一种钕铁硼磁体、钕铁硼磁体表面处理液及表面处理方法技术

本公开提供了一种钕铁硼磁体、钕铁硼磁体表面处理液及表面处理方法，所述钕铁硼磁体包括钕铁硼磁性基体和钕铁硼磁性基体表面的电镀层，所述钕铁硼磁体中钕铁硼磁性基体与所述电镀层交界处的微观粗糙度值为5.5～8.5μm；所述方法包括：将钕铁硼磁性基体进行脱脂脱油处理后置于表面处理液中进行表面微细化处理，得到表面微细化处理后的钕铁硼磁性基体；将表面微细化处理后的钕铁硼磁性基体进行电镀处理；表面处理液为无机酸和氯化盐溶液的混合溶液，表面处理液中氢离子浓度为0.15～0.95g/L，氯离子浓度为0.3～6g/L。通过本公开的方法处理过的钕铁硼磁性基体与电镀层结合力强，并且电镀层的表面致密均匀，具有优异的防腐性能。具有优异的防腐性能。具有优异的防腐性能。

【技术实现步骤摘要】
一种钕铁硼磁体、钕铁硼磁体表面处理液及表面处理方法


[0001]本公开涉及钕铁硼磁体的电镀领域，具体地，涉及一种钕铁硼磁体、钕铁硼磁体表面处理液及表面处理方法。

技术介绍

[0002]稀土类永磁体具有较好的磁特性，被广泛用于电动机、发动机、音圈马达、磁共振成像仪、通讯、控制仪表、音响设备等方面。稀土类永磁体中含有易氧化的Fe和稀土类元素，因此其在自然条件下容易被氧化腐蚀，目前解决该问题的主要方法是采用电镀、化学镀和物理气相沉积等手段在稀土类永磁体表面沉积一层防护性镀层。现有电镀防腐技术常通过改善电镀工艺、优化电镀液成分、设计复合镀层结构来提高电镀防腐能力。
[0003]中国专利文献CN109137004B公开了一种烧结钕铁硼电镀镍铜镍的方法，包括底层镀镍处理、镀铜处理及表层镀镍处理，该专利通过提高硫酸镍的浓度和初始冲击电流强度，有效缩短了烧结钕铁硼磁体镀底镍层的时间，减少硫酸镍溶液对烧结钕铁硼磁体的二次腐蚀，虽然在一定程度上提高了烧结钕铁硼磁体与底镍层的结合力，但随着终端产品自动装配普及以及产品长寿命设计，对电镀产品的镀层结合力要求越来越苛刻，该电镀工艺、电镀液成分以及镀层结构优化，仍无法达到结合力要求。并且通常情况下，磁性基体的粗糙度增加，镀层结合力相应提高，专利技术人经过大量实验发现通过提高粗糙度后，镀层结合力仍无法达到高结合力的需求，因此本领域亟需发现其中问题并提出新的解决方案。

