一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置，包括装配体、固定台、第一支撑体、进气口、等离子体发生器、第二支撑体以及高压频率可调交流电源；其中，等离子体发生器包括筛网电极、玻璃介质板和圆形电极。本发明专利技术解决了等离子体射流装置结构固定导致等离子体射流位置不可调以及处理材料不充分的问题，不仅能随时调整等离子体射流处理材料的距离和随时更换筛网电极目数，还能随时调整被处理区域的位置和增大等离子体射流的面积，真正实现全方位处理材料，提高了等离子体处理材料的灵活性、方便性，使得等离子体射流处理材料得到更加广泛的应用。流处理材料得到更加广泛的应用。流处理材料得到更加广泛的应用。

【技术实现步骤摘要】
一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置


[0001]本专利技术涉及等离子体射流处理材料的
，尤其涉及一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置。

技术介绍

[0002]等离子体技术是近年来逐渐发展起来的一门学科，以物理学、化学、真空技术以及电子学等多种学科高度交叉为基础，开辟的高新技术。等离子体又称为“导电气体”，内部带有大量带电粒子，成为继固态、液态、气态之外的第四种物质存在状态。随着等离子体技术的不断发展和提高，等离子体技术的应用日益广泛。等离子体可以分为高温等离子体和低温等离子体，高温等离子体可以对金属表面进行处理，而低温等离子体，由于其温度比较低，实验仪器简单，具有绿色环保等好处，尤其低温等离子体对材料处理只限制于表面，对材料内部性能不产生影响，只改变了表面的性质，因此，低温等离子体处理表面技术越发受到欢迎。而气体放电是目前低温等离子体生成的普遍方式，包括弧光放电、电晕放电、辉光放电和介质阻挡放电(DBD)等几种，介质阻挡放电在较宽气压范围内均可产生，且无需真空设备，能够在大气压下产生大体积、高能量密度的活性粒子，因此，具有十分广阔的应用前景，受到国内外的研究人员的重视，越来越受到人们的关注。
[0003]现有的等离子体射流装置大部分只能进行点处理，部分是面处理，即使在使用等离子体射流装置去处理材料的时候，由于是使用等离子体射流阵列，也会出现与处理的材料表面接触的面积比较小，导致材料处理不充分的问题，这样就很难达到预期的效果。而且现有的等离子体射流处理材料的装置放电结构单一，并不能根据不同的处理需求去随时调整放电结构，大多数装置也不能随时调整等离子体射流处理材料的距离，并且在导入气体的时候需要更多复杂的管道引入气体，目前使用的等离子体射流诊断装置存在一定缺陷，因此，需要寻找一种等离子体射流诊断装置，使等离子体射流装置在处理材料的时候都可以灵活使用。

