显示基板、显示面板及显示基板制备方法技术

本发明专利技术涉及显示技术领域，公开了一种显示基板、显示面板及显示基板制备方法置。本发明专利技术中，显示基板：包括阵列基板和发光层，发光层设置在阵列基板的一侧，发光层包括发光区和非发光区；阵列基板包括至少一个掺杂层，至少一个掺杂层具有至少一个第一区和至少一个第二区，第一区和第二区相邻设置，第一区在发光层上的正投影完全覆盖非发光区；第一区靠近发光层的一侧表面为第一表面，第一区远离发光层的一侧表面为第二表面，第一表面在发光层上的正投影落在第二表面在发光层上的正投影内；第一区的折射率与相邻的膜层的折射率趋于一致，第一区的折射率大于第二区的折射率。本发明专利技术实施方式具有在保证像素分辨率不变的情况下提升透过率的优点。率的优点。率的优点。

【技术实现步骤摘要】
显示基板、显示面板及显示基板制备方法


[0001]本专利技术涉及显示
，特别涉及显示基板、显示面板及显示基板制备方法。

技术介绍

[0002]显示面板，如有机发光二极管(OrganicLight
‑
EmittingDiode，简称：OLED)因其在固态照明和平板显示的方向拥有巨大的发展潜力而得到了学术界和产业界的极大关注，有机发光二极管(OLED)平板可以做的更轻更薄。
[0003]OLED作为新型显示技术，具有其它一些显示技术所无以比拟的诸多优势，如广视角、高对比度、快响应、低功耗、可折叠和柔性等，因而在新世代显示器中具有强有力的竞争力。
[0004]随着OLED技术的广泛发展和应用深入，对具有更优视觉体验的高屏占比(甚至全面屏)显示屏的追求已成为当前显示技术发展的潮流之一，为了进一步的提升屏占比，需要将摄像头、指纹识别装置等光学设备设置在屏下，形成屏下摄像头和屏下指纹识别等。
[0005]当前屏下摄像头和屏下指纹识别等产品解决方案的主要方法是在正对摄像头和指纹识别装置等设备的屏幕区域设置较低的像素密度，从而使得像素间的透光区面积增大，进而实现更高的光透过率，从而实现不需要打孔的屏下摄像头。但是，该种方案下存在透过率提高和像素分辨率提高的固有矛盾，即像素分辨率提高会导致像素密度增大，屏幕透过率降低，而提升屏幕的透过率时，会导致像素分辨率降低。

