一种多模混合腔调节方法及其控制系统技术方案

本发明专利技术提供一种多模混合腔调节方法及其控制系统，涉及微波多模技术领域，其中多模混合腔调节方法，包括：获取环形器输出的目标反射微波；确定与所述目标反射微波匹配的目标调节策略；基于所述目标处理策略，控制调整双匹配支节上的金属滑块的位置，以此减少经由所述环形器进入多模混合腔的微波反射。通过调节双匹配支节上的金属滑块的位置调节多模混合腔和双匹配支节的阻抗，直至调节到多模混合腔和双匹配支节的阻抗达到最佳时确定金属滑块的目标位置，从而在后续将微波源安装在目标位置处且依次连接波导和腔体时实现微波尽可能多的馈入腔体内且不伤害磁控管的目的，降低了能耗，提高了多模混合腔调节设备的使用寿命。提高了多模混合腔调节设备的使用寿命。提高了多模混合腔调节设备的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种多模混合腔调节方法及其控制系统


[0001]本专利技术涉及微波多模
，涉及但不限于一种多模混合腔调节方法及其控制系统。

技术介绍

[0002]现如今，随着人们对微波技术的研究，使得微波技术的应用领域越来越广泛，常见的是使用微波设备进行消毒杀菌以及废气处理。
[0003]现有的微波设备多为多模混合腔，使得微波进入腔体中时会发生多次反射，从而导致微波馈入腔体内的量很少，不仅伤害磁控管，而且使用微波消毒杀菌以及废气处理的效果不彻底。
[0004]因此，如何将微波尽可能多地摄入腔体内且不伤害磁控管成为现在亟需解决的关键问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于，针对上述现有技术中使用微波设备进行消毒杀菌以及废气处理时存在的问题，提供一种多模混合腔调节方法及其控制系统，以解决现有技术中微波进入腔体中时由于发生多次反射导致的微波馈入腔体内的量很少且伤害磁控管的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术实施例采用的技术方案如下：
[0007]第一方面，本专利技术公开了一种多模混合腔调节方法，所述方法应用于多模混合腔调节设备中，所述方法包括：
[0008]获取环形器输出的目标反射微波；
[0009]确定与所述目标反射微波匹配的目标调节策略；
[0010]基于所述目标处理策略，控制调整双匹配支节上的金属滑块的位置，以此减少经由所述环形器进入多模混合腔的微波反射。
[0011]可选的，所述确定与所述目标反射微波匹配的目标处理策略，包括：
[0012]获取所述目标反射微波的目标累计输出次数；
[0013]判断所述目标累计输出次数与预设次数阈值之间的第一大小关系；
[0014]若所述第一大小关系表征所述目标累计输出次数低于所述预设次数阈值时，则确定包括再次获取环形器输出的目标反射微波的目标处理策略。
[0015]可选的，所述确定与所述反射功率匹配的目标处理策略，包括：
[0016]获取所述目标反射微波的目标反射功率；
[0017]判断所述目标反射功率与预设反射功率阈值之间的第二大小比较关系；
[0018]若所述第二大小关系表征所述目标反射功率高于所述预设反射功率阈值时，则确定包括再次获取环形器输出的目标反射微波的目标处理策略。
[0019]可选的，所述确定与所述反射功率匹配的目标处理策略，包括：
[0020]获取与所述目标反射微波对应的双匹配支节之间的目标间距；
[0021]判断所述目标间距与预设间距阈值之间的第三大小比较关系；
[0022]若所述第三大小关系表征所述目标间距未处于所述预设间距阈值之内时，则确定包括再次获取环形器输出的目标反射微波的目标处理策略。
[0023]可选的，基于所述目标处理策略，控制调整双匹配支节上的金属滑块的位置，包括：
[0024]基于所述包括再次获取环形器输出的目标反射微波的目标处理策略，控制调整双匹配支节上的金属滑块的位置。
[0025]第二方面，本专利技术还公开了一种多模混合腔调节设备，所述设备包括：微波源、环形器、波导、腔体、负载、双匹配支节、控制器；其中，所述微波源与所述环形器的第一端连接，所述环形器的第二端通过所述双匹配支节与所述波导的一端连接，所述波导的另一端与所述腔体连接，所述负载设置于所述腔体中，所述控制器与所述双匹配支节连接。
[0026]第三方面，本专利技术还公开了一种多模混合腔调节装置，所述装置包括：获取模块、确定模块、调节模块，其中：
[0027]获取模块，用于获取环形器输出的目标反射微波；
