侦测物品表面缺陷的方法及其系统技术方案

技术编号:32852110 阅读:19 留言:0更新日期:2022-03-30 19:10
本发明专利技术内容公开了一种侦测物品表面缺陷的方法及其系统,侦测物品表面缺陷的方法包含:提供物品;提供侦测物品表面缺陷的系统包含:激光发射模块、激光侦测模块、及分析模块,激光侦测模块电性连接激光发射模块,并且分析模块电性连接激光侦测模块;使用激光发射模块,发射激光至物品的表面;使用激光侦测模块,侦测激光照射至表面时的多个照射位置;使用分析模块,基于多个照射位置,分析表面的表面特征;基于表面特征,判定表面是否存在表面缺陷。本发明专利技术内容还提供了一种侦测物品表面缺陷的系统,相较于公知的自动光学检测系统或是人眼辨识,侦测解析度不会受到照明亮度或是拍摄角度的影响,具有更佳的解析度,可分辨更细微的表面缺陷。表面缺陷。表面缺陷。

【技术实现步骤摘要】
侦测物品表面缺陷的方法及其系统


[0001]本
技术实现思路
涉及侦测表面缺陷的方法及其系统。具体来说,本
技术实现思路
涉及使用激光侦测表面缺陷的方法及其系统。

技术介绍

[0002]半导体工艺中,部分工艺例如高温或是元件转移过程的摩擦或碰撞等,可能造成晶圆或是晶圆处理设备中的元件产生表面缺陷(例如热熔痕或是刮痕),影响后续工艺的良率。举例而言,当晶圆存放载具内缘存在表面缺陷时,易造成机械手臂在存取晶圆时,受到表面缺陷的干涉,造成晶圆破片。
[0003]现行检查表面缺陷的方法,主要是依靠人眼判读或是自动光学检测系统。然而,当表面缺陷较不明显时,人眼判读容易漏检,至于自动光学检测系统,则有灯光以及撷取角度的限制,若灯光不足或撷取角度不适当,也容易漏检,此外,解析度也存在着限制。
[0004]因此,如何能提供无须灯光并且高解析度,即能侦测物品表面缺陷的方法以及系统,是亟欲解决的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的内容在于提供一种供侦测物品表面缺陷的方法及其系统,相较于公知的自动光学检测系统或是人眼辨识,侦测解析度不会受到照明亮度或是拍摄角度的影响,具有更佳的解析度,可分辨更细微的表面缺陷。
[0006]本
技术实现思路
中的一个实施例是提供一种提供侦测物品表面缺陷的方法,包含:提供物品;提供侦测物品表面缺陷的系统,包含:激光发射模块、激光侦测模块、及分析模块,激光侦测模块电性连接激光发射模块,分析模块电性连接激光侦测模块;使用激光发射模块,发射激光至物品的表面;步骤,使用激光侦测模块,侦测激光照射至表面时的多个照射位置;使用分析模块,基于多个照射位置,分析表面的表面特征;基于表面特征,判定表面是否存在表面缺陷。
[0007]在一些实施方式中,物品包括晶圆、或晶圆处理设备中的元件。
[0008]在一些实施方式中,表面缺陷包括物理性损伤。
[0009]在一些实施方式中,激光发射单束光或扇形光。
[0010]在一些实施方式中,若将沿激光的发射点垂直于表面的方向所平行的坐标轴设定为X轴,并将与表面上的任一方向所平行的坐标轴设定为Y轴,则多个照射位置中任一个的信息包括X轴坐标与Y轴坐标。
[0011]在一些实施方式中,分析表面的表面特征步骤,包括呈现多个照射位置的多个Y轴坐标与对应多个Y轴坐标的多个X轴坐标。
[0012]在一些实施方式中,判定表面是否存在表面缺陷步骤,包括如果第一Y轴坐标以及与第一Y轴坐标相邻的第二Y轴坐标,所分别对应的第一X轴坐标以及第二X轴坐标的差值大于特定数值,则判定表面存在表面缺陷。
[0013]本
技术实现思路
中的另一实施例是提供一种提供侦测物品表面缺陷的系统,包含:至少一个个激光发射模块,用以发射激光至物品的表面、至少一个个激光侦测模块以及分析模块,激光发射模块设置于激光侦测模块上,激光侦测模块用以侦测激光照射至表面时的多个照射位置,以及分析模块电性连接激光侦测模块。
[0014]在一些实施方式中,侦测物品表面缺陷的系统还包含多个激光发射模块、多个激光侦测模块或其组合,其中多个激光发射模块设置于其中一个激光侦测模块上,或是多个激光发射模块以一对一的方式分别设置于多个激光侦测模块上。
[0015]在一些实施方式中,分析模块包含自动化判读元件用以根据多个照射位置,判读物品是否存在表面缺陷。
[0016]在一些实施方式中,还包含输送装置,输送装置承载激光发射模块以及激光侦测模块,以输送激光发射模块以及激光侦测模块至待测位置,并且激光侦测模块通过输送装置电性连接分析模块。
[0017]与现有技术相比,本
技术实现思路
的侦测物品表面缺陷的方法及其系统,利用侦测激光照射于表面时,照射位置的高低落差,判读物品是否存在表面缺陷,相较于公知的自动光学检测系统或是人眼辨识,不仅侦测解析度不会受到照明亮度或是拍摄角度的影响,并且具有更佳的解析度,可分辨更细微的表面缺陷。
[0018]应当理解,前述的一般性描述和下文的详细描述都是示例,并且旨在提供对所要求保护的本
技术实现思路
的进一步解释。
附图说明
[0019]通过阅读以下参考附图对实施方式的详细描述,可以更完整地理解本
技术实现思路

