碳纳米管透明导电膜的制备装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了碳纳米管透明导电膜的制备装置，包括柔性基材、放卷室、水冷镀膜辊、多个镀膜室、真空泵系统、低压直流电源、后处理室、收卷室、导辊绕卷装置和在线电阻检测仪，镀膜室包含两个电极底座、多个阴极石墨电极、多个阳极石墨催化电极、工艺气流管道和沉积气体管道，真空泵系统包含罗茨泵、分子泵和多个真空传感器，柔性基材卷绕于导辊绕卷装置上，柔性基材与水冷镀膜辊的外壁滑动连接，本实用与已报道的浮动催华法制备碳纳米管透明导电膜不同，该方法在工艺控制、稳定性、一致性等方面具有明显的优势，通过调节阳极和阴极间距、阳极配方、气流速度等参数即可获得高质量的碳纳米管透明导电膜。米管透明导电膜。米管透明导电膜。

【技术实现步骤摘要】
碳纳米管透明导电膜的制备装置


[0001]本技术涉及透明导电领域，特别涉及碳纳米管透明导电膜的制备装置。

技术介绍

[0002]透明导电膜(TCF)广泛用于智能手机、平板电脑和其他便携式电子工具中，碳纳米基透明导电膜，与传统ITO透明导电膜相比，具有突出的化学稳定性、良好的基底贴合性、优异的机械柔性，在柔性显示领域占有重要的地位，但因碳纳米材料的合成技术、成膜技术等限制因素，这类导电膜的透光率和电阻仍不能满足行业要求。
[0003]碳纳米管透明导电膜(CNTs
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TCF)的制备方式主要分为湿法和干法两种。湿法工艺是将碳纳米管(CNTs)分散液通过成膜工艺如真空抽滤、浸涂、喷涂、旋涂、电沉积和喷墨打印等方式制备薄膜。这种工艺稳定可控，适合批量化生产，但因CNTs需要经过酸洗纯化、砂磨、均质等工艺进行分散，其微观形态结构被破坏，无法实现优异的光电性能。干法工艺目前有两种，一是超阵列提拉法，二是浮动催化气溶胶直接合成法。超阵列提拉法是利用CNTs的可伸展性，超顺排碳纳米管阵列(SA
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CNT)在经过退火处理本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.碳纳米管透明导电膜的制备装置，包括柔性基材(1)、放卷室(2)、水冷镀膜辊(3)、多个镀膜室(4)、真空泵系统(5)、低压直流电源(6)、后处理室(7)、收卷室(8)、导辊绕卷装置(9)和在线电阻检测仪(10)，其特征在于，所述水冷镀膜辊(3)设置于放卷室(2)和收卷室(8)之间，多个所述镀膜室(4)和后处理室(7)呈环形阵列设置于水冷镀膜辊(3)外壁一边侧，所述柔性基材(1)与水冷镀膜辊(3)的外壁滑动连接；所述镀膜室(4)包含两个电极底座(4001)、多个阴极石墨电极(4002)、多个阳极石墨催化电极(4003)、工艺气流管道(4004)和沉积气体管道(4005)；所述真空泵系统(5)包含罗茨泵(501)、分子泵(502)和多个真空传感器(503)。2.根据权利要求1所述的碳纳米管透明导电膜的制备装置，其特征在于，所述柔性基材(1)卷绕于导辊绕卷装置(9)上，所述导辊绕卷装置(9)设置于放卷室(2)、水冷镀膜辊(3)和收卷室(8)之间。3.根据权利要求1所述的碳纳米管透明导电膜的制备装置，其特征在于，所述在线电阻检测仪(10)设置于水冷镀膜辊(3)的一边侧，所述真空泵系统(5)和低压直流电源(6)设置于镀膜室(4)...

【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ五一IntClC二三C一四零六，
申请(专利权)人：苏州研烯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：