气溶胶基质结构和气溶胶产生装置制造方法及图纸

技术编号:32694408 阅读:11 留言:0更新日期:2022-03-17 12:07
本申请公开了一种气溶胶基质结构和气溶胶产生装置。该气溶胶基质结构至少包括基质段,和设置在基质段一端的气道段,以及设置在气道段远离基质段一端的滤嘴段;基质段包括气溶胶产生基质和发热体,发热体具有密闭腔,气溶胶产生基质设于密闭腔中;密闭腔的一端具有第一开口,另一端为密封端;气道段具有抽吸通道和若干第一进气孔;其中,抽吸通道通过第一开口与密闭腔连通;若干第一进气孔将抽吸通道与外界大气连通。本申请的气溶胶基质结构和气溶胶产生装置中,气溶胶产生基质的残渣不容易遗留在加热装置中,并且,生成的气溶胶的物质成分一致性好,用户抽吸口感较好。用户抽吸口感较好。用户抽吸口感较好。

【技术实现步骤摘要】
气溶胶基质结构和气溶胶产生装置


[0001]本申请涉及电子雾化装置
,尤其涉及一种气溶胶基质结构和气溶胶产生装置。

技术介绍

[0002]加热不燃烧(Heat Not Burning,HNB)装置,是一种加热装置加上气溶胶产生基质(经过处理的植物叶类制品)的组合设备。外部加热装置通过高温加热到气溶胶产生基质可以产生气溶胶但是却不足以燃烧的温度,能在不燃烧的前提下,让气溶胶产生基质产生用户所需要的气溶胶。
[0003]其中,气溶胶产生基质在抽吸完毕后,容易将残渣遗留或粘附在加热装置中。这不仅容易造成加热装置清洁困难、出现杂味和异味,严重影响用户的抽吸体验,而且还影响加热效率以及控温精度,造成气溶胶产生装置的可靠性变差,用户口感体验变差。此外,在抽吸过程中,外部的冷空气从气溶胶产生基质流过,使得气溶胶产生基质的温度变化剧烈,使得气溶胶产生基质的裂解反应不稳定,生成的气溶胶的物质成分一致性差,继而影响了用户的抽吸口感。

技术实现思路

[0004]本申请提供的气溶胶基质结构和气溶胶产生装置能解决气溶胶产生基质的残渣容易遗留在加热装置中,以及生成的气溶胶的物质成分一致性差,用户抽吸口感差的问题。
[0005]为解决上述技术问题,本申请采用的第一个技术方案是:提供一种气溶胶基质结构,至少包括基质段,和设置在基质段一端的气道段,以及设置在气道段远离基质段一端的滤嘴段;
[0006]基质段包括气溶胶产生基质和发热体,发热体具有密闭腔,气溶胶产生基质设于密闭腔中;密闭腔的一端具有第一开口,另一端为密封端;
[0007]气道段具有抽吸通道和若干第一进气孔;其中,抽吸通道通过第一开口与密闭腔连通;若干第一进气孔将抽吸通道与外界大气连通。
[0008]其中,若干第一进气孔设置于气道段的侧壁,并位于气道段靠近基质段的一端。
[0009]其中,其特征在于,若干第一进气孔沿气道段的周向方向间隔分布。
[0010]其中,若干第一进气孔位于气道段靠近基质段的一端;气道段还包括若干第二进气孔,若干第二进气孔位于气道段远离基质段的一端,用于在抽吸过程中对进入抽吸通道内的气溶胶进行降温。
[0011]其中,若干第二进气孔沿气道段的周向方向间隔设置。
[0012]其中,气道段包括多个第二进气孔,多个第二进气孔位于气道段远离基质段的一端;多个第二进气孔集沿气道段的轴向方向间隔设置。
[0013]其中,第二进气孔的孔径小于第一进气孔的孔径。
[0014]其中,气道段内设置有降温介质,用于对进入气道段内的气溶胶进行降温。
[0015]其中,降温介质设置在气道段的内侧壁上并避开第一进气孔所在的位置;且降温介质沿气道段的轴向方向贯穿气道段,且降温介质的内部中空,降温介质的内表面围设的空间形成抽吸通道。
[0016]其中,降温介质填充在抽吸通道内,并位于气道段远离基质段的一端。
[0017]其中,降温介质的材料为聚乳酸或醋酸纤维。
[0018]其中,滤嘴段与气道段连通,用于对气道段抽吸的气溶胶进行过滤,滤嘴段内填充有过滤介质,用于对气道段抽吸的气溶胶进行过滤。
[0019]其中,第一进气孔的形状为圆形、椭圆形、菱形或方形。
[0020]其中,第一进气孔的孔径为0.2mm

