一种用于ALD设备的喷射装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于ALD设备的喷射装置，包括气体分布器头部，所述气体分布器头部两侧设有进气口和出气口，所述进气口为圆孔状进气口，所述出气口为扁平的狭长形出气口，所述气体分布器头部的内部由进气口向出气口过渡形成反应腔体。本发明专利技术喷射装置增强气体的分散，使得气体能在腔体里分布更加均匀，镀膜质量更好，减少了气体吹扫时间，加快了镀膜速度。加快了镀膜速度。加快了镀膜速度。

【技术实现步骤摘要】
一种用于ALD设备的喷射装置


[0001]本专利技术涉及气体喷射
，尤其是涉及一种用于ALD设备的喷射装置。

技术介绍

[0002]目前现有的气体分散装置大多为孔板分散的形式，即在一块不锈钢板上开许多的小孔，气体腔体的圆形喷气孔喷出，落到不锈钢板上，经过小孔的扩散从而达到分散气体，提高产品均匀性。但是现有的孔板形式气体分散器体积庞大，不易于加工，并且拆装难度较高，给后期的维护带来了不便。此外，孔板形式气体分散器的效果有限，气体的均匀性并不理想。

技术实现思路

[0003]专利技术目的：为了克服
技术介绍
的不足，本专利技术公开了一种用于ALD设备的喷射装置。
[0004]技术方案：本专利技术公开的用于ALD设备的喷射装置，包括气体分布器头部，所述气体分布器头部两侧设有进气口和出气口，所述进气口为圆孔状进气口，所述出气口为扁平的狭长形出气口，所述气体分布器头部的内部由进气口向出气口过渡形成反应腔体。
[0005]进一步的，所述气体分布器头部在圆环安装垫板上间隔设置多个，所述圆环安装垫板上设有安装座，所述气体分布器本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于ALD设备的喷射装置，其特征在于：包括气体分布器头部(1)，所述气体分布器头部(1)两侧设有进气口(2)和出气口(3)，所述进气口(2)为圆孔状进气口，所述出气口(3)为扁平的狭长形出气口，所述气体分布器头部(1)的内部由进气口(2)向出气口(3)过渡形成反应腔体。2.根据权利要求1所述的用于ALD设备的喷射装置，其特征在于：所述气体分布器头部(1)在圆环安装垫板(4)上间隔设置多个，所述圆环安装垫板(4)上设有安装座(401)，所述气体分布器头部(1)上设有安装支柱(101)，通过安装支柱(101)安装于安装座(401)上。3.根据权利要求1所述的用于ALD设备的喷射装置，其特征在于：所述进气口(2)位于所在侧边的...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑锦，范嘉磊，倪明，付长杰，王亚东，李虎，刘松，朱静静，
申请(专利权)人：南京原磊纳米材料有限公司，
类型：发明
国别省市：