[0020]图1示例性地描述根据本
技术实现思路
的一些实施方式中侦测物品的表面缺陷的方法的流程;
[0021]图2示例性地描述根据本
技术实现思路
的一些实施方式中侦测物品的表面缺陷的方法的立体透视图;
[0022]图3示例性地描述根据本
技术实现思路
的另一些实施方式中侦测物品的表面缺陷的方法的立体透视图;
[0023]图4A至图4F示例性地描述根据本
技术实现思路
的一些实施方式中激光发射模块以及激光侦测模块的组合的实施例;
[0024]图5A示例性地描述根据本
技术实现思路
的一些实施方式中侦测物品的表面缺陷的立体透视图;以及
[0025]图5B示例性地描述根据本
技术实现思路
的一实施方式中,针对存在表面缺陷的物品,侦测物品表面缺陷的系统所获得的照射位置的统整曲线图。
[0026]主要附图标记说明:
[0027]100-侦测物品的表面缺陷的方法,200-侦测物品表面缺陷的系统,210-激光发射模块,220-激光侦测模块,230-分析模块,240-输送装置,300-物品,W-宽度,L-间距,X-X轴,X1-第一X轴坐标,X2-第二X轴坐标,Y-Y轴,Z-Z轴,S110、S120、S130、S140、S150、S160-步骤。
具体实施方式
[0028]可以理解的是,下述内容提供的不同实施方式或实施例可实施本专利技术的标的不同特征。特定构件与排列的实施例是用以简化本专利技术而非局限本专利技术。当然,这些仅是实施例,并且不旨在限制。举例来说,以下所述的第一特征形成于第二特征上的叙述包含两者直接接触,或两者之间隔有其他额外特征而非直接接触。此外,本专利技术在多个实施例中可重复参考数字及/或符号。这样的重复是为了简化和清楚,而并不代表所讨论的各实施例及/或配置之间的关系。
[0029]本说明书中所用的术语一般在本领域以及所使用的上下文中具有通常性的意义。本说明书中所使用的实施例,包括本文中所讨论的任何术语的例子仅是说明性的,而不限制本
技术实现思路
或任何示例性术语的范围和意义。同样地,本
技术实现思路
不限于本说明书中所提供的一些实施方式。
[0030]将理解的是,尽管本文可以使用术语第一、第二等来描述各种元件,但是这些元件不应受到这些术语的限制。这些术语用于区分一个元件和另一个元件。举例来说,在不脱离本实施方式的范围的情况下,第一元件可以被称为第二元件,并且类似地,第二元件可以被称为第一元件。
[0031]在本文中,术语“和/或”包含一个或多个相关联的所列项目的任何和所有组合。
[0032]在本文中,术语“包含”、“包括”、“具有”等应理解为开放式,即,意指包括但不限于。
[0033]请见图1以及图2,图1示例性地描述根据本
技术实现思路
的一些实施方式中侦测物品的表面缺陷的方法100的流程,而图2则示例性地描述根据本专利技术内本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种侦测物品表面缺陷的方法,其特征在于,包含:提供物品;提供侦测物品表面缺陷的系统,所述系统包含:激光发射模块;激光侦测模块,电性连接所述激光发射模块;以及分析模块,电性连接所述激光侦测模块;使用所述激光发射模块,发射激光至所述物品的表面;使用所述激光侦测模块,侦测所述激光照射至所述表面时的多个照射位置;使用所述分析模块,基于所述多个照射位置,分析所述表面的表面特征;以及基于所述表面特征,判定所述表面是否存在表面缺陷。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述物品包括晶圆、或晶圆处理设备中的元件。3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述表面缺陷包括物理性损伤。4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述激光发射单束光或扇形光。5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,若将沿所述激光的发射点垂直于所述表面的方向所平行的坐标轴设定为X轴,并将与所述表面上的任一方向所平行的坐标轴设定为Y轴,则所述多个照射位置中任一个的信息包括X轴坐标与Y轴坐标。6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,分析所述表面的所述表面特征步骤,包括呈现所述多个照射位置的多个Y轴坐标与对应所述多个Y轴坐标的多个X轴坐标。7.如权利要求5所述的方法,其特征在于,判定...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘逸文周孙甫胡欣成
申请(专利权)人:南亚科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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