技术实现思路

[0004]为解决现有技术所存在的技术问题，本专利技术提供一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置，通过在装置的进气口引入大量的惰性气体，在装置上方放置玻璃介质板，从而实现空气放电以及放电的稳定性和均匀性，从而也增加了装置的安全性。
[0005]本专利技术采用以下技术方案来实现：一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置，包括：装配体、固定台、第一支撑体、进气口、等离子体发生器、第二支撑体以及高压频率可调交流电源；其中，等离子体发生器包括筛网电极、玻璃介质板和圆形电极；
[0006]装配体通过第一支撑体、第二支撑体与固定台连接；
[0007]进气口位于装配体的凸缘，用于通入放电的气体；
[0008]筛网电极放置在装配体的下部，从装配体的下部进行装配，引出导线；
[0009]圆形电极放置在固定台上，将圆形电极固定住后，把平滑的绝缘玻璃介质板放置
在圆形电极和筛网电极之间；
[0010]气体从进气口通入到装配体的内部，从筛网电极的多个出气孔放出，进入到等离子体发生器中，其筛网电极和圆形电极通过导线连接到高压频率可调交流电源两端，等离子体射流通过筛网电极下端产生；
[0011]高压频率可调交流电源用于为等离子体射流产生提供稳定的电源。
[0012]本专利技术与现有技术相比，具有如下优点和有益效果：
[0013]1、本专利技术装置可在大气压下产生低温等离子体射流，无需复杂的真空系统，操作简单，等离子体射流的放电装置灵活多变，这使得其处理材料的时候更方便和更充分，不受处理空间约束，成本低廉更便于工业应用。
[0014]2、本专利技术解决了等离子体射流装置结构固定导致等离子体射流位置不可调以及处理材料不充分的问题，不仅能随时调整等离子体射流处理材料的距离和随时更换筛网电极目数，还能随时调整被处理区域的位置和增大等离子体射流的面积，真正实现全方位处理材料，提高了等离子体处理材料的灵活性、方便性，使得等离子体射流处理材料得到更加广泛的应用。
附图说明
[0015]图1是本专利技术装置整体结构示意图；
[0016]图2是本专利技术装置的正视示意图；
[0017]图3是本专利技术装置的俯视示意图；
[0018]图4是本专利技术装置的侧视示意图；
[0019]图5是本专利技术装置的连接图；
[0020]图6是筛网电极的俯视图；
[0021]图7是实验1的放电结果示意图；
[0022]图8是实验2的放电结果示意图；
[0023]图9是实验3的放电结果示意图；
[0024]图10是实验4的放电结果示意图；
[0025]图中，1是装配体，2是固定台，3是第一支撑体，4是进气口，5是筛网电极，6是玻璃介质板，7是圆形电极，8是第二支撑体。
具体实施方式
[0026]下面结合实施例及附图对本专利技术作进一步详细的描述，但本专利技术的实施方式不限于此。
[0027]实施例
[0028]如图1
‑
图4所示，本实施例一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置，包括装配体1、固定台2、第一支撑体3、进气口4、等离子体发生器、第二支撑体8以及高压频率可调交流电源；其中，等离子体发生器包括筛网电极5、玻璃介质板6和圆形电极7；
[0029]装配体通过第一支撑体、第二支撑体与固定台连接；
[0030]进气口位于装配体的凸缘，用于通入放电的气体；
[0031]筛网电极放置在装配体的下部，从装配体的下部进行装配，引出导线；
[0032]圆形电极为金属导体，放置在固定台上，将圆形电极固定住后，把平滑的绝缘玻璃介质板放置在圆形电极和筛网电极之间；
[0033]气体从进气口通入到装配体的内部，从筛网电极的多个出气孔放出，进入到等离子体发生器中，其筛网电极和圆形电极通过导线连接到高压频率可调交流电源两端，等离子体射流通过筛网电极下端产生；
[0034]高压频率可调交流电源用于为等离子体射流产生提供稳定的电源。
[0035]本实施例中，装配体两侧均有螺丝孔，拧入卡位螺栓后，通过卡位螺栓固定在第一支撑体和第二支撑体上，松开卡位螺栓即可根据第一支撑体和第二支撑体上的刻度准确调整等离子体发生器到待处理材料的距离，拧紧卡位螺栓即可固定。
[0036]本实施例中，固定台为不锈钢材料制造而成的，作为固定圆形电极的放置面以及放置第一支撑体、第二支撑体，对整个装置起到固定的作用。
[0037]本实施例中，第一支撑体、第二支撑体均是用于固定装配体以及圆形电极，通过第一支撑体、第二支撑体上的刻度，调节装配体上的筛网电极到需要处理材料表面的距离。
[0038]本实施例中，装配体为筛网电极所安装的位置，筛网电极在装配体的下部进行安装，可以根据不同的需求或者适合实验的筛网电极目数进行更换筛网电极，装配体的中间内部中空，在装配体的上方配有小圆孔，用于导线与筛网电极进行连接并用绝缘胶进行包裹，保证密封性。
[0039]本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置，其特征在于，包括：装配体、固定台、第一支撑体、进气口、等离子体发生器、第二支撑体以及高压频率可调交流电源；其中，等离子体发生器包括筛网电极、玻璃介质板和圆形电极；装配体通过第一支撑体、第二支撑体与固定台连接；进气口位于装配体的凸缘，用于通入放电的气体；筛网电极放置在装配体的下部，从装配体的下部进行装配，引出导线；圆形电极放置在固定台上，将圆形电极固定住后，把平滑的绝缘玻璃介质板放置在圆形电极和筛网电极之间；气体从进气口通入到装配体的内部，从筛网电极的多个出气孔放出，进入到等离子体发生器中，其筛网电极和圆形电极通过导线连接到高压频率可调交流电源两端，等离子体射流通过筛网电极下端产生；高压频率可调交流电源用于为等离子体射流产生提供稳定的电源。2.根据权利要求1所述的一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置，其特征在于，装配体两侧均有螺丝孔，拧入卡位螺栓后，通过卡位螺栓固定在第一支撑体和第二支撑体上，松开卡位螺栓根据第一支撑体和第二支撑体上的刻度调整等离子体发生器到待处理材料的距离，拧紧卡位螺栓固定。3.根据权利要求1所述的一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置，其特征在于，固定台为不锈钢材料，用于固定圆形电极的放置面以及放置第一支撑体、第二支撑体。4.根据权利要求2所述的一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置，其特征在于，待处理材料放置于圆形电极上的玻璃介质板上方。5.根据权利要求1所述的一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置，其特征在于，筛网电极连接高压频率可调交流电源输出端，圆形电极连接至高压频率可调交流电源的接地端。6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：柳晶晶，谭文超，穆金均，钟英英，
申请(专利权)人：广州大学，
类型：发明
国别省市：