时计组件及其制造方法技术

时计组件及其制造方法。本发明专利技术涉及时计组件（1），该时计组件（1）包括在应力下组装的第一部件和第二部件，其特征在于该组件的表面的至少一部分涂覆有保护层（7），该保护层（7）旨在覆盖组装之后的诸如裂纹或初期裂纹（8）的缺陷。本发明专利技术还涉及用于制造该组件的方法。本发明专利技术还涉及用于制造该组件的方法。本发明专利技术还涉及用于制造该组件的方法。

【技术实现步骤摘要】
时计组件及其制造方法


[0001]本专利技术涉及一种时计组件，其包括在应力下组装的两个部件，特别是摆轮和惯性螺丝。本专利技术还涉及一种用于制造所述组件的方法。

技术介绍

[0002]存在许多已知的带有用于调节摆轮的惯性和/或平衡的装置的摆轮构造。特别地，存在已知的带有惯性块的摆轮，该惯性块也称为惯性螺丝，其旋拧或驱动到摆轮轮缘中的布置中。一些实施例已试图通过夹持确保惯性螺丝的固位。因此，瑞士专利705238号公开了包括至少一个槽的摆轮，该槽用于接收惯性螺丝的轴并将其夹持就位；该槽的限定一方面是通过摆轮的刚性部分，并且另一方面是通过弹性臂，该弹性臂永久地朝向限定槽的摆轮的所述刚性部分偏置以便保持螺丝。当插入惯性螺丝时，弹性臂由于发生移动而经历显著变形。该变形然后可导致材料中的缺陷，诸如裂纹或初期裂纹。该变形还可导致在覆盖摆轮的保护层中的缺陷。该层的目的在于提供特定外观并提高摆轮对褪色和腐蚀的抗性。该层通常是带有镍子层的镀金层，以将具有美感的外观与抗腐蚀性能相结合。在摆轮上组装惯性块将在该保护层中的在臂变形期间承受应力的区域中导致缺陷，并且在该层可局部受到损坏的支承或抓握区域中导致缺陷。然后保护层不再是对于侵蚀性物质（诸如氨或氯）不可渗透的，这可导致底层材料的应力腐蚀。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于通过提出用于制造时计组件的方法克服上述缺点，该时计组件包括在应力下组装的两个部件，诸如摆轮/惯性螺丝对，该方法包括在组装两个部件的步骤之后的沉积保护层的步骤。
[0004]该层可基本上由SiO2、Al2O3、Rh、Au、Ni或NiP或这些材料的若干层的堆叠组成。
[0005]在组装之后添加该层加强了在组装之前沉积的层的屏障效果，特别是在组装期间可受到损坏的区域中。组装之后沉积的该保护层确保不存在由于在成品上组装而导致的表面缺陷。其填补了潜在的裂纹或初期裂纹，这防止了侵蚀性环境与底层材料之间的接触。
[0006]保护层具有的厚度介于20nm和3μm之间，并且优选介于100nm和500nm之间。该薄的厚度使得可避免将惯性螺丝焊接到摆轮上，这样的焊接可对惯性螺丝的调节功能造成影响。
[0007]本专利技术还涉及一种包括在应力下组装的第一部件和第二部件的时计组件，其中时计组件的表面的至少一部分涂覆有旨在在组装过程结束时覆盖缺陷的保护层。
附图说明
[0008]其他特征和优点将从以下以非限制性说明的方式给出的描述并参考附图而清楚地表现出来。
[0009]图1是根据本专利技术的包括摆轮和两个惯性螺丝的时计组件的平面图。
[0010]图2是图1时计组件的惯性螺丝的三维视图。
[0011]图3是根据本专利技术的方法涂覆有若干层的时计组件的部件的示意性横截面图。
[0012]图4A是根据本专利技术的时计组件的摆轮的横截面的电子显微镜视图。
[0013]图4B是图4A的示意图。
具体实施方式
[0014]本专利技术涉及包括在应力下组装的至少两个部件的时计组件。以示例的方式，如图1中表示的，第一部件是摆轮2，其包括限定槽4的弹性臂2a，在组装期间该槽4接收第二部件，第二部件是在图2中也可见的惯性螺丝3。其还可是压入元件，例如圆盘（plateau）中的冲击销或轮轴上的摆轮等。
[0015]部件可由选自下述列表的材料制成，该列表包括铜、诸如黄铜或白铜的铜合金、铝、铝合金、钛、钛合金、碳钢以及铁素体和奥氏体不锈钢。
[0016]根据本专利技术，时计组件在组装之后至少部分地涂覆有保护层，其旨在覆盖由组装过程导致的或在组装之前可能已经存在的任何缺陷，诸如裂纹、初期裂纹、剥落。图4A和4B分别在电子显微镜视图和所述电子显微镜视图的示意图中表示了裂纹8在部件中的一个（附图标记为2）的基体材料中以及在在组装之前沉积的称为第一层6的保护层中的形成。根据本专利技术，称为第二层的保护层7沉积在裂纹的表面上以形成在组装之后的对于外部环境不可渗透的屏障。
[0017]图3示意性地表示沉积在时计组件1上的层。在组装之前，可选地可将一个或多个层沉积在时计组件的两个部件中的至少一个上。时计组件的基体材料因此可涂覆有第一层6，并且还可选地涂覆有在第一层6之下的子层5。第一层6可包含铑或纯金或包含诸如钴或镍的痕量元素的金；并且子层5可包含镍，诸如NiP或纯电镀Ni、或纯金或带有痕量元素的金。第一层具有的厚度介于100nm和2μm之间，并且子层具有的厚度介于100nm和2μm之间。
[0018]更特别地，本专利技术的主题是保护层7，其是组装之后沉积的屏障层。该层由单个层或层的堆叠形成。每层分别包含SiO2，Al2O3，Rh，Au，Ni或具有低P（按重量2%
‑
4%）、中P（按重量5%
‑
9%）或高P（按重量10%
‑
