熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备制造技术

技术编号:32891203 阅读:15 留言:0更新日期:2022-04-07 11:38
本实用新型专利技术提供了一种熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备,包括熏蒸台面、均布于熏蒸台面上的蒸汽出口和分布于各个蒸汽出口之间的漫反射传感器,所述蒸汽出口通过蒸汽管道连通熏蒸设备,每条蒸汽管道上均安装有出汽控制装置,所述出汽控制装置用于控制药雾和蒸汽的输出量,所述出汽控制装置通过中控设备关联所述漫反射传感器,根据漫反射传感器的状态信息,所述中控设备控制各个出汽控制装置的控制状态。该熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备通过漫反射传感器的加入,检测人体仰卧时的边界位置,然后控制输出的药雾范围,避免药雾浪费,还可通过控制手段,控制药雾输出直接对准患处,达到最好的局部治疗效果。到最好的局部治疗效果。到最好的局部治疗效果。

【技术实现步骤摘要】
熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备


[0001]本技术涉及中药熏蒸领域,具体的说,涉及了一种熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备。

技术介绍

[0002]中药熏蒸疗法又称为中药蒸煮疗法、中药汽浴疗、药透疗法、热雾疗法等。在一些少数民族地区,被称为“烘雅”。
[0003]中药熏蒸是以热药蒸汽为治疗因子的化学、物理综合疗法。这种方法最早用于临床的自先秦就有记载,后世不乏其术。到清代,中药熏蒸趋于成熟。随着科学技术的日新月异,中药熏蒸无论是理论还是实践均有相应发展,逐渐泛用于休闲保健、康复疗养和临床治疗精神疾病等诸多方面。
[0004]现有床式熏蒸输出熏蒸的方式不能做到精准的熏蒸,往往是整个床面上布孔,全部输出药物蒸汽,这就导致药物的极大浪费。
[0005]为了解决以上存在的问题,人们一直在寻求一种理想的技术解决方案。

技术实现思路

[0006]本技术的目的是针对现有技术的不足,从而提供一种自调节药雾排放范围、避免药雾浪费的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备。
[0007]为了实现上述目的,本技术所采用的技术方案是:一种熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备,包括熏蒸台面、均布于熏蒸台面上的蒸汽出口和分布于各个蒸汽出口之间的漫反射传感器,所述蒸汽出口通过蒸汽管道连通熏蒸设备,每条蒸汽管道上均安装有出汽控制装置,所述出汽控制装置用于控制药雾和蒸汽的输出量,所述出汽控制装置通过中控设备关联所述漫反射传感器,根据漫反射传感器的状态信息,所述中控设备控制各个出汽控制装置的控制状态。
[0008]基上所述,各所述蒸汽管道的进口处均设置蒸汽支管和药雾支管,所述出汽控制装置包括设置于所述蒸汽支管处安装的蒸汽流量调节阀和所述药雾支管处安装的药雾流量调节阀,所述蒸汽流量调节阀和药雾流量调节阀均连接所述中控设备,所述药雾流量调节阀通过中控设备关联所述漫反射传感器,当所述漫反射传感器未接收到感应信号时,控制相邻的药雾流量调节阀关闭。
[0009]基上所述,相邻的每四个蒸汽出口的中心处安装一个漫反射传感器。
[0010]基上所述,当相邻两个漫反射传感器中,只有一个漫反射传感器接收到感应信号时,优先控制接收到感应信号的漫反射传感器四周的蒸汽出口所对应的药雾流量调节阀开启。
[0011]基上所述,所述蒸汽流量调节阀和药雾流量调节阀的调节频率和调节程度由中控设备输出的指令控制调节。
[0012]基上所述,还包括由中控设备连接的显示屏,所述显示屏用于模拟显示蒸汽出口
的分布、各蒸汽出口处输出蒸汽和药雾的状态以及漫反射传感器的感应状态。
[0013]基上所述,所述熏蒸台面为包括下层台面和上层台面的双层结构,所述蒸汽出口设于下层台面上,所述上层台面上均布有细孔,所述下层台面和上层台面之间设置间隙。
[0014]基上所述,所述熏蒸台面上对应人体的头、臀和脚设置三组定位传感器,三组定位传感器采用磁吸形式可调节的固定于熏蒸台面上。
[0015]基上所述,所述下层台面上各个蒸汽出口和漫反射传感器的四周均设置斜面导流结构,各斜面导流结构交接处形成贯通的排水渠道,所述下层台面的四周设置对接各条排水渠道的汇水渠道。
[0016]基上所述,所述中控设备包括处理器模块,所述处理器模块内置穴位匹配模块,根据各漫反射传感器所确定的人体轮廓,计算出人体的穴位分布位置,并控制相应位置的蒸汽出口排出药雾。
[0017]本技术相对现有技术具有实质性特点和进步,具体的说,本技术改造药雾排出机制,将药雾和蒸汽分别控制,具体根据漫反射传感器感应人体边界的机制,控制只有感应到人体存在的区域排放药雾,其它未感应到人体存在的区域仅排放蒸汽,一方面避免了药雾浪费,另一方面,保证了周身环境中的熏蒸温度,不影响熏蒸体验。
[0018]进一步的,药雾和蒸汽采用流量调节阀来控制比例和输出量,这些细节可通过中控设备内置的程序来实现动态变化,实现了不同熏蒸药针对不同疾病的不同理疗策略。
[0019]进一步的,为直观观察熏蒸状态,加装显示器,模拟显示当前的蒸汽和药雾的输出状态以及漫反射传感器的工作状态。
[0020]进一步的,熏蒸台面设置为双层结构,避免人体对蒸汽出口的堵塞,防止长时间熏蒸后的液体积存,影响舒适感,同时,构造排水系统,保持熏蒸环境中的积液始终较少。
[0021]进一步的,对应人体的头、臀和脚设置定位传感器,预先设定好人体的长度,辅助漫反射传感器的感应精度,避免出现严重的误报情况。
[0022]进一步的,设置处理器模块,内置穴位匹配模块,根据各漫反射传感器所确定的人体轮廓,计算出人体的穴位分布位置,并控制相应位置的蒸汽出口排出药雾,形成针对穴位的药雾治疗。
附图说明
[0023]图1是本技术中熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备的结构示意图。
[0024]图2是本技术中蒸汽管道的结构示意图。
[0025]图3是本技术中熏蒸台面的结构示意图。
[0026]图中:1.熏蒸台面;2.蒸汽出口;3.漫反射传感器;4.蒸汽管道;5.蒸汽支管;6.药雾支管;7.蒸汽流量调节阀;8.药雾流量调节阀;9.中控设备;10.显示屏;11.下层台面;12.上层台面。
具体实施方式
[0027]下面通过具体实施方式,对本技术的技术方案做进一步的详细描述。
[0028]如图1

