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一种新型的擦、抹、抛光通用的带式结构制造技术

技术编号:328772 阅读:164 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了擦鞋机和抛光机等使用的布带,具体的说是一种新型的擦、抹、抛光通用的带式结构。该结构有一个平面基布带,在平面基布带的表面上设置横向带波浪状的布片组成的。使用时可以依据擦鞋机,抛光机等机械要求,固定在其机相应的位置或圈在其机内的滚轮上实施擦、抹、抛光的工作。需要更换时只要将本实用新型专利技术的整个布带脱下换上新的布带即可。(*该技术在2012年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
本技术涉及擦鞋机和抛光机等使用的布带,具体的说是一种新型的擦、抹、抛光通用的带式结构。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是有一个平面基布带,在平面基布带的表面上设置横向带波浪状的布片。所述的基布带可以是棉布、人造纤维、人造革、尼龙和橡胶材料制作的;所述的布片其间隔为0.01~3mm,其材料可以是棉布、人造纤维、人造革、尼龙和橡胶的。使用时可以依据擦鞋机,抛光机等机械要求,圈在擦鞋机或抛光机内的轮芯表面上实施擦、抹、抛光的工作。本技术的有益效果是,可以根据机械内部的形状任意进行裁取使用,同时波浪状也可以依据加工体的形状进行设计。而且,本技术的产品易更换,并能提高轮芯利用率而降低生产成本。图中1、平面基布带,2、布片。具体实施方式有一个平面基布带1,在平面基布带1的端面上设置横向带波浪状的布片2。使用时可以依据擦鞋机的要求,固定圈在其机内的轮芯上实施擦、抹、抛光的工作。

【技术保护点】
一种新型的擦、抹、抛光通用的带式结构,其特征是:有一个平面基布带,在平面基布带的表面上设置横向带波浪状的布片。

【技术特征摘要】
1.一种新型的擦、抹、抛光通用的带式结构,其特征是有一个平面基布带,在平面基布带的表面上设置横向带波浪状的布片。2.根据权利要求1所述的一种新型的擦、抹、抛光通用的带式结构,其特征是所述的平面基布带可以...

【专利技术属性】
技术研发人员:张虹
申请(专利权)人:张虹
类型:实用新型
国别省市:35[中国|福建]

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