纤的传输距离，不适合长距离传输。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供了一种光纤制备方法及设备，以解决现有技术中的针对光纤的制备方法难以使光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光纤的制备方法，其特征在于，包括步骤：将第一涂层和第二涂层涂覆于纤芯的周侧；其中，所述第一涂层的弹性模量≤1.5Mpa，断裂伸长率≥130％，所述第一涂层由密度为0.95～1.2g/cm3、折射率≤1.52的涂料在温度≥0℃的环境下进行玻璃化得到，所述第一涂层在200℃的温度环境下48h后热失重≤10％；所述第二涂层的弹性模量≥650MPa，断裂伸长率≥10％，所述第二涂层由密度为0.95～1.3g/cm3、折射率≤1.54的涂料在温度≥50℃的环境下进行玻璃化得到，所述第二涂层在200℃下48h的温度环境下热失重≤10％。2.根据权利要求1所述的光纤制备方法，其特征在于，所述第一涂层和所述第二涂层由内到外依次设置于所述纤芯的周侧。3.根据权利要求1所述的光纤制备方法，其特征在于，用于形成所述第一涂层的涂料包括在25℃的温度下粘度为3500～7500cps的涂料，所述第一涂层的涂覆温度为28～60℃，用于形成所述第一涂层的涂料在涂覆过程中的粘度控制在1500～3500cps。4.根据权利要求1所述的光纤制备方法，其特征在于，用于形成所述第二涂层的涂料包括在25℃的温度下粘度为2500～6500cps的涂料，所述第二涂层的涂覆温度为25～55℃，用于形成所述第二涂层的涂料在涂覆过程中的粘度控制在1500～3500cps。5.根据权利要求1所述的光纤制备方法，其特征在于，以0.04～0.5Mpa的一次压力对所述第一涂层和/或所述第二涂层进行涂覆。6.根据权利要求1所述的光纤制备方法，其特征在于，将固化后的所述第一涂层的直径控制在180～200μm的范围内，将固化后的所述第二涂层的直径控制在235～255μm的范围内。7.根据权利要求1所述的光纤制备方法，其特征在于，用于形成所述第一涂层的涂料由40
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【专利技术属性】
技术研发人员：朱钱生，丁春来，施政安，曹珊珊，王震，薛济萍，
申请(专利权)人：江东科技有限公司江苏中天科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：