技术实现思路

[0004]本公开的目的在于提供一种具有高镀层结合力的钕铁硼磁性材料。
[0005]为了实现上述目的，本公开的第一方面提供一种钕铁硼磁体，所述钕铁硼磁体包括钕铁硼磁性基体和所述钕铁硼磁性基体表面的电镀层，所述钕铁硼磁体中钕铁硼磁性基体与所述电镀层交界处的微观粗糙度值为5.5～8.5μm，所述钕铁硼磁体的组成为：R
x
Fe
y
Co
z
M1‑
x
‑
y
‑
z
‑
u
B
u
，其中，R为稀土元素，M选自Cu、Al、Zn、Zr、Ga和Ti中的至少一种，x、y、z、u为质量百分比，且28％≤x≤33％，61％≤y+z≤71.12％，0％＜y≤71.12％，0％≤z＜71.12％，0.88％≤u≤1％。
[0006]本公开的第二方面提供一种钕铁硼磁体的表面处理液，所述表面处理液为无机酸和含氯的金属盐溶液的混合溶液，所述表面处理液中氢离子浓度为0.15～0.95g/L，氯离子浓度为0.3～6g/L。
[0007]可选地，所述表面处理液中氢离子浓度为0.63～0.95g/L，氯离子浓度为0.6～3g/L；所述表面处理液中氯离子和氢离子的浓度比为1.4～3.4。
[0008]可选地，所述无机酸选自硝酸和/或硫酸，优选为硝酸；所述含氯的金属盐溶液中氯离子和金属离子的浓度比为1:1～1:3，所述金属离子可选自钠、镁、铝、钙和钾中的至少一种。
[0009]本公开的第三方面提供一种钕铁硼磁体的表面处理方法，所述方法包括：
[0010]S1、将钕铁硼磁性基体进行脱脂脱油处理，得到除油后的钕铁硼磁性基体；
[0011]S2、将所述除油后的钕铁硼磁性基体置于表面处理液中进行表面微细化处理，得到表面微细化处理后的钕铁硼磁性基体；
[0012]S3、将所述表面微细化处理后的钕铁硼磁性基体进行电镀处理；
[0013]其中，所述表面处理液为无机酸和含氯的金属盐溶液的混合溶液，所述表面处理液中氢离子浓度为0.15～0.95g/L，氯离子浓度为0.3～6g/L。
[0014]可选地，所述表面处理液中氢离子浓度为0.63～0.95g/L，氯离子浓度为0.6～3g/L；所述表面处理液中氯离子和氢离子的浓度比为1.4～3.4。
[0015]可选地，所述无机酸选自硝酸和/或硫酸，优选为硝酸；所述含氯的金属盐溶液中氯离子和金属离子的浓度比为1:1～1:3，所述金属离子可选自钠、镁、铝、钙和钾中的至少一种。
[0016]可选地，所述钕铁硼磁性基体的组成为：R
x
Fe
y
Co
z
M1‑
x
‑
y
‑
z
‑
u
B
u
，其中，R为稀土元素，M选自Cu、Al、Zn、Zr、Ga和Ti中的至少一种，x、y、z、u为质量百分比，且28％≤x≤33％，61％≤y+z≤71.12％，0％＜y≤71.12％，0％≤z＜71.12％，0.88％≤u≤1％。
[0017]可选地，步骤S2中，所述表面微细化处理的条件包括：浸渍温度为30～45℃，浸渍时间为2～4min。
[0018]可选地，所述表面微细化处理后的钕铁硼磁性基体的宏观表面粗糙度值为0.5～1.3μm。
[0019]可选地，步骤S1中，所述脱脂脱油处理的步骤包括使用碱性除油剂对所述钕铁硼磁性基体进行碱洗；可选地，所述碱性除油剂含有磷酸钠、碳酸钠、氢氧化钠、硅酸盐和苯磺酸盐及其衍生物中的至少一种；优选地，所述碱性除油剂含有磷酸钠、碳酸钠和氢氧化钠；可选地，所述碱洗的条件包括：温度为45～55℃，时间为4～6min。
[0020]可选地，所述电镀处理的步骤包括：
[0021]S31、将所述表面微细化处理后的钕铁硼磁性基体置于第一电镀液中进行第一电镀处理，得到第一电镀基体；
[0022]S32、将所述第一电镀基体置于第二电镀液中进行第二电镀处理，得到第二电镀基体；
[0023]S33、将所述第二电镀基体置于第一电镀液中进行第三电镀处理；
[0024]其中，所述第一电镀液的pH为3.8～4.8，所述第一电镀液中含有硫酸镍、氯化镍、硼酸和十二烷基硫酸钠；所述第二电镀液的pH为7.5～9.0，所述第二电镀液中含有焦磷酸钾和焦磷酸铜。
[0025]可选地，所述第一电镀液含有200～350g/L的硫酸镍、30～60g/L的氯化镍、30～60g/L的硼酸和0.05～1g/L的十二烷基硫酸钠；所述第二电镀液含有250～350g/L的焦磷酸钾和30～70g/L焦磷酸铜。
[0026]本公开的第三方面提供了一种钕铁硼磁体，所述钕铁硼磁体为经过表面处理的钕铁硼磁体。
[0027]通过上述技术方案，本公开的钕铁硼磁体的表面处理方法在对钕铁硼磁性基体脱脂除油后进行表面处理，表面处理液为含有酸和盐的混合溶液，利用混合溶液中由酸提供的氢离子和由盐提供的氯离子相互协同作用，改善磁性基体表面的微观形貌，通过本公开
的方法处理过的钕铁硼磁性基体与电镀层结合力强，并且电镀层的表面致密均匀，具有优异的防腐性能。
[0028]本公开的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
[0029]附图是用来提供对本公开的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本公开本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种钕铁硼磁体，所述钕铁硼磁体包括钕铁硼磁性基体和所述钕铁硼磁性基体表面的电镀层，其特征在于，所述钕铁硼磁体中钕铁硼磁性基体与所述电镀层交界处的微观粗糙度值为5.5～8.5μm；所述钕铁硼磁体的组成为：R
x
Fe
y
Co
z
M1‑
x
‑
y
‑
z
‑
u
B
u
，其中，R为稀土元素，M选自Cu、Al、Zn、Zr、Ga和Ti中的至少一种，x、y、z、u为质量百分比，且28％≤x≤33％，61％≤y+z≤71.12％，0％＜y≤71.12％，0％≤z＜71.12％，0.88％≤u≤1％。2.一种钕铁硼磁体的表面处理液，其特征在于，所述表面处理液为无机酸和含氯的金属盐溶液的混合溶液，所述表面处理液中氢离子浓度为0.15～0.95g/L，氯离子浓度为0.3～6g/L。3.根据权利要求2所述的表面处理液，其中，所述表面处理液中氢离子浓度为0.63～0.95g/L，氯离子浓度为0.6～3g/L；所述表面处理液中氯离子和氢离子的浓度比为1.4～3.4。4.根据权利要求2或3所述的表面处理液，其中，所述无机酸选自硝酸和/或硫酸，优选为硝酸；所述含氯的金属盐溶液中氯离子和金属离子的浓度比为1:1～1:3，所述金属离子选自钠、镁、铝、钙和钾中的至少一种。5.一种钕铁硼磁体的表面处理方法，其特征在于，所述方法包括：S1、将钕铁硼磁性基体进行脱脂脱油处理，得到除油后的钕铁硼磁性基体；S2、将所述除油后的钕铁硼磁性基体置于表面处理液中进行表面微细化处理，得到表面微细化处理后的钕铁硼磁性基体；S3、将所述表面微细化处理后的钕铁硼磁性基体进行电镀处理；其中，所述表面处理液为权利要求2～4任意一项所述的表面处理液。6.根据权利要求5所述的表面处理方法，其中，所述钕铁硼磁性基体的组成为：R
x
F...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆文钏，符杨子，胡蝶，
申请(专利权)人：宁波科宁达日丰磁材有限公司宁波科宁达鑫丰精密制造有限公司宁波科宁达和丰新材料有限公司北京中科三环高技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：