技术实现思路

[0006]本专利技术实施方式的目的在于提供一种显示基板、显示面板及显示基板制备方法，使得在保证像素分辨率不变的情况下提升透过率。
[0007]为解决上述技术问题，本专利技术的实施方式提供了一种显示基板，包括：阵列基板和发光层，所述发光层设置在所述阵列基板的一侧，所述发光层包括发光区和非发光区；所述阵列基板包括至少一个掺杂层，所述至少一个掺杂层具有至少一个第一区和至少一个第二区，所述第一区和所述第二区相邻设置，所述第一区在所述发光层上的正投影完全覆盖所述非发光区；所述第一区靠近所述发光层的一侧表面为第一表面，所述第一区远离所述发光层的一侧表面为第二表面，所述第一表面在所述发光层上的正投影落在所述第二表面在所述发光层上的正投影内；所述第一区的折射率与相邻的膜层的折射率趋于一致，所述第一区的折射率大于所述第二区的折射率。
[0008]本专利技术的实施方式还提供了一种显示面板，包括：透明发光区和与所述透明发光区相邻的非透明发光区，所述透明发光区内设置有如前述的显示基板。
[0009]本专利技术的实施方式还提供了一种阵列基板制备方法，包括：形成至少一个掺杂层，所述掺杂层具有至少一个第一区和至少一个第二区，所述第一区和所述第二区相邻设置；在所述掺杂层一侧形成发光层，所述发光层包括发光区和非发光区；所述第一区在所述发光层上的正投影完全覆盖所述非发光区；所述第一区靠近所述发光层的一侧表面为第一表
面，所述第一区远离所述发光层的一侧表面为第二表面，所述第一表面在所述发光层上的正投影落在所述第二表面在所述发光层上的正投影内；所述第一区的折射率与相邻的膜层的折射率趋于一致，所述第一区的折射率大于所述第二区的折射率。
[0010]本专利技术实施方式相对于现有技术而言，在阵列基板中形成至少一个掺杂层，掺杂层设置为包括相邻设置的至少一个第一区和至少一个第二区，且第一区在发光层上的正投影完全覆盖发光层的非发光区，沿垂直于掺杂层方向入射的外界光线被发光区阻挡无法入射到第二区，射入第二区的外界光线的入射角度较大，容易在掺杂层和与掺杂层相邻的膜层的接触面上发生全反射，因此，设置第一区的折射率大于第二区的折射率，部分原本入射到第二区的外界光线在第一区和第二区的接触面上发生全反射，而改变这部分外界光线的入射方向，使之从第一区射入与掺杂层相邻的膜层中，设置第一区的折射率与相邻的膜层的折射率趋于一致，可以减小入射光线在第一区与相邻的膜层之间的接触面上的全反射效应，有效的提升透过率；此外，设置第一表面在发光层上的正投影落在第二表面在发光层上的正投影内，可以避免入射光线在第一区和第二区的接触面上被反射到发光层一侧，减少入射光线的损失，进一步的提升透过率。由于本申请中不对发光层的结构进行任何的改变，从而达到保证像素分辨率不发生变化的同时，提升阵列基板的透过率的技术效果。
[0011]优选的，所述第一表面在所述发光层上的正投影小于所述第二表面在所述发光层上的正投影。第一表面在发光层上的正投影小于第二表面在发光层上的正投影，即第一区和第二区的接触面为倾斜设置，增大接触面上的全反射效应，进一步的提升透过率。
[0012]优选的，所述第一区还包括位于所述第一表面和所述第二表面之间的第一侧面，所述第一侧面为曲面，所述第一侧面自所述第一区朝向所述第二区方向凸起设置。如此设置，第一侧面形成类凹面镜的形状，可以更多的将外界光线反射向第一区方向，即更多的外界光线经由第一区入射，进一步的提升阵列基板的透过率。
[0013]优选的，所述阵列基板包括第一掺杂层和设置在所述第一掺杂层一侧的第一无机层，所述第一掺杂层包括第一掺杂区和第一非掺杂区，所述第一掺杂区的折射率小于所述第一无机层的折射率，所述第一掺杂区的折射率大于所述第一非掺杂区的折射率。
[0014]优选的，所述第一非掺杂区包括有机材料，所述第一掺杂区包括所述有机材料和掺杂材料，所述掺杂材料的折射率大于所述有机材料的折射率。
[0015]优选的，所述掺杂材料包括金属氧化物。
[0016]优选的，所述阵列基板还包括第二掺杂层，所述第一掺杂层位于所述第一无机层远离所述发光层的一侧，所述第二掺杂层位于所述第一无机层靠近所述发光层的一侧；所述第二掺杂层包括第二掺杂区和第二非掺杂区，所述第二掺杂区靠近所述发光层的一侧表面为所述第一表面，所述第一掺杂区远离所述发光层的一侧表面为所述第二表面；所述第二掺杂区的折射率小于所述第一无机层的折射率，所述第二掺杂区的折射率大于所述第二非掺杂区的折射率。
[0017]优选的，还包括：所述阵列基板包括第一衬底和第二衬底，所述第一掺杂层为所述第一衬底，所述第二掺杂层为所述第二衬底；所述阵列基板包括平坦化层，所述第一掺杂层为所述平坦化层。
[0018]优选的，还包括：所述形成至少一个掺杂层，具体包括：在所述第一无机层形成多个相互隔离的块状凸起；在所述块状凸起上形成所述第一区，在多个所述第一区之间的间
隔区域形成所述第二区，所述块状凸起的材质与所述第一区的材质相同。
附图说明
[0019]图1是本专利技术一种实施方式所提供的显示基板的结构示意图；
[0020]图2是本专利技术一种实施方式所提供的显示基板的结构示意图；
[0021]图3是本专利技术一种实施方式所提供的显示基板的结构示意图；
[0022]图4是本专利技术一种实施方式所提供的显示基板的结构示意图；
[0023]图5是本专利技术一种实施方式所提供的显示基板的结构示意图；
[0024]图6是本专利技术一种实施方式所提供的显示基板的结构示意图；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括阵列基板和发光层，所述发光层设置在所述阵列基板的一侧，所述发光层包括发光区和非发光区；所述阵列基板包括至少一个掺杂层，所述至少一个掺杂层具有至少一个第一区和至少一个第二区，所述第一区和所述第二区相邻设置，所述第一区在所述发光层上的正投影完全覆盖所述非发光区；所述第一区靠近所述发光层的一侧表面为第一表面，所述第一区远离所述发光层的一侧表面为第二表面，所述第一表面在所述发光层上的正投影落在所述第二表面在所述发光层上的正投影内；所述第一区的折射率与相邻的膜层的折射率趋于一致，所述第一区的折射率大于所述第二区的折射率。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一表面在所述发光层上的正投影小于所述第二表面在所述发光层上的正投影。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一区还包括位于所述第一表面和所述第二表面之间的第一侧面，所述第一侧面为曲面，所述第一侧面自所述第一区朝向所述第二区方向凸起设置。4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阵列基板包括第一掺杂层和设置在所述第一掺杂层一侧的第一无机层，所述第一掺杂层包括第一掺杂区和第一非掺杂区，所述第一掺杂区的折射率小于所述第一无机层的折射率，所述第一掺杂区的折射率大于所述第一非掺杂区的折射率。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第一非掺杂区包括有机材料，所述第一掺杂区包括所述有机材料和掺杂材料，所述掺杂材料的折射率大于所述有机材料的折射率；优选的，所述掺杂材料包括金属氧化物。6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述阵列基板还包括第二掺杂层，所述第一掺杂层位于所述第一无机层远离所述发光层的一侧，所述第二掺杂层位于所述第一无机层靠近所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张萌，单奇，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：