13%）的NiP。优选地，每层分别由SiO2，Al2O3，Rh，Au，Ni或具有低P（按重量2%
‑
4%）、中P（按重量5%
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9%）或高P（按重量10%
‑
13%）的NiP组成。保护层具有的厚度介于20nm和3μm之间，并且优选地介于100nm和500nm之间。对于具有层的堆叠的变型，所有层具有的厚度介于20nm和3μm之间，优选介于100nm和500nm之间。
[0019]根据本专利技术，组件的表面的至少一部分涂覆有旨在在组装过程结束时覆盖缺陷的保护层。有利地，至少涂覆在组装期间经受变形的部件的表面。优选地，时计组件的整个外表面涂覆有保护层。
[0020]组装之后沉积的保护层7因此没有缺陷，并且更特别是没有裂纹和初期裂纹。
[0021]本专利技术还涉及时计组件的制造方法，包括以下步骤：a）提供第一部件和第二部件，b）在应力下组装第一部件和第二部件，c）在包括第一部件和第二部件的组件的表面的至少一部分上沉积也称为第二层的保护层7。
[0022]根据本专利技术，沉积保护层是通过ALD（原子层沉积）、PVD（物理气相沉积）、CVD（化学
气相沉积）、化学或电镀沉积。
[0023]该方法还可包括在组装步骤b）之前在第一部件和/或第二部件的至少一部分上沉积第一层6的步骤a'）。
[0024]该方法还可包括在步骤a'）之前在第一部件和/或第二部件的所述至少一部分上沉积子层5的步骤a''）。
[0025]沉积子层和第一层也可通过ALD、PVD、CVD、化学或电镀沉积。
[0026]该方法还可包括旨在改善第一层和子层的粘附性的热处理步骤a'''），如果存在这些层的话。该步骤发生在组装步骤b）之前。热处理是在150至300℃之间进行达30分钟至5小时。在变型中，方法包括在沉积保护层的步骤c）之后的该相同热处理的步骤d）。根据另一变型，方法包括在组装步骤b）之前的该热处理的步骤a'''）和在沉积保护层的步骤c）之后的该热处理的步骤d）。
[0027]附图标记（1）时计组件（2）摆轮a.弹性臂（3）惯性螺丝a.轴（4）槽（5）本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于制造时计组件（1）的方法，所述时计组件（1）包括在机械应力下组装的第一部件和第二部件，其中所述第一部件是包括弹性臂（2a）的摆轮（2），所述弹性臂（2a）限定旨在接收所述第二部件的槽（4），所述第二部件是惯性螺丝（3），所述方法包括以下相继的步骤：a）提供摆轮和惯性螺丝，b）通过所述弹性臂的弹性变形并通过将所述惯性螺丝插入到所述槽中，在机械应力下将所述惯性螺丝组装到所述摆轮，c）在所述惯性螺丝/第二部件组件的表面的至少一部分上沉积保护层（7），所述保护层（7）也称为第二层。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法包括在组装步骤b）之前的在所述第一部件和/或所述第二部件的至少一部分上沉积第一层（6）的步骤a'）。3.根据前述权利要求所述的方法，其特征在于，所述方法包括在步骤a'）之前的在所述第一部件和/或所述第二部件的所述至少一部分上沉积子层（5）的步骤a''）。4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述方法包括在步骤a'）之后并且在组装步骤b）之前的热处理步骤a'''），所述步骤a'''）在150℃和300℃之间执行达介于30分钟和5小时之间的时间。5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述方法包括在步骤c）之后的热处理步骤d），所述步骤d）在150℃至300℃之间执行达介于30分钟和5小时之间的时间。6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，沉积所述保护层（7）是通过ALD、PVD、CVD、化学沉积或电镀沉积。7.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，沉积所述第一层（6）和所述子层（5）是通过ALD、PVD、CVD、化学沉积或电镀沉积。8.一种时计组件（1），其包括第一部件和第二部件，其中，所述第一部件是摆轮（2），所述摆轮（2）包括限定槽（4）的弹性臂（2a），所述第二部件是惯性螺丝（3），所述第二部件布置在所述槽（4）中并且由机械应力保持在所述槽中，其特征在于，所述时计组件（1）在所述惯性螺丝/摆轮组件的表面的至少一部分上涂覆有保护层（7）。9.根据权利要求8所述的时计组件（1），其特征在于，所述时计组件（1）的整个表面涂覆有所述保护层（7）。10.根据权利要求8或9中任一项所述的时计组件（1），其特征在于，所述保护层（7）没有裂纹和初期裂纹（8）。11.根据权利要求8至10中任一项所述的时计组件（1），其包括在所述第一部件和/或所述第二部件的至少一部分上的第一层（6），所述第一层（6）布置在所述保护层（7）的下方。12.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：尼瓦罗克斯法尔股份公司，
类型：发明
国别省市：