[0028]确定模块，用于确定与所述目标反射微波匹配的目标调节策略；
[0029]调节模块，用于基于所述目标处理策略，控制调整双匹配支节之间的间距，以此减少经由所述环形器进入多模混合腔的微波反射。
[0030]第四方面，本专利技术公开了一种多模混合腔调节控制设备，所述设备包括：包括处理器、存储器，所述存储器用于存储指令，所述处理器用于执行所述存储器中存储的指令，以使所述装置执行如上述第一方面所述的多模混合腔调节方法。
[0031]第五方面，本专利技术还公开了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质中存储有计算机执行指令，当所述指令被执行时，使得计算机执行如上述第一方面所述的多模混合腔调节方法。
[0032]本专利技术的有益效果是：本专利技术中的一种多模混合腔调节方法及其控制系统，涉及微波多模混合腔
，其中所述多模混合腔调节方法，包括：获取环形器输出的目标反射微波；确定与所述目标反射微波匹配的目标调节策略；基于所述目标处理策略，控制调整双匹配支节上的金属滑块的位置，以此减少经由所述环形器进入多模混合腔的微波反射。也就是说，通过调节双匹配支节上的金属滑块的位置调节多模混合腔和双匹配支节的阻抗，直至调节到多模混合腔和双匹配支节的阻抗达到最佳时确定金属滑块的目标位置，从而在后续将微波源安装在目标位置处且依次连接波导和腔体时实现微波尽可能多的馈入腔体内且不伤害磁控管的目的，大大提高了进入多模混合腔内的微波进行消毒杀菌以及废气处理的处理效率，并且降低了能耗，提高了多模混合腔调节设备的使用寿命。
附图说明
[0033]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它相关的附图。
[0034]图1为本专利技术一实施例提供的多模混合腔调节方法流程示意图；
[0035]图2为本专利技术另一实施例提供的多模混合腔调节设备示意图；
[0036]图3为本专利技术另一实施例提供的多模混合腔调节装置示意图；
[0037]图4为本专利技术另一实施例提供的多模混合腔调节控制设备示意图。
具体实施方式
[0038]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0039]因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0040]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0041]在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该专利技术产品本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多模混合腔调节方法，其特征在于，所述方法应用于多模混合腔调节设备中，所述方法包括：获取环形器输出的目标反射微波；确定与所述目标反射微波匹配的目标处理策略；基于所述目标处理策略，控制调整双匹配支节上的金属滑块的位置，以此减少经由所述环形器进入多模混合腔的微波反射。2.根据权利要求1所述的多模混合腔调节方法，其特征在于，所述确定与所述目标反射微波匹配的目标处理策略，包括：获取所述目标反射微波的目标累计输出次数；判断所述目标累计输出次数与预设次数阈值之间的第一大小关系；若所述第一大小关系表征所述目标累计输出次数低于所述预设次数阈值时，则确定包括再次获取环形器输出的目标反射微波的目标处理策略。3.根据权利要求1所述的多模混合腔调节方法，其特征在于，所述确定与所述反射功率匹配的目标处理策略，包括：获取所述目标反射微波的目标反射功率；判断所述目标反射功率与预设反射功率阈值之间的第二大小比较关系；若所述第二大小关系表征所述目标反射功率高于所述预设反射功率阈值时，则确定包括再次获取环形器输出的目标反射微波的目标处理策略。4.根据权利要求1所述的多模混合腔调节方法，其特征在于，所述确定与所述反射功率匹配的目标处理策略，包括：获取与所述目标反射微波对应的双匹配支节之间的目标间距；判断所述目标间距与预设间距阈值之间的第三大小比较关系；若所述第三大小关系表征所述目标间距未处于所述预设间距阈值之内时，则确定包括再次获取环形器输出的目标反射微波的目标处理...

【专利技术属性】
技术研发人员：马中发，张涛，杨小洲，
申请(专利权)人：陕西青朗万城环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：