图3所示,一种熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备,包括熏蒸台面1、均布于熏蒸台面上的蒸汽出口2和分布于各个蒸汽出口2之间的漫反射传感器3,本实施例中,相邻的
每四个蒸汽出口2的中心处安装一个漫反射传感器3。
[0029]所述蒸汽出口2通过蒸汽管道4连通熏蒸设备,各所述蒸汽管道的进口处均设置蒸汽支管5和药雾支管6,所述蒸汽支管5处安装蒸汽流量调节阀7,所述药雾支管6处安装药雾流量调节阀8,所述蒸汽流量调节阀7和药雾流量调节阀8均连接中控设备,所述药雾流量调节阀7通过中控设备9关联所述漫反射传感器3,当所述漫反射传感器3未接收到感应信号时,控制相邻的药雾流量调节阀8关闭。
[0030]当相邻两个漫反射传感器3中,只有一个漫反射传感器接收到感应信号时,优先控制接收到感应信号的漫反射传感器四周的蒸汽出口所对应的药雾流量调节阀开启。
[0031]所述蒸汽流量调节阀和药雾流量调节阀的调节频率和调节程度由中控设备输出的指令控制调节。
[0032]为了方便监控,设置由中控设备连接的显示屏10,所述显示屏用于模拟显示蒸汽出口的分布、各蒸汽出口处输出蒸汽和药雾的状态以及漫反射传感器的感应状态。
[0033]为防止积液,所述熏蒸台面1为包括下层台面11和上层台面12的双层结构,所述蒸汽出口2设于下层台面11上,所述上层台面12上均布有细孔,所述下层台面11和上层台面12之间设置间隙,所述下层台面上各个蒸汽出口和漫反射传感器的四周均设置斜面导流结构,各斜面导流结构交接处形成贯通的排水渠道,所述下层台面的四周设置本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备,其特征在于:包括熏蒸台面、均布于熏蒸台面上的蒸汽出口和分布于各个蒸汽出口之间的漫反射传感器,所述蒸汽出口通过蒸汽管道连通熏蒸设备,每条蒸汽管道上均安装有出汽控制装置,所述出汽控制装置用于控制药雾和蒸汽的输出量,所述出汽控制装置通过中控设备关联所述漫反射传感器,根据漫反射传感器的状态信息,所述中控设备控制各个出汽控制装置的控制状态。2.根据权利要求1所述的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备,其特征在于:各所述蒸汽管道的进口处均设置蒸汽支管和药雾支管,所述出汽控制装置包括设置于所述蒸汽支管处安装的蒸汽流量调节阀和所述药雾支管处安装的药雾流量调节阀,所述蒸汽流量调节阀和药雾流量调节阀均连接所述中控设备,所述药雾流量调节阀通过中控设备关联所述漫反射传感器,当所述漫反射传感器未接收到感应信号时,控制相邻的药雾流量调节阀关闭。3.根据权利要求2所述的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备,其特征在于:相邻的每四个蒸汽出口的中心处安装一个漫反射传感器。4.根据权利要求3所述的熏蒸口可调节的分布式熏蒸设备,其特征在于:当相邻两个漫反射传感器中,只有一个漫反射传感器接收到感应信号时,优先控制接收到感...

【专利技术属性】
技术研发人员:高永辉韩俊阳宋小辉张晓伟张卫星
申请(专利权)人:郑州三弘医疗器械有限公司
类型:新型
国别省市:

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