1mm。
[0021]其中,第一进气孔的孔径为0.6mm

0.8mm。
[0022]其中,气道段与基质段具有第一开口的一端抵接,且第一进气孔与第一开口的直线距离为2mm

14mm。
[0023]其中,第一进气孔与第一开口的直线距离为4mm

10mm。
[0024]其中,第一进气孔的数量为4个

10个。
[0025]其中,第一进气孔为圆形,圆形的第一进气孔的直径为0.6mm

0.8mm;第一进气孔与第一开口的直线距离为4mm

10mm。
[0026]为解决上述技术问题,本申请采用的第二个技术方案是:提供一种气溶胶产生装置,包括气溶胶基质结构和加热装置。气溶胶基质结构为上述所涉及的气溶胶基质结构;加热装置包括电源组件和加热组件;其中,电源组件与加热组件连接,用于向加热组件供电;加热组件用于在通电后使气溶胶基质结构中的发热体发热,以加热并雾化气溶胶产生基质形成气溶胶。
[0027]本申请提供的气溶胶基质结构和气溶胶产生装置,该气溶胶基质结构通过设置基质段,基质段的发热体中具有密闭腔,密闭腔的一端具有第一开口,另一端为密封端,通过密闭腔收容气溶胶产生基质,从而在气溶胶产生基质收容于该密闭腔时,能使气溶胶产生基质处于密闭状态,以在抽吸过程中或抽吸完成之后,防止气溶胶产生基质掉出气溶胶基质结构;同时,能够在抽吸完成之后,使气溶胶产生基质的残渣能随着气溶胶基质结构一起取出,避免遗留或粘附在加热装置上的问题发生,便于加热装置的清洁;另外,在抽吸过程中,气流不通过基质段内的气溶胶产生基质,气溶胶产生基质的裂解反应不会受到冷空气的影响,裂解反应稳定,有利于生成的气溶胶的物质成分的一致性,进而有利于提升用户的抽吸口感,最后,通过设置气道段,在气道段上形成与密闭腔连通的抽吸通道和若干第一进气孔,以通过若干第一进气孔在抽吸过程中进气,从而抽吸基质段中形成的气溶胶。
附图说明
[0028]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0029]图1为本申请第一实施例提供的气溶胶基质结构的剖视图;
[0030]图2为本申请第二实施例提供的气溶胶基质结构的剖视图;
[0031]图3为本申请第三实施例提供的气溶胶基质结构的剖视图;
[0032]图4为本申请第四实施例提供的气溶胶基质结构的剖视图;
[0033]图5为本申请第五实施例提供的气溶胶基质结构的剖视图;
[0034]图6为本申请一实施例提供的气溶胶产生装置的剖视图。
具体实施方式
[0035]下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
[0036]以下描述中,为了说明而不是为了限定,提出了诸如特定系统结构、接口、技术之类的具体细节,以便透彻理解本申请。
[0037]本申请中的术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气溶胶基质结构,其特征在于,至少包括:基质段,和设置在所述基质段一端的气道段,以及设置在所述气道段远离所述基质段一端的滤嘴段;所述基质段包括气溶胶产生基质和发热体,所述发热体具有密闭腔,所述气溶胶产生基质设于所述密闭腔中;所述密闭腔的一端具有第一开口,另一端为密封端;所述气道段具有抽吸通道和若干第一进气孔;其中,所述抽吸通道通过所述第一开口与所述密闭腔连通;所述若干第一进气孔将所述抽吸通道与外界大气连通。2.根据权利要求1所述的气溶胶基质结构,其特征在于,所述若干第一进气孔设置于所述气道段的侧壁,并位于所述气道段靠近所述基质段的一端。3.根据权利要求1

2任一项所述的气溶胶基质结构,其特征在于,所述若干第一进气孔沿所述气道段的周向方向间隔分布。4.根据权利要求1所述的气溶胶基质结构,其特征在于,所述若干第一进气孔位于所述气道段靠近所述基质段的一端;所述气道段还包括若干第二进气孔,所述若干第二进气孔位于所述气道段远离所述基质段的一端,用于在抽吸过程中对进入所述抽吸通道内的所述气溶胶进行降温。5.根据权利要求4所述的气溶胶基质结构,其特征在于,所述若干第二进气孔沿所述气道段的周向方向间隔设置。6.根据权利要求4所述的气溶胶基质结构,其特征在于,所述气道段包括多个第二进气孔,所述多个第二进气孔位于所述气道段远离所述基质段的一端;所述多个第二进气孔沿所述气道段的轴向方向间隔设置。7.根据权利要求4

6任一项所述的气溶胶基质结构,其特征在于,所述第二进气孔的孔径小于所述第一进气孔的孔径。8.根据权利要求1所述的气溶胶基质结构,其特征在于,所述气道段内设置有降温介质,用于对进入所述气道段内的气溶胶进行降温。9.根据权利要求8所述的气溶胶基质结构,其特征在于,所述降温介质设置在所述气道段的内侧壁上并避开所述第一进气孔所在的位置;且所述降温介质沿所述气道段的轴向方向贯穿所述气道段,且所述降温介质的内部中空,所述降温介质的内表面围设的空间形成所述抽吸通道。10.根据权利要求8所述的气溶胶基质结构,其特征在于,所述降温介质填充在所述抽...

【专利技术属性】
技术研发人员:郭聪慧梁峰
申请(专利权)人:深圳麦时科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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